本發(fā)明屬于精細(xì)化工材料領(lǐng)域，具體涉及一種高徑厚比云母粉的制備方法。

背景技術(shù)：

目前，高徑厚比云母粉的制備方法有很多，其中比較普遍使用的一種制備方法是：先用氫氧化鈉對(duì)云母粉進(jìn)行插層膨脹處理，然后再進(jìn)行剝離和研磨處理。但是該方法存在很多的弊端，例如，在采用氫氧化鈉對(duì)云母粉進(jìn)行插層膨脹處理的過程中，需要進(jìn)行加熱和超聲波處理，這種工藝方法的技術(shù)難度大、成本高。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供一種高徑厚比云母粉的制備方法，該方法解決了采用氫氧化鈉對(duì)云母粉進(jìn)行插層膨脹處理的過程中，需要進(jìn)行加熱和超聲波處理，工藝技術(shù)難度大、成本高的問題。

為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是：

它包括以下步驟：

A．將原料云母粉與水按固液比為1:3～5進(jìn)行配漿，制得云母粉漿液；

B．向云母粉漿液中加入尿素過飽和溶液，制得云母粉插層液；其中，所述尿素過飽和溶液是由質(zhì)量不小于原料云母粉干重的尿素與水制成的過飽和溶液；

C．將云母粉插層液加水稀釋至固液比為18～25:100，制得云母粉插層稀釋液；

D．將云母粉插層稀釋液放入膠體磨中進(jìn)行剝離和研磨處理。

上述技術(shù)方案中，更具體的技術(shù)方案還可以是：B步驟中，在加入尿素過飽和溶液后，攪拌均勻，靜置3天～5天。

更進(jìn)一步的，所述膠體磨的磨定子與轉(zhuǎn)子之間的間隙調(diào)節(jié)至最小，變頻器頻率調(diào)節(jié)至50Hz。

由于采用上述技術(shù)方案，本發(fā)明得到的有益效果是：

1.本發(fā)明通過采用尿素作為插層劑，使得在對(duì)原料云母粉進(jìn)行插層處理的過程中，無需進(jìn)行加熱和超聲處理，從而降低技術(shù)難度和生產(chǎn)成本。

2．本發(fā)明通過將膠體磨的磨定子與轉(zhuǎn)子之間的間隙調(diào)節(jié)至最小，以及將變頻器輸出頻率調(diào)節(jié)至50Hz，提高膠體磨內(nèi)物料之間的雷諾系數(shù)，從而提高其剝離效果。

具體實(shí)施方式

為了更好的說明本發(fā)明，以下結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳述，而本發(fā)明的保護(hù)范圍并非僅僅局限于以下實(shí)施例。

實(shí)施例1——高徑厚比云母粉的制備方法

它包括以下步驟：

A、將粒度分布為d₉₀=61.84μm 、d₅₀=31.98μm 、d₁₀=16.54μm、比表面積為0.083的原料云母粉用水按固液比1:3配漿，攪拌均勻，制得云母粉漿液；

B、稱取與該原料云母粉干重相同的尿素，并用水按固液比1:1制備過飽和溶液，制得尿素過飽和溶液；

C、將尿素過飽和溶液倒入云母粉漿液中，攪拌均勻，然后靜置3天，完成插層處理，制得云母粉插層液；

D、將云母粉插層液用水稀釋到固體顆粒濃度為18g/100ml，制得云母粉插層稀釋液；

E、用清水清洗膠體磨，并將膠體磨定子與轉(zhuǎn)子之間的間隙調(diào)到最小，然后開機(jī)，并調(diào)節(jié)變頻器輸出頻率為50Hz；

F、將制得的云母粉插層稀釋液盡量以與膠體磨進(jìn)料口中心保持豎直的狀態(tài)倒入上述膠體磨進(jìn)料口反復(fù)進(jìn)行剝片、破碎和磨圓棱角；同時(shí)對(duì)膠體磨內(nèi)的物料進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)取樣，并用馬爾文激光粒度儀檢測(cè)；

G、當(dāng)所述膠體磨內(nèi)的物料的粒度分布為d₉₀=60.51μm 、d₅₀=31.51μm 、d₁₀=16.07μm、比表面積為0.0887時(shí)，關(guān)停所述膠體磨。

實(shí)施例2

A、將粒度分布為d₉₀=62.07μm 、d₅₀=32.06μm 、d₁₀=16.47μm、比表面積為0.084的原料云母粉用水按固液比1:5配漿，攪拌均勻，制得云母粉漿液；

B、稱取該原料云母粉干重1.5倍的尿素，并用水按固液比1:1制備過飽和溶液，制得尿素過飽和溶液；

C、將尿素過飽和溶液倒入云母粉漿液中，攪拌均勻，然后靜置5天，完成插層處理，制得云母粉插層液；

D、將云母粉插層液用水稀釋到固體顆粒濃度為25g/100ml，制得云母粉插層稀釋液；

E、用清水清洗膠體磨，并將膠體磨定子與轉(zhuǎn)子之間的間隙調(diào)到最小，然后開機(jī)，并調(diào)節(jié)變頻器輸出頻率為50Hz；

F、將制得的云母粉插層稀釋液盡量以與膠體磨進(jìn)料口中心保持豎直的狀態(tài)倒入上述膠體磨進(jìn)料口反復(fù)進(jìn)行剝片、破碎和磨圓棱角；同時(shí)對(duì)膠體磨內(nèi)的物料進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)取樣，并用馬爾文激光粒度儀檢測(cè)；

G、當(dāng)所述膠體磨內(nèi)的物料的粒度分布為d₉₀=60.32μm 、d₅₀=31.51μm 、d₁₀=16.11μm、比表面積為0.089時(shí)，關(guān)停所述膠體磨。