分析裝置及電子設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及分析裝置以及電子設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002] 近年來，在醫(yī)療診斷和食物檢查等中的需求日益增大，要求開發(fā)小型、高速的傳感 技術(shù)。雖然已經(jīng)研宄了以電化學(xué)方法為代表的各種各樣類型的傳感器，但由于可集成化、 低成本而且不選擇測定環(huán)境這些理由，對采用了表面等離子體共振（SPR :Surface Plasmon Resonance)的傳感器的關(guān)心不斷在提高。例如，已知有使用在設(shè)置于全反射型棱鏡表面的 金屬薄膜上所產(chǎn)生的表面等離子體而檢測在抗原抗體反應(yīng)中有無抗原的吸附等有無物質(zhì) 吸附的傳感器。
[0003] 另外，也已經(jīng)研宄使用表面增強拉曼散射（SERS : Surf ace Enhanced Raman Scattering)，檢測附著于傳感器部位的物質(zhì)的拉曼散射而進(jìn)行附著物質(zhì)的鑒定等的方法。 所謂SERS就是在納米級的金屬的表面上拉曼散射光被增強為10 2~10 14倍的現(xiàn)象。當(dāng)在 成為標(biāo)目標(biāo)的物質(zhì)吸附于該表面的狀態(tài)下照射激光等激發(fā)光時，從激發(fā)光的波長僅偏離了 相當(dāng)于物質(zhì)（分子）的振動能的波長的光（拉曼散射光）被散射。如果對該散射光進(jìn)行分 光處理，則能夠獲得物質(zhì)的種類（分子種類）所固有的光譜（指紋圖譜）。通過分析該指紋 圖譜的位置和形狀，能夠極其高靈敏度地鑒定物質(zhì)。
[0004] 這種傳感器優(yōu)選基于通過光照射而被激發(fā)的表面等離子體的光的增強度大。
[0005] 例如，在專利文獻(xiàn)1中，具有局域型表面等離子體（LSP localized Surface Plasmon)與表面等離子體激元（SPP :Surface Plasmon Polariton)的相互作用的記載，并 公開了 GSPP (Gap type Surface Plasmon Polariton，間隙型表面等離子體激元）模型的一 些參數(shù)。
[0006] 在專利文獻(xiàn)1的GSPP中，具有引起等離子體共振的粒子的大小為50~200nm且 比激發(fā)波長短的周期性的粒子間間隔、且將粒子層與鏡層隔開的電介質(zhì)厚度為2~40nm的 尺寸，形成由在粒子尺寸上增加了 0~20nm后的粒子間間隔所產(chǎn)生的細(xì)密填充等離子體共 振粒子的有規(guī)則的陣列。
[0007] 然而，已經(jīng)知道，在專利文獻(xiàn)1中公開的結(jié)構(gòu)的傳感器中，電場增強度的波長依賴 性（增強度光譜或反射率光譜）中的峰雖然寬，但是整體顯示低而不充分的增強度。另外， 在該文獻(xiàn)中公開的傳感器中，在多個粒子的尺寸不均勻的情況（產(chǎn)生了偏差的情況）下，有 時導(dǎo)致增強度光譜中的峰的波長大大地偏移。
[0008] 在先技術(shù)文獻(xiàn)
[0009] 專利文獻(xiàn)
[0010] 專利文獻(xiàn)1 :日本專利特表2007-538264號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0011] 本發(fā)明的幾種方式所涉及的目的之一在于，提供在增強度光譜中能夠獲得高增強 度，進(jìn)而能夠高靈敏度地檢測、分析目標(biāo)物質(zhì)的分析裝置以及電子設(shè)備。另外，本發(fā)明的幾 種方式所涉及的目的之一在于，提供目標(biāo)物質(zhì)容易附著于成為高增強度的位置的分析裝置 以及電子設(shè)備。并且，本發(fā)明的幾種方式所涉及的目的之一在于，提供制造上的偏差的允許 范圍大的分析裝置以及電子設(shè)備。
[0012] 本發(fā)明為了解決上述問題的至少一部分而做出，能夠作為以下的方式或應(yīng)用例而 實現(xiàn)。
[0013] 本發(fā)明所涉及的一種方式的分析裝置具備：電場增強元件，包括金屬層、設(shè)于所述 金屬層上并使激發(fā)光透過的透光層、及設(shè)于所述透光層上并沿第一方向和與所述第一方向 交叉的第二方向排列的多個金屬粒子；光源，將沿所述第一方向偏振的直線偏振光、沿所述 第二方向偏振的直線偏振光和圓偏振光中的至少一個作為所述激發(fā)光而照射至所述電場 增強元件；以及檢測器，檢測從所述電場增強元件發(fā)射的光，在所述金屬粒子上激發(fā)的局域 型表面等離子體和在所述金屬層與所述透光層的界面上激發(fā)的傳播型表面等離子體電磁 地相互作用，將所述透光層的厚度設(shè)為G [nm]、將所述透光層的有效折射率設(shè)為nrff、將所述 激發(fā)光的波長設(shè)為A Jnm]時，滿足下述式（1)的關(guān)系：
[0014] 20[nm] < G ? (neff/l. 46) < 140[nm] ?(人 iASSlinm]) ? ? ? (1)
[0015] 根據(jù)這種分析裝置，在增強度光譜中能夠獲得非常高的增強度，能夠高靈敏度地 檢測、分析目標(biāo)物質(zhì)。另外，由于這樣的分析裝置的能夠獲得高增強度的位置至少存在于金 屬粒子的上表面?zhèn)龋虼四繕?biāo)物質(zhì)容易接觸于該位置，因而能夠高靈敏度地檢測、分析目標(biāo) 物質(zhì)。并且，這種分析裝置由于滿足40[nm]彡G* (neffneff/1.46)這樣的關(guān)系，因而能夠 取得較大的制造上的偏差的允許范圍。
[0016] 本發(fā)明所涉及的一種方式的分析裝置具備：電場增強元件，包括金屬層、設(shè)于所述 金屬層上并使激發(fā)光透過的透光層、及設(shè)于所述透光層上并沿第一方向和與所述第一方向 交叉的第二方向排列的多個金屬粒子；光源，將沿所述第一方向偏振的直線偏振光、沿所述 第二方向偏振的直線偏振光和圓偏振光中的至少一個作為所述激發(fā)光而照射至所述電場 增強元件上；以及檢測器，檢測從所述電場增強元件發(fā)射的光，在所述金屬粒子上激發(fā)的局 域型表面等離子體和在所述金屬層與所述透光層的界面上激發(fā)的傳播型表面等離子體電 磁地相互作用，所述透光層由通過m層的層層疊而成的層疊體構(gòu)成，m是自然數(shù)，所述透光 層從所述金屬粒子側(cè)向所述金屬層側(cè)按照第一透光層、第二透光層、…、第m-1透光層、第 m透光層的順序?qū)盈B，將所述金屬粒子的周邊的折射率設(shè)為rv將所述金屬層的法線方向與 所述激發(fā)光的入射方向所成的角設(shè)為0 〇、將所述金屬層的法線方向與所述第m透光層中的 所述激發(fā)光的折射光朝向所述金屬層的入射方向所成的角設(shè)為0 m、將所述第m透光層的折 射率設(shè)為nm、將所述第m透光層的厚度設(shè)為Gjnm]、將所述激發(fā)光的波長設(shè)為Xjnm]時， 滿足下述式（2)以及式（3)的關(guān)系：
[0017] n0 ? sin 9 0= n m ? sin 0 m ? ? ? (2)
[0018] 數(shù)學(xué)式1
【主權(quán)項】
1. 一種分析裝置，其特征在于