本發(fā)明涉及生化設備領域，更具體地說，本發(fā)明涉及一種多通道測序反應小室及多通道測序反應裝置。

背景技術：

基因測序技術近年來發(fā)展非常迅猛。與第一代測序技術“毛細管電泳測序”不同，當前的基因測序技術是通過基因測序儀來檢測核酸，通過數據處理得到核酸序列。而在基因測序儀中包含一個重要設備-- 測序反應小室。

測序反應小室用于進行測序反應。在現有技術的基因測序儀中，測序反應小室具有一個中間寬、兩端窄的反應通道，在進行測序時，首先將處理好的待測樣品固定在測序反應小室內，然后注入測序反應試劑，該試劑通過反應通道流經測序反應小室，與待測樣品發(fā)生測序反應。在測序反應結束后，通過信號采集裝置采集測序信號，通過后期的數據處理從而得到基因序列。

由于基因測序是在納米數量級的操作，對于儀器加工精度及各種生化材料的制備精度要求都非常高，對生化反應的溫度、試劑劑量、時間控制等的要求也非常嚴格。而正是由于上述限制，在現有技術的基因測序儀中，所設計的測序反應小室為單個通道。當需要對多個待測樣品進行測序時，只能分別進行多次測序反應，這使得對多樣品測序的效率非常低。

鑒于單個通道的測序反應小室對多樣品測序效率低，因此設計出多通道的測序反應小室?，F有技術中的多通道測序反應小室，具有多個反應通道，可同時在多個反應通道內同時進行測序反應。由于每一個反應通道均需要通入試劑，因此每一個反應腔單獨具有試劑進口和試劑出口，并且在試劑進口和試劑出口上連接有管道，供試劑的進入和流出?，F有技術中的多通道測序反應小室的結構非常繁瑣與復雜，并且在清洗時需要將多根管道進行拆卸，非常的不方便，在拆卸與組裝過程中還容易出現密封不良，造成測序反應過程中出現漏液的情況。

因此需要一種新的多通道測序反應小室及度通道測序反應裝置，能夠簡化多通道測序反應小室的結構，方便測序反應小室的拆卸與清洗。

技術實現要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種多通道測序反應小室，旨在解決現有技術中測序反應小室結構復雜、不便于進行拆卸和清洗的問題。

為了實現發(fā)明目的，多通道測序反應小室包括：包括相貼合的第一玻片和第二玻片，所述第一玻片用于與第二玻片形成多條中空的反應通道，所述反應通道的兩端分別設有用于容納試劑的試劑緩沖區(qū)，所述第一玻片或第二玻片上設置有與試劑緩沖區(qū)連通的試劑入口，所述第一玻片或第二玻片上還設置有與試劑緩沖區(qū)連通的試劑出口。

其中，所述第一玻片位于第二玻片上方，所述反應通道和試劑緩沖區(qū)均設置在第一玻片的下表面，所述試劑入口為設置于第一玻片或第二玻片上的通孔，所述試劑出口為設置于第一玻片或第二玻片上的通孔。

其中，所述第一玻片位于第二玻片上方，所述反應通道和試劑緩沖區(qū)均設置在第二玻片的上表面，所述試劑入口為設置于第一玻片或第二玻片上的通孔，所述試劑出口為設置于第一玻片或第二玻片上的通孔。

其中，所述第一玻片位于第二玻片上方，所述第一玻片的下表面設置有多個長條形的凹槽，第二玻片貼合在第一玻片下表面上后，與所述的長條形凹槽構成了中空的反應通道；所述試劑緩沖區(qū)設置在第一玻片的下表面和第二玻片的上表面，且設置于第一玻片上的試劑緩沖區(qū)的形狀與設置于第二玻片上的試劑緩沖區(qū)的形狀相同，當第一玻片貼合在第二玻片上時，設置于第一玻片上的試劑緩沖區(qū)與設置于第二玻片上的試劑緩沖區(qū)相吻合。

其中，所述第一玻片位于第二玻片上方，所述第一玻片的下表面和第二玻片的上表面設置有相吻合的多個長條形凹槽，第一玻片和第二玻片相貼合后，相吻合的長條形凹槽構成了中空的反應通道；試劑緩沖區(qū)設置在第一玻片的下表面和第二玻片的上表面，且設置于第一玻片上的試劑緩沖區(qū)的形狀與設置于第二玻片上的試劑緩沖區(qū)的形狀相同，當所述的第一玻片貼合在第二玻片上時，設置于第一玻片上的試劑緩沖區(qū)與設置于第二玻片上的試劑緩沖區(qū)相吻合。

其中，所述試劑入口和試劑出口的形狀與試劑緩沖區(qū)的形狀相同。

其中，所述第一玻片由蓋玻片和導液片緊密貼合而成，所述第二玻片為載玻片，所述導液片位于蓋玻片與載玻片之間，所述導液片上設置有長條形的通孔，所述反應通道由蓋玻片、長條形的通孔以及載玻片圍合而成；或者

所述第一玻片為蓋玻片，所述第二玻片由導液片和載玻片緊密貼合而成，所述導液片上設置有長條形的通孔，所述反應通道由蓋玻片、長條形的通孔以及載玻片圍合而成。

進一步的，所述試劑緩沖區(qū)為設置在導液片上的通孔或為設置在蓋玻片上的通孔。

進一步的，所述試劑緩沖區(qū)呈半圓形，試劑緩沖區(qū)具有圓弧邊與直線邊，且所述緩沖區(qū)的直線邊位于靠近所述反應通道的一側。

進一步的，所述試劑緩沖區(qū)呈三角形。

另外，本發(fā)明還提出了一種具有上述的多通道測序反應小室的多通道測序反應裝置，它由多通道測序反應小室、小室上部組件和小室下部組件構成，其中：

所述小室上部組件包括進液通道和出液通道；

所述小室下部組件包括小室上蓋和小室底座，所述小室底座用于放置所述的多通道測序反應小室，所述小室上蓋安裝在小室底座上；

所述小室上部組件用于安裝在小室下部組件上，且所述小室上部組件的進液通道與所述多通道測序反應小室的試劑入口連通，所述小室上部組件的出液通道與所述多通道測序反應小室的試劑出口連通。

其中，所述小室上部組件還包括底板、隔熱板、制冷片、導熱板以及溫度傳感器；其中

所述隔熱板固定在底板的下方，所述隔熱板的中部具有通孔，所述制冷片設置于隔熱板的通孔內，且所述制冷片的上表面與底板的下表面相接觸；

所述導熱板固定在制冷片的下方，導熱板的上表面與制冷片的下表面相接觸，當小室上部組件安裝在小室下部組件上時，所述導熱板的下表面與多通道測序反應小室相接觸；

所述溫度傳感器用于檢測所述的多通道測序反應小室的溫度；

所述進液通道和出液通道分別為貫穿于所述底板、隔熱板和導熱板的通孔。

進一步的，所述小室上蓋的中部具有通孔，所述小室上部組件安裝在小室下部組件上時，所述小室上部組件的隔熱板和導熱板伸入小室上蓋的通孔內，所述導熱板緊貼于多通道測序反應小室上，且所述進液通道與多通道測序反應小室的試劑入口連通，所述出液通道與多通道測序反應小室的試劑出口連通。

進一步的，所述小室上部組件還包括頂板和散熱板，所述頂板設置在底板上方，所述散熱板位于頂板與底板之間并固定于所述底板上，所述散熱板具有若干個散熱鰭片。

進一步的，所述底板和隔熱板通過螺釘連接，所述螺釘中間設置有鋼管，該鋼管即為進液通道和出液通道。

進一步的，所述導熱板上還設置有密封膠墊，且密封膠墊設置于進液通道的出口處和出液通道的入口處，所述小室上部組件安裝在小室下部組件上時，所述密封膠墊緊貼于多通道測序反應小室上。

其中，所述小室上蓋的下方彈性連接有壓塊，所述壓塊壓在多通道測序反應小室上。

其中，所述小室上蓋上設置有卡扣，所述卡扣用于卡在所述的小室底座上。

進一步的，所述小室上部組件上設置有通孔，該通孔用于拍攝明場圖，用于看清楚小室中的磁珠分布是否均勻。

由上可知，本發(fā)明通過試劑緩沖區(qū)的設計，簡化了多通道測序反應小室的結構，便于對多通道測序反應小室的內部進行清洗，非常的方便，降低了在拆卸與組裝過程中出現的密封不良而造成測序反應過程中出現漏液的情況；在實際使用過程中可多次重復使用，相對于現有技術中一次性使用的反應腔，大大降低了設備的成本。

附圖說明

圖1、圖2為本發(fā)明一個示例的多通道測序反應小室中關于反應通道的結構示意圖。

圖3、圖4為本發(fā)明另一個示例的多通道測序反應小室中關于反應通道的結構示意圖。

圖5為本發(fā)明另一個示例的多通道測序反應小室中關于反應通道的結構示意圖。

圖6a為本發(fā)明另一個示例的多通道測序反應小室中關于反應通道的結構示意圖。

圖6b為本發(fā)明另一個示例的多通道測序反應小室中關于反應通道的結構示意圖。

圖7為本發(fā)明一個示例的多通道測序反應小室中關于試劑緩沖區(qū)的結構示意圖；

圖8為本發(fā)明另一個示例的多通道測序反應小室中關于試劑緩沖區(qū)的結構示意圖。

圖9為本發(fā)明另一個示例的多通道測序反應小室中關于試劑緩沖區(qū)的結構示意圖。

圖10a、圖10b為本發(fā)明另一個示例的多通道測序反應小室中關于試劑緩沖區(qū)的結構示意圖。

圖11a、圖11b為本發(fā)明一個示例的多通道測序反應小室中關于試劑緩沖區(qū)形狀的兩種結構示意圖。

圖12a、圖12b、圖12c為本發(fā)明的多通道測序反應小室中關于試劑入口和試劑出口的三種示例圖。

圖13a為本發(fā)明一個示例的多通道測序反應小室中關于試劑入口和試劑出口的結構示意圖。

圖13b為本發(fā)明另一個示例的多通道測序反應小室中關于試劑入口和試劑出口的結構示意圖。

圖14為本發(fā)明一個示例的多通道測序反應裝置的結構示意圖。

圖15為本發(fā)明另一個示例的多通道測序反應裝置中小室上部組件的縱截面結構示意圖。

圖16為本發(fā)明另一個示例的多通道測序反應裝置的縱截面結構示意圖。

圖17為本發(fā)明另一個示例的多通道測序反應裝置的縱截面結構示意圖。

具體實施方式

為了使本發(fā)明的目的、技術方案及優(yōu)點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本發(fā)明進行進一步詳細說明。

本發(fā)明提出第一實施例，本實施例提出了一種多通道測序反應小室，該多通道測序反應小室使得多個樣品同時進行測序反應，實現了多通道測序反應小室平行測序。所述多通道測序反應小室包括相貼合的第一玻片和第二玻片，所述第一玻片用于與第二玻片形成多條中空的反應通道，所述反應通道的兩端分別設有用于容納試劑的試劑緩沖區(qū)，所述第一玻片或第二玻片上設置有與試劑緩沖區(qū)連通的試劑入口，所述第一玻片或第二玻片上還設置有與試劑緩沖區(qū)連通的試劑出口。

本實施例中，所述的試劑入口與供應試劑的管道連通，試劑出口與排除試劑的管道連通。將多個待測樣品固定于位于第一玻片和第二玻片之間的反應通道的內壁上，通過供應試劑的管道往多通道測序反應小室內通入試劑，在試劑進入反應通道前，試劑首先會進入位于反應通道一端的試劑緩沖區(qū)中，將試劑緩沖區(qū)填充后，試劑再同時進入多個通中空的反應通道中，與多個反應通道中待測樣品同時發(fā)生測序反應，克服了傳統(tǒng)的測序反應小室內只能單個樣品進行測序，效率比較低下的問題；此后試劑則流出并進入反應通道另一端的試劑緩沖區(qū)中，試劑在該試劑緩沖區(qū)匯集后，從排出試劑的管道中排出。由于試劑緩沖區(qū)的存在，試劑緩沖區(qū)均能夠存儲一定量的試劑，在試劑通入反應通道前會流入試劑緩沖區(qū)內，試劑緩沖區(qū)有利于均勻的排出個反應通道中的空氣，試劑進入反應通道時內部壓力一至，試劑能夠均勻的通過各個反應通道，因此保證了每一個反應通道流速的均勻性以及擴散性的均勻一致。

現有技術中的具有多個通道的測序反應小室，由于具有多個反應通道，每一個反應通道的入口和出口均需要接入管道，供試劑的進入和流出；這種結構的測序反應小室的結構非常繁瑣與復雜，在對測序反應小室進行清洗時，需要將多根管道進行拆卸，非常的不方便，在拆卸與組裝過程中還容易出現密封不良，造成測序反應過程中出現漏液的情況。而本實施例中的多通道測序反應小室，由于試劑緩沖區(qū)的設置，只需要一根管道接入試劑緩沖區(qū)，就可以完成多個通道的測序反應，簡化了多通道測序反應小室的結構；另外，在需要對測序反應小室進行拆卸清洗時，只需要拆卸一根與試劑入口連通的進液的管道和一根與試劑出口連通的出液的管道，就可以對測序反應小室的內部進行清洗，非常的方便，降低了在拆卸與組裝過程中出現的密封不良而造成測序反應過程中出現漏液的情況。在實際使用過程中可多次重復使用，相對于現有技術中一次性使用的反應腔，本發(fā)明大大降低了設備的成本。

下面針對多通道測序反應小室的各個部件進行詳細的說明。

（一）關于多通道測序反應小室的反應通道。

對于多通道測序反應小室的反應通道，本發(fā)明提出了一示例，如圖1、圖2所示，所述多通道測序反應小室包括相貼合的第一玻片10和第二玻片20，圖1為第一玻片10和第二玻片20的截面示意圖，圖2為第一玻片10的立體結構示意圖，所述第一玻片10位于第二玻片20上方，所述第一玻片10用于與第二玻片20形成多條中空的反應通道101，且所述反應通道101的兩端分別設有用于容納試劑的試劑緩沖區(qū)102，本示例中，所述反應通道101和試劑緩沖區(qū)102均設置在第一玻片10的下表面，具體的，所述第一玻片10的底面上設置有長條形的凹槽，第二玻片20蓋在第一玻片10上后與長條形的凹槽形成密閉的中空結構的反應通道101，試劑緩沖區(qū)102設置在第一玻片10的下表面。另外，所述第一玻片10上設置有與試劑緩沖區(qū)102分別連通的試劑入口103和試劑出口104，在本示例中，所述試劑入口103和試劑出口104均為設置在第一玻片10上的通孔。

如圖1所示，在所述反應通道101中，反應通道101的內壁用于固定多個待測樣品，反應通道101的數量可根據需要進行設定，例如可以是六通道的測序反應小室，也可以是八通道的測序反應小室，圖2中所示的即為六通道測序反應小室的第一玻片10。在本示例中，試劑入口103與供應試劑的管道連通，試劑出口104與排出試劑的管道連通，考慮到試劑的流動，在進行測序反應前，優(yōu)選將測序反應小室豎直放置，并且試劑入口103位于下方。在進行測序反應時，通過試劑入口103注入的試劑首先進入位于試劑入口103處的試劑緩沖區(qū)102，持續(xù)注入試劑后，試劑充滿了試劑入口103處的試劑緩沖區(qū)102后，才會同時進入六個反應通道101中，分別與固定于反應通道101中的待測樣品進行測序反應，然后流出并進入位于試劑出口102處的試劑緩沖區(qū)102中，試劑在該試劑緩沖區(qū)102匯集后，從排出試劑的管道中排出，持續(xù)注入試劑，試劑則不斷的從反應通道101中流過，與待測樣品發(fā)生測序反應。由于試劑緩沖區(qū)102的存在，在試劑通入反應通道101前，或者從反應通道101流出后，試劑緩沖區(qū)102均能夠存儲一定量的試劑，保證了每一個反應通道101流速的均勻性以及擴散性的均勻一致。本發(fā)明簡化了多通道測序反應小室的結構，在需要對測序反應小室進行拆卸清洗時，只需要拆卸一根與試劑入口103連通的進液的管道和一根與試劑出口104連通的出液的管道，將第一玻片10與第二玻片20分離后，就可以對測序反應小室的的反應通道101、試劑緩沖區(qū)102、試劑入口103以及試劑出口104進行清洗，非常的方便，同時降低了在拆卸與組裝過程中出現的密封不良而造成測序反應過程中出現漏液的情況。在進行第一玻片和第二玻片的安裝時，由于試劑入口、試劑出口、反應通道和試劑緩沖區(qū)均設置在第一玻片上，因此安裝非常的便利。

如圖3、圖4所示，對于多通道測序反應小室的反應通道，本發(fā)明還提出了一示例，所述的多通道測序反應小室包括相貼合的第一玻片10和第二玻片20，圖3為第一玻片10和第二玻片20的截面示意圖，圖4為第一玻片10和第二玻片20的立體結構示意圖，所述第一玻片10位于第二玻片20上方，所述第一玻片10用于與第二玻片20形成多條中空的反應通道101，且所述反應通道101的兩端分別設有用于容納試劑的試劑緩沖區(qū)102。具體的，在本示例中，所述第二玻片20的上表面具有多個長條形的凹槽，當第一玻片10貼合在第二玻片20上時，長條形的凹槽與第一玻片10圍合構成中空的反應通道101，并且反應通道101的兩端與試劑緩沖區(qū)102連通，試劑緩沖區(qū)102設置在第一玻片10的下表面。另外，所述第一玻片10上設置有與試劑緩沖區(qū)102分別連通的試劑入口103和試劑出口104，并且所述試劑入口103和試劑出口104均為設置在第一玻片10上的通孔。

中空結構的反應通道101的內壁用于固定多個待測樣品，試劑入口103與供應試劑的管道連通，試劑出口104與排出試劑的管道連通。在進行測序反應前，將測序反應小室豎直放置，并且試劑入口103位于下方。在進行測序反應時，通過試劑入口103注入的試劑首先進入位于試劑入口處的試劑緩沖區(qū)102，持續(xù)注入試劑后，試劑充滿了試劑入口處的試劑緩沖區(qū)102后，才會同時進入多個反應通道101中，然后流出并進入位于試劑出口104處的試劑緩沖區(qū)102中，試劑在該試劑緩沖區(qū)102匯集后，從排出試劑的管道中排出，由于試劑緩沖區(qū)102的存在，在試劑通入反應通道101前，或者從反應通道101流出后，試劑緩沖區(qū)102均能夠存儲一定量的試劑，因此保證了每一個反應通道101流速的均勻性以及擴散性的均勻一致。本發(fā)明簡化了多通道測序反應小室的結構，在需要對測序反應小室進行拆卸清洗時非常的方便，同時降低了在拆卸與組裝過程中出現的密封不良而造成測序反應過程中出現漏液的情況。本示例中，由于試劑緩沖區(qū)102設置在第一玻片10的下表面，多個長條形凹槽設置在第二玻片20上，相對于在同一玻片上加工出不同結構的試劑緩沖區(qū)和反應通道，本方案降低了加工難度。

對于多通道測序反應小室的反應通道，如圖5所示，本發(fā)明還提出了一示例，所述多通道測序反應小室包括相貼合的第一玻片10和第二玻片20，圖5為第一玻片10和第二玻片20的截面示意圖，第一玻片10位于第二玻片20上方，第一玻片10用于與第二玻片20形成多條中空的反應通道101，且所述反應通道101的兩端分別設有用于容納試劑的試劑緩沖區(qū)102。具體的，在本示例中，所述第一玻片10的下表面和第二玻片20的上表面均設置有長條形的凹槽，在第一玻片10和第二玻片20相貼合后，第一玻片10上長條形的凹槽與第二玻片20上的長條形凹槽相適配，構成了中空反應通道101，所述試劑緩沖區(qū)102設置于第一玻片的下表面，反應通道與試劑緩沖區(qū)102連通。當所述的第一玻片10貼合在第二玻片20上時，采用密封處理，防止出現漏液。進一步的，第一玻片10上設置有與試劑緩沖區(qū)分別連通的試劑入口103和試劑出口104，并且試劑入口103和試劑出口104均為設置在第一玻片10上的通孔。在進行測序反應時，通過試劑入口103注入的試劑首先進入位于試劑入口103處的試劑緩沖區(qū)102，持續(xù)注入試劑后，試劑充滿了試劑入口103處的試劑緩沖區(qū)102后，才會同時進入多個反應通道101中，與待測樣品進行測序反應，實現多個樣品的同時測序反應。本發(fā)明簡化了多通道測序反應小室的結構，在需要對測序反應小室進行拆卸清洗時非常的方便。

對于多通道測序反應小室的反應通道101，如圖6a所示，本發(fā)明還提出了一示例，所述多通道測序反應小室使得多個樣品同時進行測序反應，實現了多通道測序反應小室平行測序。多通道測序反應小室包括相貼合的第一玻片10和第二玻片20，所述第一玻片10用于與第二玻片20形成多條中空的反應通道101，所述反應通道101的兩端分別設有用于容納試劑的試劑緩沖區(qū)102，所述第一玻片10上設置有與試劑緩沖區(qū)102分別連通的試劑入口103和試劑出口104，在示例中，如圖8所示，所述第一玻片10由蓋玻片30和導液片40緊密貼合而成，所述第二玻片20為載玻片50，所述導液片40位于蓋玻片30與載玻片50之間；所述導液片40上設置有長條形的通孔，當蓋玻片30和載玻片50分別貼合在導液片的上下表面時，與長條形的通孔圍合構成所述的反應通道101；所述導液片40上設置有通孔，當蓋玻片30和載玻片50分別貼合在導液片的上下表面時，與所述通孔圍合構成了試劑緩沖區(qū)102。在進行測序反應前，將本實施例中的多通道測序反應小室豎直安放在測序裝置上，試劑入口103與通入試劑的管道連通，試劑出口104與流出試劑的管道連通，將多個待測樣品固定于導液片的反應通道101的內壁上，在試劑進入反應通道101前，試劑首先會進入位于反應通道101一端的試劑緩沖區(qū)102中，將試劑緩沖區(qū)102填充后，試劑才會同時進入導液片40的反應通道101中，與多個反應通道101中待測樣品同時發(fā)生測序反應，克服了傳統(tǒng)的測序反應小室內只能單個樣品進行測序，效率比較低下的問題。此后試劑流出并進入反應通道另一端的試劑緩沖區(qū)102中，試劑在該試劑緩沖區(qū)102匯集后，從排出試劑的管道中排出。由于試劑緩沖區(qū)102的存在，試劑緩沖區(qū)102均能夠存儲一定量的試劑，在試劑通入反應通道前會流入試劑緩沖區(qū)102內，試劑緩沖區(qū)102有利于均勻的排出個反應通道101中的空氣，試劑進入反應通道時內部壓力一直，試劑能夠均勻的通過各個反應通道，因此保證了每一個反應通道101流速的均勻性以及擴散性的均勻一致。本發(fā)明的多通道測序反應小室與現有技術中的測序反應小室相比較，簡化了多通道測序反應小室的結構；在需要對測序反應小室進行拆卸清洗時，只需將連入試劑入口103和試劑出口104的管道拆卸，將蓋玻片30、導液片40和載玻片50分離后，就可以對測序反應小室的內部進行清洗，非常的方便，由于只需要拆卸一根通入試劑的管道和一根流出試劑的管道，相比需要拆卸多根管道的測序反應小室，降低了在拆卸與組裝過程中出現的密封不良而造成測序反應過程中出現漏液的情況。

如圖6b所示，對于多通道測序反應小室，本發(fā)明還提出了一示例，所述多通道測序反應小室包括相貼合的第一玻片10和第二玻片20，所述第一玻片10用于與第二玻片20形成多條中空的反應通道101，所述反應通道101的兩端分別設有用于容納試劑的試劑緩沖區(qū)102，所述第一玻片10上設置有與試劑緩沖區(qū)102分別連通的試劑入口103和試劑出口104，在本示例中，所述第一玻片10為蓋玻片30，所述第二玻片20由導液片40和載玻片50緊密貼合而成，所述導液片40位于蓋玻片30與載玻片50之間；所述導液片40上設置有長條形的通孔，當蓋玻片30和載玻片50分別貼合在導液片的上下表面時，與長條形的通孔圍合構成所述的反應通道101；導液片40上還設置有通孔，當蓋玻片30和載玻片50分別貼合在導液片的上下表面時，與所述通孔圍合構成了試劑緩沖區(qū)102。在進行測序反應前，將多通道測序反應小室豎直安放在測序裝置上，試劑入口103與通入試劑的管道連通，試劑出口104與流出試劑的管道連通，將多個待測樣品固定于導液片40的反應通道101的內壁上，在試劑進入反應通道101前，試劑首先會進入位于反應通道101一端的試劑緩沖區(qū)102中，將試劑緩沖區(qū)102填充后，試劑才會同時進入導液片40的反應通道101中，與多個反應通道101中待測樣品同時發(fā)生測序反應。在圖6a、圖6b所述的示例中，導液片40上均設置有長條形的通孔，并且通過蓋玻片30和載玻片50貼合在導液片40上，與長條形的通孔圍合構成反應通道101。但需要說明的是，在所述的導液片40的上表面或者下表面上，可以設置有多個長條形的凹槽，當導液片40的上表面設置長條形的凹槽時，蓋玻片30貼合在導液片上，與長條形的凹槽構成了中空的反應通道，到導液片的下表面設置長條形的凹槽時，載玻片貼合在導液片上，與長條形的凹槽構成了中空的反應通道。

在上述的任意方案中，反應通道101的數量可以根據需要進行測序反應的待測樣品的數量進行調整，上述的示例中反應小室均具有六個反應通道。所述反應通道101的結構無具體限制，反應通道101的橫截面可以為半圓形或方形或者其他形狀，但需要說明的是，一般的，待測樣品需要固定在平整面上，便于測序反應的進行以及測序反應后對于反應通道的清洗，因此，在圖1、圖2所述的示例中，待測樣品固定于第二玻片20的上表面，對于反應通道的形狀則并無要求；在圖3、圖4所述的示例中以及圖5所述的示例中，待測樣品固定在第二玻片20上的長條形凹槽內，因此，長條形凹槽的底面為一平整面，另外，考慮到反應通道101的加工難度以及反應通道101的清洗難易度，長條形凹槽的拐角處可以設置為一弧形面，通過這種結構的設計，降低了多通道測序反應小室的加工難度，便于實現多通道測序反應小室的批量生產，在清洗時，長條形凹槽的弧形面更便于清洗。

（二）關于多通道測序反應小室的試劑緩沖區(qū)。

在上述的對于反應通道闡述的任意方案中，所述的試劑緩沖區(qū)102均設置在第一玻片10的下表面上。對于試劑緩沖區(qū)102，本發(fā)明還提出了一示例，該示例中所述多通道測序反應小室包括相貼合的第一玻片10和第二玻片20，圖7為第一玻片10和第二玻片20的截面示意圖，所述第一玻片10位于第二玻片20上方，所述第一玻片10用于與第二玻片20形成多條中空的反應通道101，且所述反應通道101的兩端分別設有用于容納試劑的試劑緩沖區(qū)102。本示例中，所述反應通道101設置在第二玻片20的上表面，但是，上述的方案中任意一種關于反應通道101位置的方案均能夠在本示例中適用，本示例中則不對反應通道的位置再進行詳細的說明。所述試劑緩沖區(qū)102為設置在第二玻片20上的凹槽，當第一玻片10蓋在第二玻片20上后，設置于第一玻片10上的試劑入口103和試劑出口104則與試劑緩沖區(qū)102連通，同時，反應通道101的首尾端分別與試劑緩沖區(qū)102連通。在進行測序反應前，將測序反應小室豎直放置，并且試劑入口103位于下方，便于在進行測序反應時排出內部的空氣，進行測序反應時，通過試劑入口103注入的試劑首先會充盈試劑入口103處的試劑緩沖區(qū)102，才會同時進入多個反應通道101中，實現多個樣品的同時測序反應。

如圖8所示，對于多通道測序反應小室的試劑緩沖區(qū)102，本發(fā)明還提出了一示例，本示例中，所述反應通道101設置在第一玻片10的下表面，對于反應通道101的位置，上述任意方案中的反應通道101的位置均可以在本示例中適用，因此本方案中則不對反應通道101的位置進行詳細的說明。所述試劑緩沖區(qū)102為設置在第一玻片10的下表面和第二玻片20的上表面的凹槽，且設置于第一玻片10上的凹槽的形狀與設置于第二玻片20上的凹槽的形狀相同，當第一玻片10貼合在第二玻片20上時，凹槽相吻合，構成了試劑緩沖區(qū)102。所述第一玻片10上設置有與試劑緩沖區(qū)102分別連通的試劑入口103和試劑出口104，在本示例中，所述試劑入口103和試劑出口104均為設置在第一玻片10上的通孔。在進行測序反應前，將測序反應小室豎直放置，并且試劑入口103位于下方。需要說明的是，并非測序反應小室只能夠豎直放置進行測序反應，當測序反應小室水平放置時，也能夠完成測序反應，本是說明書中所指的測序反應小室豎直放置僅為一種較佳的方案。在進行測序反應時，通過試劑入口103注入的試劑首先會充盈試劑入口103處的試劑緩沖區(qū)102，才會同時進入多個反應通道101中，實現多個樣品的同時測序反應。在本示例中，由于試劑緩沖區(qū)102的縱向深度大于反應通道101的深度，因此即使當本示例中的多通道測序反應小室水平放置進行測序反應，在通過試劑入口103通入試劑時，試劑也不會直接進入反應通道101，而是先進入試劑緩沖區(qū)102，當位于第二玻片20上的試劑緩沖區(qū)102充滿試劑后，試劑才會同時進入反應通道101內。

如圖9所示，對于多通道測序反應小室的試劑緩沖區(qū)102，本發(fā)明還提出了一示例，本示例中，所述多通道測序反應小室包括相貼合的第一玻片10和第二玻片20，所述第一玻片10由蓋玻片30和導液片40緊密貼合而成，所述第二玻片20為載玻片50，所述導液片40位于蓋玻片30與載玻片50之間，所述蓋玻片片30上設置有與試劑緩沖區(qū)102分別連通的試劑入口103和試劑出口104；所述導液片40上設置有長條形的通孔，當蓋玻片30和載玻片50分別貼合在導液片的上下表面時，與長條形的通孔圍合構成所述的反應通道101；所述導液片40上設置有通孔，并且所述載玻片50上設置有凹槽，通孔與所述的凹槽形狀相適配，當蓋玻片30和載玻片50分別貼合在導液片40的上下表面時，通孔與所述的凹槽相吻合，構成所述的試劑緩沖區(qū)102。試劑緩沖區(qū)的此種結構，多通道測序反應小室處于豎直放置狀態(tài)或者是水平放置狀態(tài)時，試劑緩沖區(qū)102均能夠存儲一定的試劑，試劑不會直接進入反應通道101，保證了每一個反應通道101流速的均勻性以及擴散性的均勻一致。

如圖10a、圖10b所述，對于多通道測序反應小室的試劑緩沖區(qū)102，本發(fā)明還提出了一示例，所述多通道測序反應小室包括相貼合的第一玻片10和第二玻片20，所述第一玻片10由蓋玻片30和導液片40緊密貼合而成，所述第二玻片20為載玻片50，所述導液片40位于蓋玻片30與載玻片50之間；所述蓋玻片30上設置有通孔，該通孔即為試劑緩沖區(qū)30。如圖10b所示，所述的導液片40上設置有長條形的通孔，當蓋玻片30貼合在導液片40的上表面，載玻片50貼合在導液片40的下表面時，長條形的通孔即形成了密封的反應通道101，在蓋玻片30與導液片40、載玻片50與導液片40進行貼合時，需要進行密封處理，防止在進行測序反應時出現漏液的情況。在本示例中，分別將試劑緩沖區(qū)102和反應通道101設置在蓋玻片30上和導液片40上，使得試劑緩沖區(qū)102和反應通道102的加工更為簡單，提高了加工的效率。本發(fā)明的多通道測序反應小室與現有技術中的測序反應小室相比較，簡化了多通道測序反應小室的結構。在需要進行清洗時，將蓋玻片30從導液片40上取下，將導液片40從載玻片50上取下，分別對蓋玻片30、導液片40以及載玻片50進行清洗，可以直接對蓋玻片30上的試劑緩沖區(qū)102和導液片40上的反應通道101進行清洗，非常的方便。

進一步的，在上述任意方案的基礎上，針對試劑緩沖區(qū)102的形狀，本發(fā)明提出了一示例，如圖11a所示，所述試劑緩沖區(qū)102呈半圓形，試劑緩沖區(qū)102具有圓弧邊與直線邊，所述緩沖區(qū)102的直線邊位于靠近所述反應通道101的一側。通過此種結構的設計，當將多通道測序反應小室豎直安裝于測序裝置上后，如圖11a所示，在往試劑緩沖區(qū)102注入試劑的過程中，由于試劑緩沖區(qū)102設計為半圓形，圖11a所示的A點、B點和C點的流速更為均勻，使得試劑緩沖區(qū)102中任意位置的流速更為均勻，從而保證了每一個反應通道101流速的均勻性以及擴散性的均勻一致；使多個反應通道101內的測序反應同時進行。需要說明的是，上述的方案并不對試劑緩沖區(qū)102的結構構成任何限制，試劑緩沖區(qū)102的大小和形狀和根據實際需要進行設計，例如試劑緩沖區(qū)102可以采用正方形或長方形，圖11a所示的方案僅為一較佳的示例。如圖11b所示，為試劑緩沖區(qū)102的另一示例，該示例中，所述試劑緩沖區(qū)102呈三角形，通過往試劑緩沖區(qū)102注入試劑的過程中，通過三角形結構的設計，保證每一個反應通道101流速的均勻性以及擴散性的均勻一致；使多個反應通道101內的測序反應同時進行。

（三）關于試劑入口和試劑出口。

對于試劑入口103和試劑出口104的位置，除了在上述實施例中試劑入口103和試劑出口104均設置在第一玻片10上的情況外，本發(fā)明還提供了一示例，如圖12a所示，多通道測序反應小室包括相貼合的第一玻片10和第二玻片20，第一玻片10用于與第二玻片20形成多條中空的反應通道，所述反應通道的兩端分別設有用于容納試劑的試劑緩沖區(qū)；本示例中，上述示例中的反應通道和試劑緩沖區(qū)均能夠在本示例中適用，因此對于反應通道和試劑緩沖區(qū)，在本示例中則不進行詳細的描述；所述試劑入口103設置在第一玻片10的上表面，所述試劑出口104設置在第二玻片20的下表面，試劑從第一玻片10上試劑入口103通入，流經反應通道，并從第二玻片20上的試劑出口104流出。

對于試劑入口和試劑出口的位置，如圖12b所示，本發(fā)明還提出了一示例，多通道測序反應小室包括相貼合的第一玻片10和第二玻片20，對于多通道測序反應小室具有的反應通道和試劑緩沖區(qū)，上述示例中的反應通道和試劑緩沖區(qū)均能夠在本示例中適用，因此對于反應通道和試劑緩沖區(qū)在本示例中則不進行詳細的描述；本示例中，所述試劑入口103設置在第二玻片20的下表面，試劑出口104設置于第一玻片10的上表面，通過往第二玻片20的試劑入口通入試劑，試劑在流經反應通道后，從第二玻片20上的試劑出口103流出。

如圖12c所示，對于試劑入口103和試劑出口104的位置，本發(fā)明還提出了一示例，多通道測序反應小室包括相貼合的第一玻片10和第二玻片20，同樣的，在本實施例中，對于多通道測序反應小室具有的反應通道和試劑緩沖區(qū)不作詳細的描述，所述試劑入口103和試劑出口104均設置在第二玻片20的底面上，進行測序反應時，試劑從第二玻片20上的試劑入口103通入，試劑流經反應通道，從第二玻片104的試劑出口處流出。對于試劑入口和試劑出口的位置的設置，可以根據實際情況而定，本發(fā)明不對試劑入口103和試劑出口104的位置進行任何的限定。在圖12a、圖12b所述的示例中，由于試劑入口103設置在第二玻片20的下表面，在進行測序反應，多通道測序反應小室處于水平放置狀態(tài)時，通過試劑入口103向反應通道內注入試劑，試劑匯集在試劑緩沖區(qū)，不會直接進入反應通道中，因此，試劑入口設置在第二玻片下表面時，適用于需要將多通道測序反應小室水平放置進行測序反應的情況。

對于試劑入口103和試劑出口104的形狀，在上述任意的方案中，均為設置在第一玻片10或第二玻片20上的通孔，另外，針對于試劑入口103和試劑出口104的形狀，本發(fā)明還提出了一示例，如圖13a所示，本示例中，當設置于第一玻片10上的試劑入口103和試劑出口104的形狀與所述試劑緩沖區(qū)102的形狀相同時，所述的試劑入口103和試劑出口104也就等同于所述的試劑緩沖區(qū)102。為了對此種技術方案進行說明，如圖13a所示，該方案是在圖1所示的方案的基礎上進行的擴展，但需要說明的是，本方案中并不對反應通道101進行任何限定。與圖1所示的方案不同的是，該方案中，設置于第一玻片10上的試劑入口103和試劑出口104的形狀與試劑緩沖區(qū)102的形狀相同。一般的，多通道測序反應小室需要豎直放置于測序儀器中，并從下方通入試劑，有助于排空多通道測序反應小室內的空氣。當進行測序反應時，通過注入試劑的管道向試劑入口103處（即試劑緩沖區(qū)102）注入試劑時，由于試劑入口103（試劑緩沖區(qū)102）所占的區(qū)域相對較大，因此試劑不會直接進入反應通道101內，首先試劑會充滿試劑緩沖區(qū)102，繼續(xù)注入試劑后，試劑同時進入多個反應通道101中，與反應通道101內的待測樣品進行測序反應。同樣的，對于試劑入口103和試劑出口104的位置，在該方案中并無具體的限定，例如，當試劑入口103設置于第二玻片20的下表面，而試劑出口104設置于第一玻片20的上表面時，如圖13b所示，試劑入口103和試劑出口104的形狀與試劑緩沖區(qū)102的形狀相同，在此方案中，所述的多通道測序反應小室可以直接水平放置，通過往試劑入口103（即試劑緩沖區(qū)102）通入試劑，由于試劑入口103朝下，因此試劑首先充盈試劑緩沖區(qū)102（即試劑入口103），試劑不會直接進入反應通道103內，并且這種結構有助于排出多通道測序反應小室內部的空氣；持續(xù)注入試劑后，試劑同時進入多個反應通道101中，與反應通道101內的待測樣品進行測序反應。

另外，在上述任意方案的基礎上，對所述第一玻片10和第二玻片20的材質不進行限定，第二玻片10和第二玻片20的材質可以是玻璃、PMMA、PC、PE其中任意一種。其中第二玻片20不僅能夠牢牢的固定住樣品，防止反應時樣品脫落而降低通量，而且光線能夠順利通過第二玻片20，使得進行采圖的采圖組件能夠拍攝到清晰的測序圖像，從而為通量的提高提供了有力的保障。進一步的，當所述第一玻片10由蓋玻片30和導液片40構成，第二玻片為載玻片時，或者第一玻片為蓋玻片，第二玻片由導液片和載玻片構成時，對所述蓋玻片30、導液片40以及載玻片50的材質不進行限定，蓋玻片30、導液片40和載玻片50的材質可以是玻璃、PMMA、PC、PE或其他材料，另外，導液片40還可以采用不銹鋼片或硅膠片。

在上述的多通道反應小室的任意方案中，多通道測序反應小室上還可以設置有用于圖像重合定位的Mark點，并且該Mark點的形狀并不僅限于十字形狀，只要清晰便于識別即可。Mark點設置，便于了采圖裝置進行采圖后的加工合成，提高圖像質量。

本發(fā)明還提出了第二實施例，本實施例中提出了一種多通道測序反應裝置，用于實現多個樣本同時進行測序反應。如圖14所示，所述的多通道測序反應裝置由小室上部組件60、小室下部組件70以及多通道測序反應小室80構成，本實施例中的多通道測序反應小室即為上述任意方案中的多通道測序反應小室，因此在本實施例中，則不會對多通道測序反應小室進行說明。所述小室上部組件60包括進液通道601和出液通道602；所述小室下部組件70包括小室上蓋701和小室底座702，所述小室底座702用于放置所述的多通道測序反應小室80，所述小室上蓋701安裝在小室底座702上；所述小室上部組件60用于安裝在小室下部組件70上，且所述小室上部組件60的進液通道601與所述多通道測序反應小室80的試劑入口103連通，所述小室上部組件60的出液通道602與所述多通道測序反應小室80的試劑出口104連通。本實施例中，如圖14所示，將小室上蓋701安裝在小室底座702上，小室上蓋701上設置有便于進液通道601與多通道測序反應小室80試劑入口103連通，以及出液通道602與多通道測序反應小室80試劑出口104連通的結構，該結構可以為設置在小室上蓋701上的通孔，當小室上部組件60安裝在小室下部組件70上進行測序反應時，進液通道601直接穿過通孔連接在多通道測序反應小室80的試劑入口103，出液通道602通過直接穿過通孔連接在多通道測序反應小室80的試劑出口104。由于小室上部組件60和小室下部組件70可以進行組合與拆分，即所述的多通道測序反應裝置是采用分體式結構設計，便于其實現自動換樣。

在第二實施例的基礎上，如圖15所示，對于所述的多通道測序反應裝置，本發(fā)明還提出了一示例，在本示例中，多通道測序反應裝置由小室上部組件60、小室下部組件70以及多通道測序反應小室80構成，所述小室上部組件60包括進液通道601和出液通道602；所述小室下部組件70包括小室上蓋701和小室底座702，所述小室底座702用于放置所述的多通道測序反應小室80，所述小室上蓋701安裝在小室底座702上；所述小室上部組件60用于安裝在小室下部組件70上，且所述小室上部組件60的進液通道601與所述多通道測序反應小室80的試劑入口103連通，所述小室上部組件60的出液通道602與所述多通道測序反應小室80的試劑出口104連通。本示例中，如圖15所示，所述小室上部組件60還包括底板603、隔熱板604、制冷片605以及導熱板606；其中，所述隔熱板604固定在底板603下方，隔熱板604的中部具有通孔，所述制冷片605設置于隔熱板604的通孔內；所述導熱板606固定在隔熱板604和制冷片605的下方；所述進液通道601和出液通道602分別為貫穿于所述底板603、隔熱板604和導熱板606的通孔。當小室上部組件60安裝在小室下部組件70上時，進液通道601與多通道測序反應小室80的試劑入口103連通，出液通道602與多通道測序反應小室80的試劑出口104連通，由于多通道測序反應小室80在測序反應時需要提升或降低溫度，因此所述的小室上部組件60中的導熱板606與多通道測序反應小室80相接觸，以達到最佳的升溫或降溫的效果。如圖15所示，制冷片605的下表面緊貼在導熱板606的上表面，制冷片605升溫或者降溫時，通過導熱板606的傳遞作用，升高或降低多通道測序應小室80的溫度，從而達到所需的溫度。

另外，所述小室上部組件60還包括一溫度傳感器，當制冷片605對多通道測序反應小室進行升溫或降溫時，溫度傳感器用于檢測所述的多通道測序反應小室的溫度，防止多通道測序反應小室的溫度過高或過低。本示例中，所述導熱板606的上表面上具有一凹槽，所述溫度傳感器607設置于凹槽內，且溫度傳感器607位于所述制冷片605的下方。需要說明的是，對于溫度傳感器607的位置設定，上述僅為一種較佳的實施方案，所述的溫度傳感器607還可以直接設置在多通道測序反應小室上，直接對多通道測序反應小室的溫度進行測量。在本示例中，所述制冷片605為半導體制冷片，所述溫度傳感器607為K型熱電偶，但是，所述制冷片605并不僅限于半導體制冷片，溫度傳感器607并不局限于K型熱電偶。

更進一步的，在圖15所述的示例的基礎上，對于多通道測序反應裝置的小室上部組件60和小室下部組件70，本發(fā)明還提出了一示例，如圖16所示，所述小室上蓋701的中部具有通孔，所述小室上部組件60安裝在小室下部組件70上時，所述小室上部組件60的隔熱板604和導熱板606伸入小室上蓋701的通孔內，所述導熱板606緊貼于多通道測序反應小室80上，且所述進液通道601與多通道測序反應小室80的試劑入口103連通，所述出液通道602與多通道測序反應小室80的試劑出口104連通。小室上部組件60的主要作用是通過制冷片605對多通道測序反應小室80進行升溫或者降溫，而多通道測序反應裝置的此種結構，將多通道測序反應小室80的加熱和制冷的部分集中在小室上部組件60上，便于小室上部組件60和小室下部組件70的分離，這種分體式結構的設計，便于實現自動換樣；小室下部組件70主要用于固定多通道測序反應小室80，同時小室下部組件70還用于自動點樣，通過移液槍頭對準多通道測序反應小室80的反應通道101，勻速點樣，往每條反應通道101中注入被測樣本。

如圖17所示，對于多通道測序反應裝置，本發(fā)明還提出了第三實施例中，在本實施例中，多通道測序反應裝置由小室上部組件60、小室下部組件70以及上述的多通道測序反應小室80構成；其中，所述小室上部組件60包括進液通道601和出液通道602；所述小室下部組件70包括小室上蓋701和小室底座702，所述小室底座702用于放置所述的多通道測序反應小室80，所述小室上蓋701安裝在小室底座702上。小室上部組件60還包括底板603、隔熱板604、制冷片605、導熱板606以及溫度傳感器607；其中，所述隔熱板604固定在底板603下方，隔熱板604的中部具有通孔，所述制冷片605設置于隔熱板604的通孔內，所述導熱板606固定在隔熱板604和制冷片605的下方，所述導熱板606的上表面上具有一凹槽，所述溫度傳感器607設置于凹槽內，且溫度傳感器607位于所述制冷片605的下方。進一步的，小室上蓋701的中部具有通孔，所述小室上部組件60安裝在小室下部組件70上時，所述小室上部組件60的隔熱板604和導熱板606伸入小室上蓋701的通孔內，所述導熱板606緊貼于多通道測序反應小室80上。

在本示例中，所述小室上部組件60還包括頂板608和散熱板609，所述頂板608設置在底板603上方，所述散熱板609位于頂板608與底板603之間并固定于所述底板603上，所述散熱板609具有若干個散熱鰭片，并且，所述底板603和隔熱板604通過螺釘連接，所述螺釘中間設置有鋼管，該鋼管即為進液通道601和出液通道602。另外，所述小室上蓋701的下方彈性連接有壓塊，所述壓塊壓在多通道測序反應小室80上，所述小室上蓋701上設置有卡扣，所述卡扣用于卡在所述的小室底座702上，通過卡扣的作用，將小室上蓋701扣合在所述的小室底座702上，同時由于小室上蓋701的壓塊的作用，將多通道測序反應小室80的四周壓緊，防止漏液以及點樣時樣品相互污染。

當所述的制冷片605對多通道測序反應小室80進行加熱時，制冷片605的下表面即為熱面，制冷片605的上表面即為冷面，將所述制冷片605設置在隔熱板604的通孔內，通過隔熱板604的作用將冷面與熱面分隔開，同樣的，當制冷片605對多通道測序反應小室80進行制冷時，制冷片605的下表面即為冷片，制冷片605的上表面即為熱面，隔熱板將冷面與熱面分隔開，提高了制冷片進行加熱或制冷的效率。另外，為了提高密封性能，在所述導熱板606上還設置有密封膠墊90，并且該密封膠墊90設置在進液通道601的出口處以及出液通道602的入口處，該密封膠墊90也貼合在多通道測序反應小室80的蓋玻片30上，同時進液通道601的出口與試劑緩沖區(qū)102連通，出液通道602的入口與試劑緩沖區(qū)102連通。在小室上部組件60中的頂板608、散熱板609、底板603、隔熱板604以及導熱板606上可以設置兩個通孔，兩個通孔即為視窗，通過兩個視窗拍攝明場圖，用于看清楚磁珠分布是否均勻。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本發(fā)明的保護范圍之內。