一種運(yùn)載料裝置以及密閉設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及制程設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種運(yùn)載料裝置以及密閉設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]在鍍膜過程中，為了避免蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中與空氣分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)原材料間的化學(xué)反應(yīng)(如氧化等)，以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，提高膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力，一般需要在密閉設(shè)備中進(jìn)行。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)中，密閉設(shè)備一般具有密閉腔室，并在密閉腔室中設(shè)置一可旋轉(zhuǎn)載臺(tái)以承載待加工的料片，當(dāng)待加工的料片加工處理完成后，作業(yè)員會(huì)直接打開密閉腔室，取出料片并送入下一道制程。但由于鍍膜材料的特性不同，有些材料在開腔取片的時(shí)候，就會(huì)受到空氣中氧氣的影響，而發(fā)生化學(xué)特性的轉(zhuǎn)變，影響產(chǎn)品性能。
[0004]因此，如何提供一種保護(hù)裝置，使其在保證制程效果的同時(shí)，能夠保護(hù)料片在送入下一道制程過程中不被氧化，進(jìn)而保證產(chǎn)品性能，成為本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的重要技術(shù)問題。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]有鑒于此，本實(shí)用新型提供了一種運(yùn)載料裝置以及密閉設(shè)備，以達(dá)到使其在保證制程效果的同時(shí)，能夠保護(hù)料片在送入下一道制程過程中不被氧化，進(jìn)而保證產(chǎn)品性能的目的。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:
[0007]一種運(yùn)載料裝置，包括:
[0008]載臺(tái)，所述載臺(tái)上具有復(fù)數(shù)個(gè)數(shù)量相同且相互間隔設(shè)置的第一工位以及第二工位，其中，所述第一工位用于放置載料盤，所述第二工位用于放置承載單元，所述載料盤能夠與所述承載單元配合形成用于容納料片的密閉空間；
[0009]吸附裝置，設(shè)置于所述載臺(tái)的上方，所述吸附裝置用于從所述第一工位吸附所述載料盤并將所述載料盤放置于所述第二工位上的所述承載單元上，以使所述載料盤與所述承載單元配合形成密閉空間。
[0010]優(yōu)選的，還包括第一驅(qū)動(dòng)組件，所述載臺(tái)在所述第一驅(qū)動(dòng)組件的驅(qū)動(dòng)下轉(zhuǎn)動(dòng)，所述第一驅(qū)動(dòng)組件包括第一驅(qū)動(dòng)器、轉(zhuǎn)動(dòng)件以及傳動(dòng)件，所述轉(zhuǎn)動(dòng)件與所述載臺(tái)同軸設(shè)置，所述轉(zhuǎn)動(dòng)件的第一端與所述載臺(tái)連接，第二端通過所述傳動(dòng)件與所述第一驅(qū)動(dòng)器的輸出端連接，其中，所述第一驅(qū)動(dòng)器通過所述傳動(dòng)件以驅(qū)動(dòng)所述轉(zhuǎn)動(dòng)件進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0011]優(yōu)選的，所述傳動(dòng)件為同步帶，所述轉(zhuǎn)動(dòng)件的第二端與所述第一驅(qū)動(dòng)器的輸出端均設(shè)置有與所述同步帶配合的同步輪。
[0012]優(yōu)選的，還包括第二驅(qū)動(dòng)組件，所述吸附裝置在所述第二驅(qū)動(dòng)組件的驅(qū)動(dòng)下相對(duì)于所述載臺(tái)升降，所述第二驅(qū)動(dòng)組件包括:
[0013]第二驅(qū)動(dòng)器；
[0014]絲桿，相對(duì)于所述載臺(tái)豎直設(shè)置并在所述第二驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)下旋轉(zhuǎn)；
[0015]滑桿，與所述絲桿平行設(shè)置，所述滑桿的第一端與所述絲桿連接，所述滑桿的第二端連接有所述吸附裝置；
[0016]其中，所述第二驅(qū)動(dòng)器通過驅(qū)動(dòng)所述絲桿正轉(zhuǎn)或者反轉(zhuǎn)以使所述滑桿上升或者下降。
[0017]優(yōu)選的，所述吸附裝置采用真空吸附或者電磁吸附。
[0018]優(yōu)選的，所述載料盤包括上蓋以及中間部;所述中間部呈環(huán)形，其內(nèi)壁上設(shè)置有用于放置料片的環(huán)形臺(tái)階面；所述上蓋下表面與所述中間部上表面之間設(shè)置有第一密封裝置。
[0019]優(yōu)選的，所述承載單元呈圓盤狀，其上表面上設(shè)置有環(huán)形槽，所述環(huán)形槽內(nèi)設(shè)置有用于密封所述承載單元與所述中間部接觸面的第二密封裝置。
[0020]優(yōu)選的，所述承載單元上設(shè)置有至少兩個(gè)與所述承載單元的軸向平行且圍繞所述承載單元的軸線均勻分布的定位桿，所述上蓋上與所述定位桿對(duì)應(yīng)的位置上設(shè)置有定位件，所述定位件上開設(shè)有用于與所述定位桿配合的定位通孔，所述定位桿與所述定位通孔配合使所述載料盤與所述承載單元定位配合。
[0021]優(yōu)選的，所述承載單元上設(shè)置有限位凹槽，所述中間部的下表面上設(shè)置有環(huán)形凸起，所述環(huán)形凸起外側(cè)壁與所述限位凹槽的內(nèi)側(cè)壁配合使所述載料盤與所述承載單元扣合在一起。
[0022]—種密閉設(shè)備，包括密閉腔室以及設(shè)置于所述密閉腔室中的運(yùn)載料裝置，所述運(yùn)載料裝置為如上任一項(xiàng)所述的運(yùn)載料裝置。
[0023]從上述技術(shù)方案可以看出，本實(shí)用新型提供的運(yùn)載料裝置，包括載臺(tái)、載料盤、承載單元以及吸附裝置;其中，載臺(tái)上具有復(fù)數(shù)個(gè)數(shù)量相同且相互間隔設(shè)置的第一工位以及第二工位，所述第一工位用于放置載料盤，所述第二工位用于放置承載單元，載料盤能夠與承載單元配合形成用于容納料片的密閉空間；吸附裝置設(shè)置于載臺(tái)的上方，用于從第一工位吸附載料盤并將載料盤放置于所述第二工位上的承載單元上，載料盤與承載單元配合形成密閉空間；使用時(shí)，料片在載臺(tái)的第一工位完成鍍膜后，吸附裝置將承載有上述料片的載料盤吸起，并將載料盤自載臺(tái)的第一工位移動(dòng)至第二工位，與第二工位上的承載單元配合形成密閉空間將料片封裝，如此反復(fù)，直至所有載料盤均一一對(duì)應(yīng)的與承載單元形成密閉空間為止，在上述過程中，吸附裝置吸附的是載有料片的載料盤，而不是料片，因此，吸附裝置不與鍍膜后的料片直接接觸，避免了吸附裝置對(duì)鍍膜的破壞，上述動(dòng)作完成后，打開密閉設(shè)備，直接將載料盤與承載單元構(gòu)成的組合體取出放入下一制程即可，在這一過程中，載料盤與承載單元構(gòu)成的組合體形成一個(gè)密閉空間將料片保護(hù)起來不與空氣直接接觸，在不影響制程的同時(shí)，免于氧化及雜質(zhì)污染，提高了鍍膜的品質(zhì)及性能。
【附圖說明】
[0024]為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0025]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的運(yùn)載料裝置的立體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的運(yùn)載料裝置的主視圖；
[0027]圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的運(yùn)載料裝置的俯視圖；
[0028]圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的運(yùn)載料裝置中載料盤與承載單元組合體的立體示意圖；
[0029]圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的運(yùn)載料裝置中載料盤與承載單元組合體的剖視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0030]本實(shí)用新型提供了一種運(yùn)載料裝置以及密閉設(shè)備，以達(dá)到使其在保證制程效果的同時(shí)，能夠保護(hù)料片在送入下一道制程過程中不被氧化，進(jìn)而保證產(chǎn)品性能的目的。
[0031]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0032]請(qǐng)參閱圖1-圖3，圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的運(yùn)載料裝置的立體結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的運(yùn)載料裝置的主視圖；圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的運(yùn)載料裝置的俯視圖。
[0033]本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種運(yùn)載料裝置，主要包括載臺(tái)I以及吸附裝置7。
[0034]其中，載臺(tái)I上具有復(fù)數(shù)個(gè)數(shù)量相同且相互間隔設(shè)置的第一工位以及第二工位，所述第一工位用于放置載料盤2，所述第二工位用于放置承載單元3，載料盤2能夠與承載單元3配合形成用于容納料片的密閉空間；吸附裝置7設(shè)置于載臺(tái)I的上方，用于從第一工位吸附承載有料片的載料盤2并將載料盤2放置于第二工位上的承載單元3上，以使載料盤2與承載單元3配合形成密閉空間。
[0035]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的運(yùn)載料裝置，使用時(shí)，料片在載臺(tái)I的第一工位完成鍍膜后，吸附裝置7將承載有上述料片的載料盤2吸起，并將載料盤2自載臺(tái)I的第一工位移動(dòng)至第二工位，與第二工位上的承載單元3配合形成密閉空間將料片封裝，如此反復(fù)，直至所有載料盤2均一一對(duì)應(yīng)的與承載單元3形成密閉空間為止，在上述過程中，吸附裝置7吸附的是載有料片的載料盤2，而不是料片，因此，吸附裝置7不與鍍膜后的料片直接接觸，避免了吸附裝置7對(duì)鍍膜的破壞，上述動(dòng)作完成后，打開密閉設(shè)備，直接將載料盤2與承載單元3構(gòu)成的組合體取出放入下一制程即可，在這一過程中，載料盤2與承載單元3構(gòu)成的組合體形成一個(gè)密閉空間將料片保護(hù)起來不與空氣直接接觸，在不影響制程的同時(shí)，免于氧化及雜質(zhì)污染，提高了鍍膜的品質(zhì)及性能。
[0036]使載料盤2被吸附裝置7吸起后自載臺(tái)I第一工位移動(dòng)至第二工位的方式有很多種，比如，載臺(tái)I固定，吸附裝置7設(shè)置有一個(gè)，且能夠相對(duì)于載臺(tái)I升降以及圍繞載臺(tái)I的軸線旋轉(zhuǎn)，在使用過程中，吸附裝置7通過圍繞載臺(tái)I的旋轉(zhuǎn)實(shí)現(xiàn)在第一工位與第二工位之間的移動(dòng)，通過升降實(shí)現(xiàn)對(duì)于載料盤2的取放，或者，吸附裝置7對(duì)應(yīng)第一工位或者第二工位設(shè)置有多個(gè)，每次只需轉(zhuǎn)動(dòng)一定角度即可完成載料盤2的取放，當(dāng)然也可以采用其他的方式，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，還包括第一驅(qū)動(dòng)組件4以及第二驅(qū)動(dòng)組件5，其中，載臺(tái)I在第一驅(qū)動(dòng)組件4的驅(qū)動(dòng)下轉(zhuǎn)動(dòng)，吸附裝置7在第二驅(qū)動(dòng)組件5的驅(qū)動(dòng)下升降，第一驅(qū)動(dòng)組件4包括第一驅(qū)動(dòng)器41、轉(zhuǎn)動(dòng)件43以及傳動(dòng)件42，轉(zhuǎn)動(dòng)件43與載臺(tái)I同軸設(shè)置，轉(zhuǎn)動(dòng)件43的第一端與載臺(tái)I連接，第二端通過傳動(dòng)件42與第一驅(qū)動(dòng)器41的輸出端連接，第一驅(qū)動(dòng)器41通過傳動(dòng)件42以驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)件43進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)。除上述結(jié)構(gòu)外，第一驅(qū)動(dòng)組件4還可以采用多種結(jié)構(gòu)，比如第一驅(qū)動(dòng)組件4可以采用多種結(jié)構(gòu)，比如第一驅(qū)動(dòng)組件4為伺服電機(jī)，伺服電機(jī)的輸出軸與載臺(tái)I直接連接，或者第一驅(qū)動(dòng)組件4為電機(jī)，電機(jī)輸