用于玻璃基板的清洗設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種用于玻璃基板的清洗設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]在顯示面板的制造過程中，大都利用玻璃基板清洗機(jī)對(duì)玻璃基板進(jìn)行清洗作業(yè)，以使玻璃基板滿足后續(xù)制程的使用需求。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)中，常采用HDC(高性能清洗機(jī))對(duì)玻璃基板進(jìn)行清洗。在使用過程中，HDC的入口與廠務(wù)供水端相連，以接收用于清洗玻璃基板的水。但是在實(shí)際使用過程中，發(fā)現(xiàn)玻璃基板的清洗效果并不理想，以致影響顯示裝置的良率。
[0004]由此，需要設(shè)計(jì)一種清洗效果更好的用于玻璃基板的清洗設(shè)備。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中所存在的上述技術(shù)問題，本發(fā)明提出了一種用于玻璃基板的清洗設(shè)備。該清洗設(shè)備能有效提高清洗玻璃基板的清洗效果，提高顯示裝置的良率。
[0006]根據(jù)本發(fā)明提出了一種用于玻璃基板的清洗設(shè)備，包括:
[0007]能夠加熱清洗液的加熱裝置，加熱裝置具有第一入口和第一出口，
[0008]用于清洗玻璃基板的清洗裝置，清洗裝置具有第二入口和第二出口，其中第二入口與第一出口連通，
[0009]其中，在連通第二入口與第一出口的管線上設(shè)置過濾裝置。
[0010]在一個(gè)實(shí)施例中，加熱裝置為化學(xué)氣相沉積制程主機(jī)。
[0011 ] 在一個(gè)實(shí)施例中，在管線上設(shè)置控溫裝置，控溫裝置包括溫度感應(yīng)器和與溫度感應(yīng)器信號(hào)連接的加熱器，并且控溫裝置位于過濾裝置的下游。
[0012]在一個(gè)實(shí)施例中，在管線上設(shè)置能與清洗裝置連通的支線，并在管線與支線交叉處設(shè)置轉(zhuǎn)換閥，轉(zhuǎn)化閥位于過濾裝置的上游。
[0013]在一個(gè)實(shí)施例中，在管線的外壁上設(shè)置保溫材料。
[0014]在一個(gè)實(shí)施例中，化學(xué)氣相沉積制程主機(jī)包括:
[0015]依次連接的真空轉(zhuǎn)換腔、分流腔、制成腔，
[0016]分別用于為真空轉(zhuǎn)換腔、分流腔、制成腔降溫的第一管線、第二管線和第三管線，
[0017]其中，第一管線、第二管線和第三管線依次首尾相連，并且第三管線與第一出口連通，第一管線與第一入口連通。
[0018]在一個(gè)實(shí)施例中，清洗液為去離子水。
[0019]在一個(gè)實(shí)施例中，清洗裝置包括從上游到下游依次設(shè)置的終清洗單元、中間清洗單元和預(yù)清洗單元，其中，終清洗單元具有盛水組件，盛水組件包括水槽和覆蓋式設(shè)置在水槽的開口處的收集槽，收集槽的底板上設(shè)置有連通水槽的通孔。
[0020]在一個(gè)實(shí)施例中，收集槽的底板傾斜式設(shè)置，并且通孔設(shè)置在收集槽的最低端處。
[0021]在一個(gè)實(shí)施例中，第二出口與第一入口連通，并在第二出口與第一入口之間設(shè)置凈化裝置。
[0022]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于，通過在清洗裝置的上游設(shè)置加熱裝置，使得用于清潔玻璃基板的清洗液升溫，并使得清洗液中的水分子間的部分氫鍵斷裂，水分子團(tuán)簇變小，從而增強(qiáng)了水分子團(tuán)的活性，提高水分子的清潔能力。并由此提高了對(duì)玻璃基板的清洗效果。同時(shí)，通過設(shè)置過濾裝置以對(duì)進(jìn)入清洗裝置的清洗液進(jìn)行過濾，以減小或避免雜質(zhì)進(jìn)入到后續(xù)清洗裝置中，從而進(jìn)一步地提高了對(duì)玻璃基板的清洗效果。
【附圖說明】
[0023]下面將結(jié)合附圖來對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)地描述，在圖中:
[0024]圖1顯示了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的用于玻璃基板的清洗設(shè)備的結(jié)構(gòu)圖；
[0025]圖2顯示了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的盛水組件的剖面圖；
[0026]在附圖中，相同的部件使用相同的附圖標(biāo)記，附圖并未按照實(shí)際的比例繪制。
【具體實(shí)施方式】
[0027]下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步說明。
[0028]圖1顯示了根據(jù)本發(fā)明的用于玻璃基板的清洗設(shè)備100的結(jié)構(gòu)。如圖1所示，清洗設(shè)備100包括加熱裝置I和清洗裝置2。其中，加熱裝置I用于加熱清洗液，以向清洗裝置2供給具有一定溫度的清洗液。并且，加熱裝置I具有第一入口 3和第一出口 4，第一入口 3用于與廠務(wù)供清洗液端連接，以接收清洗液。第一出口 4用于向外輸送經(jīng)過加熱的清洗液。清洗裝置2用于清洗玻璃基板。并且清洗裝置2具有第二入口 5和第二出口 6，第二入口 5與第一出口 4連通，以接收經(jīng)過加熱裝置I升溫的清洗液。另外，在連通第二入口 5與第一出口 4的管線7上設(shè)置過濾裝置8，對(duì)進(jìn)入清洗裝置2的清洗液進(jìn)行過濾。
[0029]為了降低清洗成本，優(yōu)選地，清洗液為去離子水。
[0030]由此，通過在清洗裝置2的上游設(shè)置加熱裝置1，使得用于清潔玻璃基板的水升溫，一定溫度的水使得水分子間的部分氫鍵斷裂，水分子團(tuán)簇變小，從而增強(qiáng)了水分子團(tuán)的活性，提高水分子的清潔能力。并由此提高了對(duì)玻璃基板的清洗效果。同時(shí)，由于清洗裝置2和加熱裝置I之間還設(shè)置有過濾裝置8，以對(duì)進(jìn)入清洗裝置2的水進(jìn)行過濾，從而進(jìn)一步提高了對(duì)玻璃基板的清洗效果。
[0031]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，加熱裝置I為化學(xué)氣相沉積制程主機(jī)。在玻璃基板化學(xué)氣相沉積過程中，可以利用水冷的方式降低化學(xué)氣相沉積制程主機(jī)的溫度。同時(shí)，在化學(xué)氣相沉積制程主機(jī)的散熱過程中，用于為化學(xué)氣相沉積制程主機(jī)降溫的水被加熱，然后，加熱后的水通過管線7和過濾裝置8進(jìn)入清洗裝置2中，進(jìn)而用于玻璃基板的清洗。本申請(qǐng)的清洗設(shè)備100直接利用了實(shí)際生產(chǎn)設(shè)備中的化學(xué)氣相沉積制程主機(jī)作為加熱裝置1，達(dá)到了即能為化學(xué)氣相沉積制程主機(jī)降溫，又能為清洗裝置2輸送一定溫度的水的作用，充分利用并節(jié)約了能源。
[0032]為了達(dá)到更好的清潔效果，并且對(duì)水溫做一定的監(jiān)控。在管線7上設(shè)置控溫裝置
9。控溫裝置9包括溫度感應(yīng)器10和與溫度感應(yīng)器10信號(hào)連接的加熱器11。其中，溫度感應(yīng)器10能夠感知用于清洗的水的溫度，以對(duì)水溫進(jìn)行監(jiān)測。加熱器11用于為管線7內(nèi)的水加熱。在水的溫度低于預(yù)設(shè)溫度時(shí)，啟動(dòng)加熱器11以對(duì)管線7內(nèi)的水進(jìn)行加熱，從而使得進(jìn)入清洗裝置2內(nèi)的水的溫度不低于預(yù)設(shè)溫度，由此保證清洗效果。例如，預(yù)設(shè)溫度可以為50度，當(dāng)溫度感應(yīng)器10感知到管線7內(nèi)的水溫低于50度時(shí)，啟動(dòng)加熱器11以對(duì)管線7內(nèi)的水進(jìn)行加熱，以確保輸送到清洗裝置2內(nèi)的水的溫度。同時(shí)，加熱器11的功率可根據(jù)溫度感應(yīng)器10感知的水溫進(jìn)行調(diào)節(jié)，以確保滿足使用需求。優(yōu)選地，控溫裝置9位于過濾裝置8的下游，也就是，控溫裝置9更靠近清洗裝置2。通過這種設(shè)置能減小熱量損失，保證能源的充分利用。
[0033]在管線7上設(shè)置能與清洗裝置2連通的支線12。在管線7與支線12交叉處設(shè)置轉(zhuǎn)換