41向外運(yùn)動，直到軸端部與保持器銷連接。裝載裝置的末端執(zhí)行器44退回。圖3c表示了底部板7使得除了頂部基板保持器6之外的全部基板保持器與它一起向下運(yùn)動。頂部保持器6通過促動器軸41而保持就位。因此，這時在頂部保持器6和下一個保持器6之間有可用空間，從而能夠裝載下一個基板10。圖3d表示了底部板7向上運(yùn)動，直到頂部保持器6置于它的銷上。然后，促動器軸41退出，底部板7進(jìn)一步向上運(yùn)動再一個保持器的距離。圖3e表示了促動器軸41向外運(yùn)動，直到軸端部與保持器銷45連接。然后，底部板7向下運(yùn)動，從而打開在兩個頂部保持器6和其余的保持器6之間的空間，因此能夠裝載下一個基板。圖3f表示了在全部基板10都裝載和全部促動器軸41都退出時的最終情況，且底部板7向上運(yùn)動，直到反應(yīng)腔室3關(guān)閉。
[0021]圖4a和4b表示了在基板的裝載過程中基板架5由彈簧47保持打開的本發(fā)明實(shí)施例。在該實(shí)施例中，架5側(cè)部稍微傾斜，從而使得基板保持器6能夠豎直運(yùn)動。當(dāng)全部基板都已經(jīng)裝載時，反應(yīng)腔室3通過使得底部板7向上運(yùn)動而關(guān)閉。當(dāng)架的楔形件48到達(dá)輥46時，迫使架關(guān)閉。例如當(dāng)在架側(cè)部和基板保持器之間需要良好導(dǎo)熱時，或者當(dāng)需要在架側(cè)部關(guān)閉/密封保持器銷開口時，能夠使用這種方案。
[0022]圖5a和5b表示了基板保持器6分別支承在架5內(nèi)的實(shí)施例，如更早在圖3a_3f中所示。因此圖5a和5b表示了基板保持器6能夠相對于架5的壁豎直運(yùn)動的架組件的一個實(shí)施例，因此產(chǎn)生用于裝載基板10所需的空間。當(dāng)促動器軸41與銷51連接，且底部板7降低時，促動器將使得基板保持器6.3保持就位，同時其余的架向下運(yùn)動。這樣，在該基板保持器和下面的保持器6.4之間的空間增加，同時至上面的保持器6.2的空間減小。通過狹槽50而能夠進(jìn)行相對運(yùn)動，銷軸55能夠在該狹槽中相對于架的壁運(yùn)動。當(dāng)?shù)撞堪?進(jìn)一步向下運(yùn)動時，墊片49將到達(dá)上面的保持器6.2的墊片處，從而停止保持器6.2的進(jìn)一步運(yùn)動。當(dāng)?shù)撞堪?繼續(xù)向下運(yùn)動時，在保持器6.3和6.4之間的空間將繼續(xù)增加，同時在保持器6.2和6.1之間的空間開始減小。墊片49能夠以多種不同方式來實(shí)現(xiàn)，一種是將墊片添加為基板保持器的部件，在上圖中的部件53。
[0023]圖5a表示了在處理位置中的、完全裝載的基板架5?；?0在基板架5中的布置將通過使它們置于水平位置來布置，這樣，各基板的表面都處于水平平面中?；?0優(yōu)選是布置在連續(xù)的基板保持器6中，這樣，它們形成一批水平布置的基板10。當(dāng)基板架5完全裝載有基板10時，升高裝置使得基板架5運(yùn)動，以使得基板架5完全處于反應(yīng)腔室3內(nèi)部?；寮?布置成當(dāng)它完全處于反應(yīng)腔室3內(nèi)部時關(guān)閉該反應(yīng)腔室3。在該實(shí)施例中，基板架5的底部板7布置成抵靠反應(yīng)腔室3的開口壁的凸緣，用于關(guān)閉反應(yīng)空間30。因此，基板架5 (在該實(shí)施例中，底部板7)布置為當(dāng)反應(yīng)腔室3關(guān)閉時形成反應(yīng)腔室3的至少一部分。而且，反應(yīng)腔室3布置成通過由升高裝置使得基板架5運(yùn)動而關(guān)閉和打開。因此，本發(fā)明能夠組合基板10的裝載和反應(yīng)腔室3的關(guān)閉。
[0024]因此，根據(jù)本發(fā)明，基板可以裝載至包括多個基板保持器6的基板架5中，或者它們可以裝載在一堆基板保持器6上。在兩個實(shí)施例中，基板保持器6都用于支承所述基板，且基板保持器6布置成可彼此相對運(yùn)動。
[0025]本領(lǐng)域技術(shù)人員顯然知道，當(dāng)技術(shù)進(jìn)步時，本發(fā)明概念能夠以多種方式來實(shí)施。本發(fā)明和它的實(shí)施例并不局限于上述實(shí)例，而是可以在權(quán)利要求的范圍內(nèi)變化。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種裝置，用于通過使得基板(10)表面的至少一部分受到至少第一和第二前體的交替表面反應(yīng)而在批量處理中處理兩個或更多個基板(10)，該裝置包括: 多個基板保持器￠)，用于支承所述基板(10);以及 反應(yīng)腔室(3)，該反應(yīng)腔室包括反應(yīng)空間(30)，該反應(yīng)腔室(3)設(shè)置成用于在處理階段中在反應(yīng)空間(30)中的基板(10)的表面上沉積材料，基板保持器(6)安裝或者布置成安裝在反應(yīng)腔室(3)內(nèi)部，用于在處理階段中處理在反應(yīng)腔室(3)內(nèi)部的基板(10)，其特征在于: 在基板(10)通過裝載裝置(9)而裝載至基板保持器(6)上的裝載階段中，至少一些基板保持器(6)布置成可彼此相對運(yùn)動。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于:基板保持器(6)布置在基板架(5)中，用于保持包括兩個或更多基板(10)的一批基板。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于:基板保持器(6)布置成堆。4.根據(jù)前述任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于:裝置還包括促動器，用于使得基板保持器運(yùn)動，這樣，在裝載階段中，進(jìn)行裝載和在它上面有另一基板保持器出)的基板保持器(6)布置在裝載位置，在該裝載位置中，從進(jìn)行裝載的基板保持器(6)至在它上面的基板保持器(6)的距離大于在處理階段中在相同基板保持器(6)之間的距離。5.根據(jù)前述任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于:在裝載階段中，除了進(jìn)行裝載的基板保持器(6)之外的基板保持器(6)布置成通過促動器和/或升高裝置(8)而運(yùn)動至等待位置，在該等待位置中，基板保持器(6)與在處理位置中相比彼此更接近，它們在處理階段中處于該處理位置。6.根據(jù)前述任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于:在裝載階段中，已經(jīng)裝有基板(10)的基板保持器(6)布置成通過促動器和/或升高裝置(8)而運(yùn)動至處理位置，這樣，在連續(xù)的裝載基板保持器(6)之間的距離與在處理階段中相同。7.根據(jù)前述任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于:在裝載階段中，進(jìn)行裝載的基板保持器(6)通過促動器和/或升高裝置(8)而運(yùn)動至裝載位置。8.根據(jù)前述任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于:在裝載階段中，除了進(jìn)行裝載的基板保持器(6)之外的基板保持器(6)將保持就位，而進(jìn)行裝載的基板保持器(6)通過促動器而運(yùn)動至裝載位置。9.根據(jù)前述任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于:基板保持器(6)是用于支承基板(10)的擱架。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于:基板保持器(6)是一對支承凸緣，用于將基板(10)支承在該對支承凸緣之間。11.根據(jù)前述任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于:基板架(5)包括底部板(7)和框架(11)，所述基板保持器(6)布置成與所述框架(11)連接。12.根據(jù)權(quán)利要求4-8中任意一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于:促動器包括穿過底部板(7)布置的銷結(jié)構(gòu)。13.根據(jù)前述任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于:促動器包括穿過反應(yīng)腔室(13)布置的桿結(jié)構(gòu)。14.根據(jù)前述任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于:裝置還包括提升裝置(8)，該提升裝置設(shè)置成用于將裝載的基板架(5)升高至反應(yīng)腔室(3)內(nèi)，這樣，反應(yīng)腔室(3)布置成通過由升高裝置來使得基板架(5)運(yùn)動而關(guān)閉和打開。15.根據(jù)前述任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于:促動器布置成這樣，在處理階段中，促動器的運(yùn)動部件布置在反應(yīng)腔室(3)的外部。16.根據(jù)前述任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于:裝置還包括真空腔室(2)。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種用于通過使得基板(10)表面的至少一部分受到至少第一和第二前體的交替表面反應(yīng)而在批量處理中處理兩個或更多基板(10)的裝置。該裝置包括：多個基板保持器(6)，用于支承所述基板(10)；以及反應(yīng)腔室(3)，該反應(yīng)腔室包括反應(yīng)空間(30)。該反應(yīng)腔室(3)設(shè)置成用于在處理階段中在反應(yīng)空間(30)中的基板(10)的表面上沉積材料。基板保持器(6)安裝或者布置成安裝在反應(yīng)腔室(3)內(nèi)部，用于在處理階段中處理在反應(yīng)腔室(3)內(nèi)部的基板(10)。在基板(10)通過裝載裝置(9)而裝載至基板保持器(6)上的裝載階段中，至少一些基板保持器(6)布置成可彼此相對運(yùn)動。
【IPC分類】H01L21/673, C23C16/455
【公開號】CN105164310
【申請?zhí)枴緾N201480024683
【發(fā)明人】L·凱托
【申請人】Beneq有限公司
【公開日】2015年12月16日
【申請日】2014年2月28日
【公告號】WO2014147290A1