拋光設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種加工設(shè)備，特別涉及一種能提高運(yùn)作可靠性的拋光設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有半導(dǎo)體工藝中，晶圓于制造完成后，會進(jìn)行薄化加工，其包含研磨作業(yè)與拋光作業(yè)，之后才會進(jìn)行切單、封裝等工藝。
[0003]如圖1所示，現(xiàn)有拋光機(jī)1包括:一機(jī)臺本體(圖略)、一設(shè)于該機(jī)臺本體上側(cè)的固定裝置11、一設(shè)于該機(jī)臺本體下側(cè)的拋光裝置12、以及一設(shè)于該固定裝置11的承載裝置13。該固定裝置11包含一真空吸盤111、及一環(huán)繞固定該真空吸盤111的固定架112，且該真空吸盤111凸出該固定架112，以利于吸附該承載裝置13。該承載裝置13包含一結(jié)合于該真空吸盤111上的貼膜130、及供設(shè)置該貼膜130的一鐵環(huán)131。
[0004]于進(jìn)行拋光作業(yè)時，先將一如晶圓的欲拋光件9粘貼于該貼膜130上，再以該真空吸盤111吸附(如圖所示的吸力B)該貼膜130，使該承載裝置13固定于該固定裝置11上，且由于該真空吸盤111凸出該固定架112，使該鐵環(huán)131與該固定架112之間具有間隙t。之后，該拋光裝置12配合漿液(如圖1所示的流入方向F)磨平該欲拋光件9的表面。
[0005]然而，現(xiàn)有拋光機(jī)1于進(jìn)行拋光作業(yè)時，漿液會沿該間隙t滲入該真空吸盤111(如圖1所示的流入方向F’)，且受該真空吸盤111的吸力B吸引而進(jìn)入該真空吸盤111的吸孔中，以致于該漿液會沿該吸孔進(jìn)入該拋光機(jī)1內(nèi)而破壞該拋光機(jī)1的內(nèi)部構(gòu)件，使該拋光機(jī)1的機(jī)構(gòu)受損，且當(dāng)該漿液固化后，會塞住該真空吸盤111的吸孔，使該真空吸盤111無法有效吸附該貼膜130，故修復(fù)該拋光機(jī)1的頻率極高，且更換真空吸盤111的頻率也相當(dāng)高。
[0006]因此，如何克服現(xiàn)有技術(shù)的種種問題，實為一重要課題。
【實用新型內(nèi)容】
[0007]為解決上述現(xiàn)有技術(shù)的問題，本實用新型遂揭露一種拋光設(shè)備，能提高該拋光設(shè)備的運(yùn)作可靠性。
[0008]本實用新型的拋光設(shè)備包括:機(jī)臺本體，其具有相對的第一側(cè)與第二側(cè)、及于該第一側(cè)與第二側(cè)之間形成的一容置空間；具有氣道的固定裝置，其設(shè)于該機(jī)臺本體的第一側(cè)上并位于該容置空間中，且該氣道連通該容置空間；以及拋光裝置，其設(shè)于該機(jī)臺本體的第二側(cè)上并位于該容置空間中。
[0009]在本實用新型的一個實施例中，該固定裝置為吸附裝置、粘貼裝置或卡固裝置。例如，該吸附裝置為真空式吸附裝置或磁力式吸附裝置。
[0010]在本實用新型的一個實施例中，該固定裝置包含相鄰接的作用部及延伸部，該作用部用以固定欲拋光件，且該氣道形成于該延伸部。例如，該作用部相對該延伸部朝該第二側(cè)的方向凸出；或者，該作用部或該延伸部為吸附結(jié)構(gòu)，例如，該作用部為真空式吸附結(jié)構(gòu)，且該延伸部為磁力式吸附結(jié)構(gòu)，抑或該延伸部具有磁性件，且該氣道位于該作用部與該磁性件之間。
[0011]在本實用新型的一個實施例中，還包括用以承載欲拋光件的承載裝置，其結(jié)合于該固定裝置上，且位于該固定裝置與該拋光裝置之間的容置空間中。例如，該承載裝置與部分該固定裝置之間具有間隙；或者，該承載裝置包含用以承載欲拋光件的承載部、及設(shè)于該承載部上的支撐部。
[0012]在本實用新型的一個實施例中，還包括供氣裝置，其連通該氣道，以經(jīng)由該氣道向該容置空間提供氣流。
[0013]由上可知，本實用新型的拋光設(shè)備中，主要通過該氣道提供一氣流而產(chǎn)生一阻擋力，以當(dāng)進(jìn)行拋光作業(yè)時，能阻擋漿液滲入該固定裝置，故相較于現(xiàn)有技術(shù)，本實用新型能確保該固定裝置的吸附能力，且能避免漿液破壞該固定裝置或該機(jī)臺本體的內(nèi)部構(gòu)件，因而能大幅降低更換該固定裝置的頻率，且大幅降低修復(fù)該固定裝置與機(jī)臺本體的頻率，進(jìn)而能提高該拋光設(shè)備的運(yùn)作可靠性。
【附圖說明】
[0014]圖1為現(xiàn)有拋光設(shè)備的剖面示意圖；
[0015]圖2A為本實用新型的拋光設(shè)備的第一實施例的剖面示意圖；其中，圖2B為圖2A的局部上視圖；
[0016]圖2C為圖2A的運(yùn)作狀態(tài)示意圖；
[0017]圖3為本實用新型的拋光設(shè)備的第二實施例的剖面示意圖；以及
[0018]圖4A及圖4C為圖3的其它實施例的局部放大圖；其中，圖4B為圖3的其它實施例的上視圖。
[0019]其中，附圖標(biāo)記說明如下:
[0020]1拋光機(jī)
[0021]11、21、31 固定裝置
[0022]111真空吸盤
[0023]112固定架
[0024]12、22拋光裝置
[0025]13、33 承載裝置
[0026]130貼膜
[0027]131鐵環(huán)
[0028]2、3拋光設(shè)備
[0029]20機(jī)臺本體
[0030]20a第一側(cè)
[0031]20b第二側(cè)
[0032]21a、31a 下表面
[0033]210、310 氣道
[0034]210a端口
[0035]311作用部
[0036]312延伸部
[0037]330承載部
[0038]331支撐部
[0039]40、40，開孔
[0040]41磁性件
[0041]9欲拋光件
[0042]9a外露表面
[0043]A固定區(qū)
[0044]B吸力
[0045]D向下氣流
[0046]F、F’流入方向
[0047]S容置空間
[0048]t、t，間隙。
【具體實施方式】
[0049]以下通過特定的具體實施例說明本實用新型的實施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可由本說明書所公開的內(nèi)容輕易地了解本實用新型的其他優(yōu)點及功效。
[0050]須知，本說明書所附圖式所繪示的結(jié)構(gòu)、比例、大小等，均僅用以配合說明書所公開的內(nèi)容，以供熟悉此技藝的人士的了解與閱讀，并非用以限定本實用新型可實施的限定條件，故不具技術(shù)上的實質(zhì)意義，任何結(jié)構(gòu)的修飾、比例關(guān)系的改變或大小的調(diào)整，在不影響本實用新型所能產(chǎn)生的功效及所能達(dá)成的目的下，均應(yīng)仍落在本實用新型所公開的技術(shù)內(nèi)容得能涵蓋的范圍內(nèi)。同時，本說明書中所引用的如“上”、“第一”、“第二”及“一”等的用語，也僅為便于敘述的明了，而非用以限定本實用新型可實施的范圍，其相對關(guān)系的改變或調(diào)整，在無實質(zhì)變更技術(shù)內(nèi)容下，當(dāng)也視為本實用新型可實施的范疇。
[0051]圖2A為本實用新型的拋光設(shè)備2的第一實施例的剖面示意圖。
[0052]如圖2A所示，該拋光設(shè)備2包括:一機(jī)臺本體20、一固定裝置21以及一拋光裝置22。
[0053]所述的機(jī)臺本體20具有相對的第一側(cè)20a與第二側(cè)20b、及該第一側(cè)20a與第二側(cè)20b間形成的一容置空間S。
[0054]于本實施例中，該第一側(cè)20a為上側(cè)，且該第二側(cè)20b為下側(cè)。此外，圖中為簡化繪示該機(jī)臺本體20，而非表示該機(jī)臺本體20的實際機(jī)構(gòu)。
[0055]所述的固定裝置21設(shè)于該機(jī)臺本體20的第一側(cè)20a上并位于該容置空間S中，且該固定裝置21具有至少一氣道210，其端口 210a朝該第二側(cè)20b并連通該容置空間S，且該拋光設(shè)備2或該機(jī)臺本體20可具有供氣裝置(圖略)，例如供氣栗，其連通該氣道210，以經(jīng)端口 210a向該容置空間S提供氣流。
[0056]于本實施例中，該固定裝置21為吸附裝置，如真空式吸附裝置或磁力式吸附裝置等，但不限于上述。于其它實施例中，該固定裝置21可為粘貼裝置或卡固裝置等，故該固定裝置21的種類繁多，并不限于上述。
[0057]此外，該固定裝置21的下表面21a具有一固定區(qū)A，如吸附區(qū)，以固定至少一欲拋光件9，且該氣道210環(huán)繞于該固定區(qū)A的外圍，如圖2B所示。
[0058]又，該端口 210a作為流體出口，故雖然圖中的氣道210直行貫穿該固定裝置21，但應(yīng)可理解地，該氣道210只需將其端口 210a朝該第二側(cè)20b開設(shè)于該固定裝置2