本發(fā)明涉及核能結(jié)構(gòu)材料抗輻照性能評(píng)價(jià)設(shè)備及方法技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種高溫輻照蠕變裝置。
背景技術(shù):
目前,借助重離子替代中子進(jìn)行材料輻照,模擬核能結(jié)構(gòu)材料的抗輻照性能,是國際上比較公認(rèn)的方法,因?yàn)殡x子輻照具有經(jīng)濟(jì)性,安全性和快捷性等諸多優(yōu)點(diǎn)。利用離子輻照,需要將輻照靶室與加速器束流管道連接。當(dāng)前,國內(nèi)輻照靶室有多種多樣,如普通高溫靶室,利用加熱絲將樣品靶托加熱,這樣被輻照的樣品能夠在高溫下進(jìn)行輻照,模擬材料在高溫輻照情況下,輻照缺陷在高溫環(huán)境中的運(yùn)動(dòng)過程;低溫靶室,利用液氮甚至液氦冷卻樣品靶托,這樣被輻照的樣品能夠在低溫下進(jìn)行輻照,模擬離子碰撞過程中缺陷最初形成狀態(tài);高溫-應(yīng)力輻照裝置,通過對(duì)樣品加載一定程度的載荷,然后在進(jìn)行高溫樣品輻照,這比前面提到的簡單高溫輻照裝置,更進(jìn)一步,模擬材料在核能環(huán)境中的工況。
核能結(jié)構(gòu)材料在實(shí)際應(yīng)用過程中,面臨著高溫、強(qiáng)輻射、熱應(yīng)力等環(huán)境,在這種環(huán)境中,輻射會(huì)導(dǎo)致材料發(fā)生形變,即輻照蠕變。材料在長期服役過程中,輻照蠕變會(huì)導(dǎo)致材料機(jī)械性能降低,嚴(yán)重影響核能安全。核能結(jié)構(gòu)材料的輻照蠕變性能對(duì)評(píng)價(jià)該材料性能至關(guān)重要,到目前為止,國內(nèi)還沒有合適進(jìn)行輻照蠕變研究的靶室,如現(xiàn)有的高溫-應(yīng)力輻照裝置只能夠進(jìn)行粗略加載載荷,更關(guān)鍵的該裝置無法對(duì)材料輻照過程中產(chǎn)生的形變進(jìn)行測量。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足提供高溫輻照蠕變裝置。從而有效解決現(xiàn)有技術(shù)中的問題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采取的技術(shù)方案為:所述的高溫輻照蠕變裝置,其特點(diǎn)是包括高溫靶室,所述的高溫靶室下端設(shè)置有差動(dòng)變壓器和應(yīng)力加載系統(tǒng),高溫靶室上還設(shè)置有觀察窗和束流檢測系統(tǒng),高溫靶室一側(cè)通過真空閘板閥和真空管路與泄漏罐相連,泄漏罐上設(shè)置有觀察窗和束流檢測系統(tǒng),高溫靶室另一側(cè)通過真空管路與常溫靶室相連,常溫靶室上設(shè)置有觀察窗和旋轉(zhuǎn)升降系統(tǒng),常溫靶室通過真空管路與降能系統(tǒng)相連,降能系統(tǒng)通過真空檢測通道與真空維護(hù)系統(tǒng)相連,真空檢測通道上設(shè)置有觀察窗和束流檢測系統(tǒng),真空維護(hù)系統(tǒng)上設(shè)置有真空閘板閥。
所述的高溫靶室的前端中心通過真空管道和法蘭與常溫靶室相連接,高溫靶室的頂端設(shè)置有熱電偶法蘭組件、用于預(yù)留口的法蘭蓋和用于對(duì)靶室側(cè)壁冷卻的上拉桿出水管組件,高溫靶室內(nèi)設(shè)置有承載框架組件,加熱爐組件安裝在承載框架組件上,加熱爐組件上方的承載框架組件上對(duì)應(yīng)設(shè)置有水冷上拉桿組件和負(fù)荷傳感器,加熱爐組件下方的承載框架組件上對(duì)應(yīng)設(shè)置有水冷下拉伸桿組件,上拉桿出水管組件下端與承載框架組件相連且相接處對(duì)應(yīng)設(shè)置有密封銅圈,承載框架組件上還設(shè)置有法蘭八芯插頭組件、高溫靶室艙門水冷組件和熱電偶引出導(dǎo)線,差動(dòng)變壓器安裝在承載框架組件上,高溫靶室下端安裝有加荷機(jī)構(gòu)連接體,加荷機(jī)構(gòu)連接體內(nèi)對(duì)應(yīng)加熱爐組件設(shè)置有水冷下拉桿波紋管組件,水冷下拉伸桿組件延伸入水冷下拉桿波紋管組件內(nèi),應(yīng)力加載系統(tǒng)安裝在加荷機(jī)構(gòu)連接體下方,拉伸機(jī)電機(jī)設(shè)置在應(yīng)力加載系統(tǒng)下部,實(shí)驗(yàn)樣品設(shè)置在加熱爐組件內(nèi)。
所述的常溫靶室通過旋轉(zhuǎn)升降系統(tǒng)中的升降旋轉(zhuǎn)電機(jī)實(shí)現(xiàn)360°旋轉(zhuǎn),升降位移為0-30cm,使常溫靶托上放置多個(gè)樣品;常溫靶室為純銅材料,另外在靶托內(nèi)放置銅管回路,通循環(huán)水,保證了輻照過程中樣品為常溫,所述的高溫靶室內(nèi)的加熱爐組件利用加熱絲環(huán)繞在陶瓷片上分為兩個(gè)半球,實(shí)驗(yàn)樣品設(shè)置在球中心,保證了樣品整體溫度均勻。
所述的負(fù)荷傳感器連接水冷上拉桿組件并通入到加熱爐組件中,加熱爐組件下端連接水冷下拉桿波紋管組件,水冷下拉桿波紋管組件與差動(dòng)變壓器連接,差動(dòng)變壓器下端連接加荷機(jī)構(gòu)連接體,加荷機(jī)構(gòu)連接體由應(yīng)力加載系統(tǒng)通過拉伸機(jī)電機(jī)控制。
所述的束流檢測系統(tǒng)包括設(shè)置在高溫靶室內(nèi)的熒光靶和法拉第筒,高溫靶室外部對(duì)應(yīng)熒光靶和法拉第筒設(shè)置有氣缸,通過氣缸控制熒光靶和法拉第筒的升降,所述的法拉第筒和熒光靶設(shè)置在高溫靶室內(nèi)的被輻照樣品前端10cm處,所述的觀察窗為石英玻璃觀察窗,觀察窗設(shè)置在高溫靶室內(nèi)內(nèi)的熒光靶前端傾斜45°處,同時(shí)安裝有用于觀察束流打到熒光靶時(shí)光斑形貌的攝像頭,熒光靶和法拉第筒將束斑圖像自動(dòng)采集傳輸?shù)接?jì)算機(jī)中,熒光靶和法拉第筒為集成一體結(jié)構(gòu),通過兩套氣動(dòng)系統(tǒng)控制氣動(dòng)法拉第筒和氣動(dòng)熒光靶的行程。
所述的降能系統(tǒng)內(nèi)部兩個(gè)圓片包裹的位置設(shè)有鋁箔旋轉(zhuǎn)片,其將360°分成36份,每10°設(shè)有20×30mm2的鋁膜,鋁膜厚度為2.5-50μm,保證了離子束穿過不同厚度的鋁膜后,在材料中沉積深度不同,保證了從樣品表面到最大損傷深處的范圍內(nèi)形成均勻的損傷區(qū)域,以此更準(zhǔn)確地模擬中子輻照損傷。
所述的應(yīng)力加載系統(tǒng)通過上樣品桿和下樣品桿將實(shí)驗(yàn)樣品固定在一起,上樣品桿固定在高溫靶室腔內(nèi)上表面,下樣品桿連接水冷下拉桿波紋管組件的高靈敏度拉伸機(jī),當(dāng)樣品被固定后,通過對(duì)下樣品桿對(duì)樣品施加50-1000n應(yīng)力,最小加荷分級(jí)為1n,負(fù)荷精度為±0.5%,并在最長100小時(shí)的蠕變?cè)囼?yàn)過程中確保試驗(yàn)穩(wěn)定,數(shù)據(jù)可靠,通過差動(dòng)變壓器和應(yīng)力加載系統(tǒng)中的伺服電機(jī)加滾珠絲杠-螺母完成蠕變?cè)囼?yàn)中施加負(fù)荷的過程,加荷過程中,實(shí)現(xiàn)先加預(yù)負(fù)荷,施加預(yù)負(fù)荷的目的是消除抽真空時(shí)由于墻體的微小變形對(duì)試樣的影響,再加主負(fù)荷,主負(fù)荷亦可大可小,加荷過程平穩(wěn),一旦試樣出現(xiàn)斷裂,系統(tǒng)可減震,對(duì)整個(gè)系統(tǒng)影響能降至最??;在整個(gè)蠕變?nèi)^程中,有負(fù)荷傳感器對(duì)施加負(fù)荷直接數(shù)字顯示并監(jiān)控,通過負(fù)荷的閉環(huán)自動(dòng)調(diào)節(jié)系統(tǒng),將自動(dòng)保持試樣的負(fù)荷不變;高溫拉桿位于真空室內(nèi),滾珠絲杠,伺服電機(jī)位于真空室外;差動(dòng)變壓器安裝在下樣品桿上,精確測量輻照過程中,樣品桿的位移,量程10mm,測量靈敏度2μm,測量精度±0.2%,將在彩色顯示板上一并顯示,真空管道在冷態(tài)條件下空載極限真空度優(yōu)于1×10-5pa;真空漏率優(yōu)于5×10-7pa·l/s;壓升率小于0.8pa/h。
所述的高溫輻照蠕變裝置,其用自行設(shè)計(jì)的控制軟件及數(shù)據(jù)采集處理軟件,實(shí)現(xiàn)計(jì)算機(jī)對(duì)樣品加熱溫度的控制、相應(yīng)蠕變加荷-變形、試樣變形測量、各執(zhí)行元件的動(dòng)作。試驗(yàn)過程中,溫度、負(fù)荷、時(shí)間、變形將自動(dòng)彩色顯示于該裝置的人機(jī)界面彩色觸摸屏中,并可與計(jì)算機(jī)直接通訊。
本發(fā)明的有益效果是:所述的高溫輻照蠕變裝置及溫控方法,其在被輻照樣品的前端,安裝有36片不同厚度的鋁膜,成功地解決了以往重離子輻照在材料內(nèi)部損傷隨深度分布不均勻的問題;樣品桿與高靈敏度拉伸機(jī)連接,成功地實(shí)現(xiàn)了對(duì)被輻照樣品加載載荷量的精確控制;在樣品桿上,安裝有差動(dòng)變壓器,成功地實(shí)現(xiàn)了高能重離子輻照材料形變量的在線測量。本發(fā)明成功地填補(bǔ)了國內(nèi)輻照蠕變研究技術(shù)裝備上的空白,為核能結(jié)構(gòu)材料高溫輻照蠕變性能快速、有效評(píng)價(jià)提供了研究平臺(tái),為我國核材料研究提供了裝備保障。
附圖說明:
圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)原理示意圖;
圖2是本發(fā)明圖1中的高溫靶室剖視結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3是本發(fā)明圖2的右視結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4是本發(fā)明圖2的左視結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5是本發(fā)明圖2的俯視結(jié)構(gòu)示意圖;
圖6是本發(fā)明的實(shí)施方法原理示意圖。
圖中所示:1.真空閘板閥;2.真空維護(hù)系統(tǒng);3.束流檢測系統(tǒng);4.觀察窗;5.真空檢測通道;6.降能系統(tǒng);7.常溫靶室;7-1.旋轉(zhuǎn)升降系統(tǒng);8.高溫靶室;8-1.差動(dòng)變壓器;8-2.應(yīng)力加載系統(tǒng);9.泄漏罐;10.拉伸機(jī)電機(jī);11.熒光靶;12.法拉第筒;13.氣缸;14.法蘭蓋;15.上拉桿出水管組件;16.負(fù)荷傳感器;17.密封銅圈;18.法蘭八芯插頭組件;19.承載框架組件;20.水冷上拉桿組件;21.加熱爐組件;22.熱電偶引出導(dǎo)線;23.水冷下拉桿波紋管組件;24.加荷機(jī)構(gòu)連接體;25.熱電偶法蘭組件;26.高溫靶室艙門水冷組件;27.實(shí)驗(yàn)樣品;28.水冷下拉伸桿組件。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖所示之最佳實(shí)例作進(jìn)一步詳述:
如圖1至5所示,所述的高溫輻照蠕變裝置,其特點(diǎn)是包括高溫靶室8,所述的高溫靶室8下端設(shè)置有差動(dòng)變壓器8-1和應(yīng)力加載系統(tǒng)8-2,高溫靶室8上還設(shè)置有觀察窗4和束流檢測系統(tǒng)3,高溫靶室8一側(cè)通過真空閘板閥1和真空管路與泄漏罐9相連,泄漏罐9上設(shè)置有觀察窗4和束流檢測系統(tǒng)3,高溫靶室8另一側(cè)通過真空管路與常溫靶室7相連,常溫靶室7上設(shè)置有觀察窗4和旋轉(zhuǎn)升降系統(tǒng)3,常溫靶室7通過真空管路與降能系統(tǒng)6相連,降能系統(tǒng)6通過真空檢測通道5與真空維護(hù)系統(tǒng)2相連,真空檢測通道5上設(shè)置有觀察窗4和束流檢測系統(tǒng)3,真空維護(hù)系統(tǒng)2上設(shè)置有真空閘板閥1。
所述的高溫靶室8的前端中心通過真空管道和法蘭與常溫靶室7相連接,高溫靶室8的頂端設(shè)置有熱電偶法蘭組件25、用于預(yù)留口的法蘭蓋14和用于對(duì)靶室側(cè)壁冷卻的上拉桿出水管組件15,高溫靶室8內(nèi)設(shè)置有承載框架組件19,加熱爐組件21安裝在承載框架組件19上,加熱爐組件21上方的承載框架組件19上對(duì)應(yīng)設(shè)置有水冷上拉桿組件20和負(fù)荷傳感器16,加熱爐組件21下方的承載框架組件19上對(duì)應(yīng)設(shè)置有水冷下拉伸桿組件28,上拉桿出水管組件15下端與承載框架組件19相連且相接處對(duì)應(yīng)設(shè)置有密封銅圈17,承載框架組件19上還設(shè)置有法蘭八芯插頭組件18、高溫靶室艙門水冷組件26和熱電偶引出導(dǎo)線22,差動(dòng)變壓器8-1安裝在承載框架組件19上,高溫靶室8下端安裝有加荷機(jī)構(gòu)連接體24,加荷機(jī)構(gòu)連接體24內(nèi)對(duì)應(yīng)加熱爐組件21設(shè)置有水冷下拉桿波紋管組件23,水冷下拉伸桿組件28延伸入水冷下拉桿波紋管組件23內(nèi),應(yīng)力加載系統(tǒng)8-2安裝在加荷機(jī)構(gòu)連接體24下方,拉伸機(jī)電機(jī)10設(shè)置在應(yīng)力加載系統(tǒng)8-2下部,實(shí)驗(yàn)樣品27設(shè)置在加熱爐組件21內(nèi)。
所述的常溫靶室7通過旋轉(zhuǎn)升降系統(tǒng)7-1中的升降旋轉(zhuǎn)電機(jī)實(shí)現(xiàn)360°旋轉(zhuǎn),升降位移為0-30cm,使常溫靶托7上放置多個(gè)樣品;常溫靶室7為純銅材料,另外在靶托內(nèi)放置銅管回路,通循環(huán)水,保證了輻照過程中樣品為常溫,所述的高溫靶室8內(nèi)的加熱爐組件利用加熱絲環(huán)繞在陶瓷片上分為兩個(gè)半球,實(shí)驗(yàn)樣品設(shè)置在球中心,保證了樣品整體溫度均勻。
所述的負(fù)荷傳感器16連接水冷上拉桿組件并通入到加熱爐組件中,加熱爐組件下端連接水冷下拉桿波紋管組件,水冷下拉桿波紋管組件與差動(dòng)變壓器連接,差動(dòng)變壓器下端連接加荷機(jī)構(gòu)連接體,加荷機(jī)構(gòu)連接體由應(yīng)力加載系統(tǒng)通過拉伸機(jī)電機(jī)控制。
所述的束流檢測系統(tǒng)3包括設(shè)置在高溫靶室8內(nèi)的熒光靶11和法拉第筒12,高溫靶室8外部對(duì)應(yīng)熒光靶11和法拉第筒12設(shè)置有氣缸13,通過氣缸13控制熒光靶11和法拉第筒12的升降,所述的法拉第筒12和熒光靶11設(shè)置在高溫靶室8內(nèi)的被輻照樣品前端10cm處,所述的觀察窗4為石英玻璃觀察窗,觀察窗設(shè)置在高溫靶室內(nèi)內(nèi)的熒光靶前端傾斜45°處,同時(shí)安裝有用于觀察束流打到熒光靶時(shí)光斑形貌的攝像頭,熒光靶和法拉第筒將束斑圖像自動(dòng)采集傳輸?shù)接?jì)算機(jī)中,熒光靶和法拉第筒為集成一體結(jié)構(gòu),通過兩套氣動(dòng)系統(tǒng)控制氣動(dòng)法拉第筒和氣動(dòng)熒光靶的行程。
所述的降能系統(tǒng)內(nèi)部兩個(gè)圓片包裹的位置設(shè)有鋁箔旋轉(zhuǎn)片,其將360°分成36份,每10°設(shè)有20×30mm2的鋁膜,鋁膜厚度為2.5-50μm,保證了離子束穿過不同厚度的鋁膜后,在材料中沉積深度不同,保證了從樣品表面到最大損傷深處的范圍內(nèi)形成均勻的損傷區(qū)域,以此更準(zhǔn)確地模擬中子輻照損傷。
所述的應(yīng)力加載系統(tǒng)通過上樣品桿和下樣品桿將實(shí)驗(yàn)樣品固定在一起,上樣品桿固定在高溫靶室腔內(nèi)上表面,下樣品桿連接水冷下拉桿波紋管組件的高靈敏度拉伸機(jī),當(dāng)樣品被固定后,通過對(duì)下樣品桿對(duì)樣品施加50-1000n應(yīng)力,最小加荷分級(jí)為1n,負(fù)荷精度為±0.5%,并在最長100小時(shí)的蠕變?cè)囼?yàn)過程中確保試驗(yàn)穩(wěn)定,數(shù)據(jù)可靠,通過差動(dòng)變壓器和應(yīng)力加載系統(tǒng)中的伺服電機(jī)加滾珠絲杠-螺母完成蠕變?cè)囼?yàn)中施加負(fù)荷的過程,加荷過程中,實(shí)現(xiàn)先加預(yù)負(fù)荷,施加預(yù)負(fù)荷的目的是消除抽真空時(shí)由于墻體的微小變形對(duì)試樣的影響,再加主負(fù)荷,主負(fù)荷亦可大可小,加荷過程平穩(wěn),一旦試樣出現(xiàn)斷裂,系統(tǒng)可減震,對(duì)整個(gè)系統(tǒng)影響能降至最??;在整個(gè)蠕變?nèi)^程中,有負(fù)荷傳感器對(duì)施加負(fù)荷直接數(shù)字顯示并監(jiān)控,通過負(fù)荷的閉環(huán)自動(dòng)調(diào)節(jié)系統(tǒng),將自動(dòng)保持試樣的負(fù)荷不變;高溫拉桿位于真空室內(nèi),滾珠絲杠,伺服電機(jī)位于真空室外;差動(dòng)變壓器安裝在下樣品桿上,精確測量輻照過程中,樣品桿的位移,量程10mm,測量靈敏度2μm,測量精度±0.2%,將在彩色顯示板上一并顯示,真空管道在冷態(tài)條件下空載極限真空度優(yōu)于1×10-5pa;真空漏率優(yōu)于5×10-7pa·l/s;壓升率小于0.8pa/h。
所述的高溫輻照蠕變裝置,其用自行設(shè)計(jì)的控制軟件及數(shù)據(jù)采集處理軟件,實(shí)現(xiàn)計(jì)算機(jī)對(duì)樣品加熱溫度的控制、相應(yīng)蠕變加荷-變形、試樣變形測量、各執(zhí)行元件的動(dòng)作。試驗(yàn)過程中,溫度、負(fù)荷、時(shí)間、變形將自動(dòng)彩色顯示于該裝置的人機(jī)界面彩色觸摸屏中,并可與計(jì)算機(jī)直接通訊。
如圖6所示,所述的高溫輻照蠕變裝置,其在實(shí)施時(shí),首先安裝樣品,關(guān)閉高溫靶室,抽真空,設(shè)定溫度參數(shù),對(duì)樣品加熱,加載應(yīng)力,打開插板閥,利用法拉第筒和熒光靶觀察束流情況,溫度、應(yīng)力、束流合適后,進(jìn)行輻照,測量輻照環(huán)境下材料蠕變性能,通過自控系統(tǒng),調(diào)節(jié)實(shí)驗(yàn)參數(shù),獲取實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)。
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例,并不用以限制本發(fā)明,凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。