本發(fā)明涉及一種氣體處理機(jī)。
背景技術(shù):
隨著氣體處理技術(shù)的普及和發(fā)展,氣體處理技術(shù)也日益成熟,然而在現(xiàn)有氣體處理技術(shù)中仍存在一些難于克服的技術(shù)難點(diǎn),例如由于成本以及其他因素的限制,在短時間內(nèi),大量氣體進(jìn)行排入處理時無法將氣體內(nèi)部部分的氣體進(jìn)行完全處理和清洗,外部的氣體經(jīng)處理后與氣體內(nèi)部部分的氣體處理程度不一造成氣體的處理整體效果差,進(jìn)而在工藝上需要進(jìn)行若干次同樣的處理流程,處理效率較為低下的同時,處理氣體的成本也被大幅度提高,同時,現(xiàn)有的氣體處理技術(shù)對氣體的處理效率較為低下,效果也不好,處理完成后仍會對環(huán)境造成一定影響。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)簡單、分隔處理效果好、處理速度快、處理次數(shù)少的氣體處理機(jī)。
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:一種氣體處理機(jī),包括內(nèi)置有處理液的外殼、置于外殼內(nèi)的處理導(dǎo)向裝置,所述外殼上開設(shè)有外接進(jìn)氣通道的進(jìn)氣口以及外接出氣通道的出氣口,外殼底部設(shè)置有處理液排放口,在所述外殼內(nèi)縱向豎立有隔板,所述隔板下部浸入于處理液內(nèi),隔板將外殼內(nèi)處理液上方的空腔分隔為進(jìn)氣口所在的進(jìn)氣腔和出氣口所在的出氣腔,所述處理導(dǎo)向裝置下部浸泡于進(jìn)氣腔下方的處理液內(nèi),待處理氣體從進(jìn)氣口經(jīng)進(jìn)氣腔進(jìn)入處理導(dǎo)向裝置,并在處理導(dǎo)向裝置中經(jīng)處理液反應(yīng)處理后導(dǎo)出至出氣腔,并由出氣口排出,所述處理導(dǎo)向裝置包括電機(jī)、由進(jìn)氣口端斜向下延伸進(jìn)入處理液并橫向架設(shè)在外殼內(nèi)的傳動導(dǎo)軌、鋪設(shè)于傳動導(dǎo)軌上并由電機(jī)驅(qū)動的傳送帶、連接在傳送帶上并沿傳送帶長度方向分布的若干個導(dǎo)氣單元,待處理氣體經(jīng)進(jìn)氣口進(jìn)入外露在進(jìn)氣腔內(nèi)的導(dǎo)氣單元,在電機(jī)的帶動下,傳送帶運(yùn)動,所述外露在進(jìn)氣腔內(nèi)的導(dǎo)氣單元將待處理氣體帶入處理液,待處理氣體經(jīng)處理液反應(yīng)處理后,在傳送帶的帶動下,通過導(dǎo)氣單元將待處理氣體帶出處理液進(jìn)入出氣腔,再經(jīng)出氣口排出。
本發(fā)明通過將待處理氣體導(dǎo)入處理導(dǎo)向裝置進(jìn)行待處理氣體的清洗、處理、導(dǎo)出以完成待處理氣體的整體處理過程,并通過后續(xù)的多次輔助清洗處理將氣體進(jìn)行處理,此過程在驅(qū)動電機(jī)的帶動下可完全自動進(jìn)行,無須人工再進(jìn)行輔助操作,相較于現(xiàn)有的氣體處理技術(shù),處理導(dǎo)向裝置中的導(dǎo)氣單元能順利地將進(jìn)入進(jìn)氣腔的待處理氣體帶入處理液,將現(xiàn)有技術(shù)中清洗和處理兩個步驟合二為一進(jìn)行同步清洗處理,最后被處理導(dǎo)向裝置帶出處理液經(jīng)由出氣腔導(dǎo)出出氣口,從而完成氣體的整體清洗處理,解決了現(xiàn)有氣體處理技術(shù)中由于機(jī)器設(shè)備、處理技術(shù)等原因帶來的無法完全處理氣體、氣體處理效果差、速度慢、處理成本高、對環(huán)境仍有影響等等問題
進(jìn)一步的,還包括氣體分隔處理裝置,所述氣體分隔處理裝置還包括若干層分隔片、過濾體和連接件,若干層分隔片之間上下間隔設(shè)置并通過若干連接件串接,相鄰兩分隔片之間構(gòu)成氣體導(dǎo)流腔,所述過濾體設(shè)于氣體導(dǎo)流腔內(nèi);所述分隔片包括導(dǎo)流部和延伸部,所述導(dǎo)流部一側(cè)端與進(jìn)氣端連接,導(dǎo)流部另一側(cè)端向外延伸出延伸部,所述延伸部表面貫穿開有若干個通氣孔,在處理導(dǎo)向裝置內(nèi)完成處理的待處理氣體經(jīng)進(jìn)氣端分層進(jìn)入氣體導(dǎo)流腔,在氣體導(dǎo)流腔內(nèi)通過過濾體進(jìn)行過濾和處理,最后經(jīng)延伸部表面的通氣孔排出。
本發(fā)明中的氣體分隔處理裝置通過設(shè)置多層分隔片將完成整體處理過后的待處理氣體分成多層進(jìn)行局部處理,整體處理過后的待處理氣體被導(dǎo)流入分隔片和分隔片之間形成的氣體導(dǎo)流腔后,在氣體導(dǎo)流腔內(nèi)與處理液進(jìn)行分層分級處理,由于大量氣體進(jìn)入氣體導(dǎo)流腔,故而與現(xiàn)有技術(shù)類似的,大量氣體進(jìn)入氣體導(dǎo)流腔后容易在氣體導(dǎo)流腔內(nèi)產(chǎn)生體積較大的氣泡,不利于氣體的進(jìn)一步處理和清洗,所以本發(fā)明在氣體導(dǎo)流腔內(nèi)設(shè)置了過濾體,過濾體通過吸附的處理液進(jìn)行待處理氣體的進(jìn)一步打散、過濾和處理直至被排出,解決了現(xiàn)有技術(shù)中無法高效快速的處理體積較大的氣體的問題。
進(jìn)一步的,還包括清洗裝置,所述清洗裝置架設(shè)于出氣腔內(nèi)部,清洗裝置表面開有多個噴水孔,通過高壓水泵向清洗裝置內(nèi)泵入與外殼底部相同的處理液后經(jīng)噴水孔噴入出氣腔再次清洗處理過后的氣體。
進(jìn)一步的,還包括回流塔,所述回流塔包括回流殼體和過濾網(wǎng),所述回流殼體包括下方連接進(jìn)氣管的導(dǎo)氣口、頂端連接出氣管的排氣口、底部連接出液管的出液口,回流殼體內(nèi)豎直設(shè)有一根周身開有噴液孔的注液管,所述注液管末端位于出液口上方,所述過濾網(wǎng)均勻間隔的套設(shè)分布于注液管周身,進(jìn)入回流塔的氣體經(jīng)導(dǎo)氣口進(jìn)入回流殼體內(nèi),處理液進(jìn)入注液管后經(jīng)噴液孔噴入回流殼體與回流殼體內(nèi)的氣體反應(yīng)處理并經(jīng)過濾網(wǎng)的分離處理后經(jīng)出液口回流至回流外殼內(nèi),被處理完成的氣體經(jīng)排氣口排出回流塔。
清洗裝置和回流塔的設(shè)計使得整體氣體處理機(jī)在處理氣體時的處理效果更好,同時能回流回收重新利用處理液的回流設(shè)計也提高了處理液的利用率和使用量,減少對環(huán)境的污染的同時降低氣體處理機(jī)的使用成本。
進(jìn)一步的,所述外殼底部采用呈倒圓臺形的收集腔收集導(dǎo)出處理液。
進(jìn)一步的,所述外殼底部采用截面為梯形的收集腔收集導(dǎo)出處理液。
倒圓臺形的收集腔和截面為梯形的收集腔能有效方便排出處理液,與此同時,還在氣體處理過后能集中沉淀固體雜質(zhì)顆粒并順利排出,減少外殼底部的雜質(zhì)顆粒沉淀,影響氣體處理機(jī)的處理效果和速度。
本發(fā)明的有益效果是:相較于現(xiàn)有的氣體處理技術(shù),本發(fā)明通過處理導(dǎo)向裝置將待處理氣體導(dǎo)入處理液進(jìn)行清洗處理,避免了傳統(tǒng)技術(shù)中因不能完全處理大量氣體的內(nèi)部而出現(xiàn)的處理不完全,處理效率低下的情況,并設(shè)計了若干道輔助清洗處理流程以進(jìn)一步提高整體氣體處理機(jī)清洗處理速度和效率的同時確保整體氣體處理機(jī)工作性能穩(wěn)定,氣體處理機(jī)在現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上具有結(jié)構(gòu)簡單、分隔處理效果好、處理速度快、處理次數(shù)少的優(yōu)點(diǎn)。
附圖說明
圖1是氣體處理機(jī)去除外殼側(cè)板后的整體結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是氣體處理機(jī)處理導(dǎo)向裝置的整體結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3是氣體處理機(jī)回流塔的剖視圖。
圖4是氣體處理機(jī)氣體分隔處理裝置的整體結(jié)構(gòu)示意圖。
圖5是氣體處理機(jī)氣體分隔處理裝置的爆炸結(jié)構(gòu)示意圖。
圖6是氣體處理機(jī)外殼底部一種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖7是氣體處理機(jī)外殼底部一種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
附圖中編號表示的零部件名稱如下:1、外殼;1.1、進(jìn)氣口;1.2、出氣口;1.4、處理液排放口;1.5、隔板;1.6、進(jìn)氣腔;1.7、出氣腔;2、處理導(dǎo)向裝置;2.1、傳動導(dǎo)軌;2.2、傳送帶;2.3、導(dǎo)氣單元;3、氣體分隔處理裝置;3.1、分隔片;3.2、過濾體;3.3、導(dǎo)流部;3.4、延伸部;3.5、連接件;3.7、通氣孔;4、清洗裝置;4.1、噴水孔;5、回流塔;5.1、回流殼體;5.2、導(dǎo)氣口;5.3、出液口;5.4、噴液孔;5.5、注液管;5.6、過濾網(wǎng);5.7、排氣口。
具體實(shí)施方式
為了使得本發(fā)明實(shí)現(xiàn)的技術(shù)手段,創(chuàng)新特征與功能易于了解,下面將進(jìn)一步闡述本發(fā)明。
如圖1、圖2、圖3、圖4、圖5、圖6和圖7所示,本發(fā)明氣體處理機(jī)的第一種實(shí)施例,包括內(nèi)置有處理液的外殼1、置于外殼1內(nèi)的處理導(dǎo)向裝置2,所述外殼1上開設(shè)有外接進(jìn)氣通道的進(jìn)氣口1.1以及外接出氣通道的出氣口1.2,外殼1底部設(shè)置有處理液排放口1.4,在所述外殼1內(nèi)縱向豎立有隔板1.5,所述隔板1.5下部浸入于處理液內(nèi),隔板1.5將外殼1內(nèi)處理液上方的空腔分隔為進(jìn)氣口1.1所在的進(jìn)氣腔1.6和出氣口1.2所在的出氣腔1.7,所述處理導(dǎo)向裝置2下部浸泡于進(jìn)氣腔1.6下方的處理液內(nèi),待處理氣體從進(jìn)氣口1.1經(jīng)進(jìn)氣腔1.6進(jìn)入處理導(dǎo)向裝置2,并在處理導(dǎo)向裝置2中經(jīng)處理液反應(yīng)處理后導(dǎo)出至出氣腔1.7,并由出氣口1.2排出,所述處理導(dǎo)向裝置2包括電機(jī)、由進(jìn)氣口1.1端斜向下延伸進(jìn)入處理液并橫向架設(shè)在外殼1內(nèi)的傳動導(dǎo)軌2.1、鋪設(shè)于傳動導(dǎo)軌2.1上并由電機(jī)驅(qū)動的傳送帶2.2、連接在傳送帶2.2上并沿傳送帶2.2長度方向分布的若干個導(dǎo)氣單元2.3,待處理氣體經(jīng)進(jìn)氣口1.1進(jìn)入外露在進(jìn)氣腔1.6內(nèi)的導(dǎo)氣單元2.3,在電機(jī)的帶動下,傳送帶2.2運(yùn)動,所述外露在進(jìn)氣腔1.6內(nèi)的導(dǎo)氣單元2.3將待處理氣體帶入處理液,待處理氣體經(jīng)處理液反應(yīng)處理后,在傳送帶2.2的帶動下,通過導(dǎo)氣單元2.3將待處理氣體帶出處理液進(jìn)入出氣腔1.7,再經(jīng)出氣口1.2排出。
為了更好的提升處理效率、提高處理效果,如圖4和圖5所示,在本發(fā)明的一種實(shí)施例中,還設(shè)置了氣體分隔處理裝置3,所述氣體分隔處理裝置3還包括若干層分隔片3.1、過濾體3.2和連接件3.5,若干層分隔片3.1之間上下間隔設(shè)置并通過若干連接件3.5串接,相鄰兩分隔片3.1之間構(gòu)成氣體導(dǎo)流腔,所述過濾體3.2設(shè)于氣體導(dǎo)流腔內(nèi);所述分隔片3.1包括導(dǎo)流部3.3和延伸部3.4,所述導(dǎo)流部3.3一側(cè)端與進(jìn)氣端連接,導(dǎo)流部3.3另一側(cè)端向外延伸出延伸部3.4,所述延伸部3.4表面貫穿開有若干個通氣孔3.7,在處理導(dǎo)向裝置2內(nèi)完成處理的待處理氣體經(jīng)進(jìn)氣端分層進(jìn)入氣體導(dǎo)流腔,在氣體導(dǎo)流腔內(nèi)通過過濾體3.2進(jìn)行過濾和處理,最后經(jīng)延伸部3.4表面的通氣孔3.7排出。安裝完成進(jìn)入使用狀態(tài)后,整體氣體分隔處理裝置3完全浸沒于處理液液面下,待處理的氣體被導(dǎo)入各層氣體導(dǎo)流腔,導(dǎo)入各層氣體導(dǎo)流腔后,與現(xiàn)有技術(shù)類似的,由于被導(dǎo)入氣體導(dǎo)流腔內(nèi)的氣體多為成團(tuán)的氣體,因而容易在氣體導(dǎo)流腔內(nèi)形成成團(tuán)的氣泡,氣泡內(nèi)部的氣體不能完全被處理清潔,故而氣體導(dǎo)流腔內(nèi)的處理液處理待處理氣體的同時,位于導(dǎo)流部3.3下底面且表面粘有絨毛球的過濾體3.2進(jìn)一步過濾待處理氣體中的固體雜質(zhì)顆粒,將大團(tuán)氣體氣泡分離成較小的氣泡,同時,表面粘有絨毛球的過濾體3.2也在一定程度上減緩了待處理氣體排出氣體分隔處理裝置3的速度,加長待處理氣體在氣體分隔處理裝置3內(nèi)的處理時間,提升其過濾處理效果,處理完成的氣體最后經(jīng)由延伸部3.4上的通氣孔3.7排出氣體分隔處理裝置3。
在氣體的處理過程中,仍不可避免的有極小部分氣體在排入出氣腔1.7的時候未被處理,因而為了處理該部分氣體,如圖1所示,在本發(fā)明的一種實(shí)施例中,還設(shè)置了清洗裝置4,所述清洗裝置4架設(shè)于出氣腔1.7內(nèi)部,清洗裝置4表面開有多個噴水孔4.1,通過高壓水泵向清洗裝置4內(nèi)泵入與外殼1底部相同的處理液后經(jīng)噴水孔4.1噴入出氣腔1.7再次清洗處理過后的氣體。通過高壓水泵泵入的處理液直接進(jìn)入外殼1底部的處理液中,在清洗處理氣體的同時完成了對外殼1底部的處理液的補(bǔ)充,提高處理液利用率的同時保證了外殼1底部的處理液的處理效果,減少因?yàn)殚L時間工作處理后,處理液的處理效率降低引起的整體氣體處理機(jī)工作效率降低、處理效果變差的問題。
本發(fā)明的一種實(shí)施例中,為了進(jìn)行氣體的完全處理和補(bǔ)充處理液以提升處理液在外殼底部的處理效果,如圖3所示,還設(shè)置了回流塔5,所述回流塔5包括回流殼體5.1和過濾網(wǎng)5.6,所述回流殼體5.1包括下方連接進(jìn)氣管的導(dǎo)氣口5.2、頂端連接出氣管的排氣口5.7、底部連接出液管的出液口5.3,回流殼體5.1內(nèi)豎直設(shè)有一根周身開有噴液孔5.4的注液管5.5,所述注液管5.5末端位于出液口5.3上方,所述過濾網(wǎng)5.6均勻間隔的套設(shè)分布于注液管5.5周身,進(jìn)入回流塔5的氣體經(jīng)導(dǎo)氣口5.2進(jìn)入回流殼體5.1內(nèi),處理液進(jìn)入注液管5.5后經(jīng)噴液孔5.4噴入回流殼體5.1與回流殼體5.1內(nèi)的氣體反應(yīng)處理并經(jīng)過濾網(wǎng)5.6的分離處理后經(jīng)出液口5.3回流至回流外殼1內(nèi),被處理完成的氣體經(jīng)排氣口5.7排出回流塔5。回流塔5進(jìn)一步補(bǔ)充了外殼1底部的處理液,也將處理完成后的氣體進(jìn)行再次的處理,保證排出的處理后的氣體對環(huán)境影響較小。
如圖6和圖7所示,在本發(fā)明的實(shí)施例中,外殼1底部可采用呈倒圓臺形的收集腔收集導(dǎo)出處理液,外殼1底部也可采用呈倒圓臺形的收集腔收集導(dǎo)出處理液。上大下小的收集腔方便處理液排出的同時,對沉淀在外殼1底部的固體雜質(zhì)也能起到一定的收集作用,避免固體雜質(zhì)沉淀在外殼底部1,減少了固體雜質(zhì)的沉積,減少處理液中固體雜質(zhì)對處理效果的影響。