一種晶片研磨劑混合輸送裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于晶片研磨處理設(shè)備領(lǐng)域，具體涉及一種晶片研磨劑的混合輸送裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]石英晶體是目前世界上用量最大的晶體。利用石英晶體本身的物理特性制作的電子元件水晶頻率片，具有很高的頻率穩(wěn)定性，廣泛用于數(shù)字電路，計(jì)算機(jī)、通訊等領(lǐng)域。它的作用就是在電子線路中作為頻率源或頻率基準(zhǔn)，是一個(gè)壓電元件，能量在電能和機(jī)械能狀態(tài)下每秒轉(zhuǎn)換數(shù)百萬(wàn)次。人造水晶棒經(jīng)過(guò)切割、研磨、腐蝕等工序，加工成各種形狀的晶片，晶片的頻率和厚度成反比，晶片的外觀、尺寸和形狀對(duì)晶片的特性影響很大。石英晶片(半成品)經(jīng)過(guò)焊接電極，安裝支架，封裝外殼等工序加工成成品的電子元件一石英諧振器(簡(jiǎn)稱晶體)。石英晶體諧振器可以產(chǎn)生穩(wěn)定頻率。現(xiàn)有的石英晶體頻率片的制造工藝制造的產(chǎn)品，其厚度研磨時(shí)不容易控制，研磨后的晶體就已經(jīng)決定了晶體的頻率，有些厚度較薄的晶片，難以進(jìn)行調(diào)節(jié)，甚至直接報(bào)廢，大大浪費(fèi)了原材料，導(dǎo)致成本的上升。晶體是由石英晶片、支架、外殼等部分組成的。晶體的種類有49U、49S、UM、SMD (表面貼裝)音叉晶體(表晶)。石英晶片和外圍電路組成石英晶體器件。主要器件有:晶體濾波器、石英晶體振蕩器(ΡΧ0)、溫補(bǔ)晶振(TCXO)、壓控振蕩器、(VCXO)、溫控振蕩器(OCXO)。
[0003]隨著現(xiàn)代社會(huì)的高速發(fā)展，半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展越來(lái)越來(lái)，頻率片市場(chǎng)需求量越來(lái)越旺盛。頻率片的生產(chǎn)工序復(fù)雜繁多，每個(gè)工序都需要進(jìn)行嚴(yán)格控制，由石英切割形成的晶片需要經(jīng)過(guò)多到加工才能成為電子應(yīng)用的晶片，其中研磨工藝最為重要，主要利用研磨劑，在研磨設(shè)備中，對(duì)晶片上下表面進(jìn)行加工。該工序主要通過(guò)設(shè)備使用研磨砂對(duì)頻率片進(jìn)行研磨，在研磨過(guò)程中需要將研磨劑不斷導(dǎo)入設(shè)備，通常是使用導(dǎo)管導(dǎo)入，此過(guò)程中，研磨劑的均勻度以及輸送速率十分關(guān)鍵；目前，一般將研磨劑混合物放入近百升大小的存儲(chǔ)桶中，通過(guò)存儲(chǔ)桶與研磨機(jī)之間的研磨劑輸送管將研磨劑輸送至研磨機(jī)中，然后將研磨后的研磨劑通過(guò)研磨機(jī)與存儲(chǔ)桶之間的研磨機(jī)回收管回收至存儲(chǔ)桶中，可以循環(huán)利用。現(xiàn)有技術(shù)中，研磨劑混合后，一段時(shí)間后，會(huì)由于多組分間的不相容性而產(chǎn)生存儲(chǔ)桶內(nèi)各部分研磨劑不均勻的情況，極大地降低了晶片研磨效果，導(dǎo)致晶片研磨報(bào)廢率高達(dá)3%左右。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實(shí)用新型的目的是提供一種晶片研磨劑混合輸送裝置，結(jié)合有機(jī)無(wú)機(jī)材料混合加工技術(shù)，利用循環(huán)處理的優(yōu)點(diǎn)，使得到達(dá)研磨機(jī)中的研磨劑組成不會(huì)隨著時(shí)間的變化而變化，穩(wěn)定的研磨劑有利于晶片研磨效果的改善。
[0005]為達(dá)到上述實(shí)用新型目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種晶片研磨劑混合輸送裝置，包括依次連接的反應(yīng)釜、保溫過(guò)濾設(shè)備、研磨劑存儲(chǔ)設(shè)備以及研磨劑輸送管;所述反應(yīng)釜包括溫度測(cè)試儀、粘度測(cè)試儀;所述反應(yīng)釜頂部設(shè)有進(jìn)料口，底部設(shè)有出料口 ；所述出料口設(shè)有出料閥門；所述保溫過(guò)濾裝置包括傾斜設(shè)置的中空柱體;所述中空柱體設(shè)有流體進(jìn)口與流體出口 ；所述中空柱體內(nèi)，在流體進(jìn)口與流體出口之間設(shè)置600目的濾網(wǎng)；所述中空柱體外側(cè)壁設(shè)有加熱裝置;所述研磨劑存儲(chǔ)設(shè)備外側(cè)壁設(shè)有振動(dòng)器;所述研磨劑存儲(chǔ)設(shè)備頂部設(shè)有研磨劑入口，側(cè)壁下部設(shè)有研磨劑出口 ；所述研磨劑存儲(chǔ)設(shè)備的體積為5?6升;所述反應(yīng)Il的出料口與中空柱體的流體進(jìn)口連接;所述中空柱體的流體出口與研磨劑存儲(chǔ)設(shè)備的研磨劑入口連接;所述研磨劑存儲(chǔ)設(shè)備的研磨劑出口與研磨劑輸送管連接。
[0006]上述技術(shù)方案中，加熱裝置為柔性加熱器，位于中空柱體外側(cè)，可用溫控控制。這個(gè)創(chuàng)造性的設(shè)計(jì)使得研磨劑在過(guò)濾時(shí)粘度適中，不會(huì)因?yàn)榈蜏亓鲃?dòng)性差、堵塞網(wǎng)孔、降低過(guò)濾效率與精度，同時(shí)還會(huì)使得體系保持一定的反應(yīng)活性。
[0007]本實(shí)用新型中，中空柱體傾斜是相對(duì)于正常的水平或者垂直狀態(tài)，指使用時(shí)，中空柱體非垂直亦非水平，其與水平面有一定角度，柱體優(yōu)選為圓柱體或者方柱體，兩端封閉，內(nèi)設(shè)空腔，空腔用于研磨劑流動(dòng)與過(guò)濾。流體進(jìn)口與流體出口設(shè)置在側(cè)壁上，根據(jù)研磨劑流動(dòng)路徑，流體進(jìn)口在上，流體出口在下。傾斜設(shè)置一方面緩沖研磨劑流動(dòng)動(dòng)力，增加過(guò)濾效果，還可以使得研磨劑受熱均勻穩(wěn)定。傾斜的角度、流體進(jìn)口與流體出口的高度差、流體進(jìn)口與流體出口之間的距離不做限定，本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)研磨劑的配方粘度、車間大小、垂直高度自行選擇。
[0008]晶片研磨劑中有機(jī)物體系與無(wú)機(jī)體系復(fù)雜，具有一定的黏度，需要合理混合才能使不同組分相容性好，保證晶片的研磨效果;而且無(wú)機(jī)材料易產(chǎn)生集聚效應(yīng)，產(chǎn)生較大的顆粒，對(duì)晶片研磨十分不利。本實(shí)用新型公開(kāi)的中空柱體介于反應(yīng)釜與研磨劑存儲(chǔ)設(shè)備之間，利用其內(nèi)部的濾網(wǎng)，有效過(guò)濾研磨劑中的大顆粒物質(zhì)，保證輸送至研磨機(jī)內(nèi)的研磨劑中顆粒均勻，大小符合要求。優(yōu)選濾網(wǎng)的可拆卸的安裝在中空柱體內(nèi)部，有利于濾網(wǎng)循環(huán)使用。具體濾網(wǎng)是否與中空柱體內(nèi)壁都接觸以及濾網(wǎng)是否傾斜等，本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)中空柱體的安裝方式、研磨劑的流動(dòng)方式以及流體進(jìn)口與流體出口之間的距離自行選擇，只要使得從反應(yīng)釜流入中空柱體的研磨劑可以經(jīng)過(guò)濾網(wǎng)過(guò)濾后從中空柱體流出，流至研磨劑存儲(chǔ)設(shè)備即可；比如可以將濾網(wǎng)水平放置，一端位于流體進(jìn)口處下方，另一端位于流體出口處上方。
[0009]上述技術(shù)方案中，研磨劑存儲(chǔ)設(shè)備為圓柱形結(jié)構(gòu)或方柱型結(jié)構(gòu);規(guī)則形狀美觀、易做，主要不會(huì)造成研磨劑存放死角。在研磨劑存儲(chǔ)設(shè)備外側(cè)壁設(shè)置振動(dòng)器，進(jìn)一步保證研磨劑在輸送至研磨機(jī)之前，各組分混合的均勻性。研磨劑存儲(chǔ)設(shè)備通過(guò)研磨劑入口接收來(lái)自于保溫過(guò)濾設(shè)備的過(guò)濾后的研磨劑，再通過(guò)研磨劑出口，利用研磨劑輸送管將研磨劑輸送至研磨機(jī)內(nèi)，用于晶片研磨工藝。研磨劑存儲(chǔ)設(shè)有的研磨劑入口以及研磨劑出口的位置根據(jù)車間布局設(shè)計(jì)，不會(huì)對(duì)研磨效果產(chǎn)生影響。
[0010]由于上述技術(shù)方案運(yùn)用，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具