用于確定表面的清潔度的系統(tǒng)和方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本公開(kāi)一般設(shè)及用于確定表面的清潔度的系統(tǒng)和方法，并且，具體地講，用于使用 獨(dú)特的表面標(biāo)記系統(tǒng)來(lái)確定例如醫(yī)療環(huán)境中的環(huán)境表面的清潔度。本公開(kāi)還設(shè)及表面標(biāo)記 系統(tǒng)和用于將此類標(biāo)記系統(tǒng)施用到感興趣的表面的施用裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 在醫(yī)療場(chǎng)所中，微生物可能會(huì)從被感染的個(gè)體釋放到表面（例如固體表面、設(shè)備 表面、衣服等）上，或相反。一旦表面被微生物污染，與被污染表面接觸就會(huì)輕易地將微生 物轉(zhuǎn)移至其他位置，例如另一表面、個(gè)體、設(shè)備、食物等。此外，此類場(chǎng)所的患者中的一些受 到病原微生物感染，從而將病原微生物帶入此類場(chǎng)所中。此類微生物污染和/或轉(zhuǎn)移尤其 令人擔(dān)憂，因?yàn)樵诖祟悎?chǎng)所中的許多人（如患者）都處于病態(tài)并且免疫力可能較差。因此 此類個(gè)體因感染污染的微生物而患病的風(fēng)險(xiǎn)增大。
[0003] 在醫(yī)院或醫(yī)療機(jī)構(gòu)中的受污染表面已經(jīng)被發(fā)現(xiàn)有助于多種微生物或病原體的傳 染病和地方病的傳播，其包括艱難梭狀芽胞桿菌、耐萬(wàn)古霉素腸球菌（VER)、耐甲氧西林金 黃色釀弄葡萄球菌（MRSA)、鮑曼不動(dòng)桿菌屬，和假單胞菌銅綠，W及諾羅病毒的傳染病傳 播。此類病原體已與醫(yī)療獲得性感染（HAI)相關(guān)聯(lián)。雖然在此類醫(yī)療機(jī)構(gòu)中，環(huán)境清潔和 消毒實(shí)踐已經(jīng)成為常規(guī)，但是仍然需要靈巧的、結(jié)構(gòu)化的并且穩(wěn)健的用于監(jiān)測(cè)環(huán)境的清潔 度W及用于監(jiān)測(cè)各種清潔和/或消毒過(guò)程的效果的監(jiān)測(cè)系統(tǒng)和方法。
[0004] -些現(xiàn)有的監(jiān)測(cè)系統(tǒng)在透明的載體中采用UV染料標(biāo)記系統(tǒng)。來(lái)自該UV染料的輝 光僅可使用適當(dāng)?shù)牟豢梢?jiàn)光觀察，使得在該清潔過(guò)程期間該染料能夠?qū)Νh(huán)境服務(wù)巧V巧人 員不可見(jiàn)。通常，EVS管理員可W在清潔之前將該標(biāo)記系統(tǒng)施用到病房、手術(shù)室等內(nèi)的多個(gè) 表面。已被標(biāo)記的表面對(duì)該EVS清潔人員是未知的。在清潔之后，該EVS管理員（例如，值 班經(jīng)理）可W回到具有不可見(jiàn)光的房間W檢查所標(biāo)記的表面并且確定該標(biāo)記表面是否從 感興趣的表面徹底去除。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明人已經(jīng)確定一體的環(huán)境衛(wèi)生監(jiān)測(cè)解決方案包括可見(jiàn)標(biāo)記系統(tǒng)的使用。本公 開(kāi)的表面標(biāo)記系統(tǒng)可W是半定量的并且用于確定表面是否已經(jīng)被充分地進(jìn)行物理清潔。此 類表面可包括環(huán)境表面（例如，墻、設(shè)備、家具等）或皮膚表面（例如，在監(jiān)測(cè)醫(yī)療人員洗手 時(shí)）。如此，該表面標(biāo)記系統(tǒng)可W是測(cè)量一線環(huán)境服務(wù)巧V巧人員符合各種清潔方案的工 具。視覺(jué)檢測(cè)可用于監(jiān)測(cè)給定環(huán)境的美學(xué)外觀。此外，可用的并且易用的用于確定環(huán)境的 清潔度和/或用于確定與清潔方案的一致性的一體監(jiān)測(cè)解決方案對(duì)于EVS恰當(dāng)?shù)毓芾砬鍧?醫(yī)療機(jī)構(gòu)諸如醫(yī)院是重要的。
[0006] 本公開(kāi)的表面標(biāo)記系統(tǒng)可W用作環(huán)境污垢的替代品。它們可W被設(shè)計(jì)成隱蔽的。 本公開(kāi)的表面標(biāo)記系統(tǒng)采用逆向反射微球而不是UV染料，并且因此不需要?？诘墓庠磥?lái) 確定清潔結(jié)果。
[0007] 本公開(kāi)的一些方面提供用于確定表面的清潔度的方法。該方法可包括提供包含分 散在載體中或分配在載體上的多個(gè)逆向反射微球的表面標(biāo)記系統(tǒng)；將該表面標(biāo)記系統(tǒng)施用 到表面上的至少一個(gè)離散部位；在清潔之后，用可見(jiàn)光照明該表面上的至少一個(gè)離散部位； W及響應(yīng)于照明該至少一個(gè)離散部位來(lái)檢測(cè)從該表面上的至少一個(gè)離散部位發(fā)出的逆向 反射，W確定該表面的清潔效果。
[0008] 本公開(kāi)的一些方面提供用于施用表面標(biāo)記系統(tǒng)的施用裝置。該施用裝置可包括容 器，該容器限定貶存器；表面標(biāo)記系統(tǒng)，該表面標(biāo)記系統(tǒng)位于該貶存器中，該表面標(biāo)記系統(tǒng) 包含分散在載體中或分配在載體上的多個(gè)逆向反射微球；W及分配器，該分配器被構(gòu)造成 用于從該貶存器分配該表面標(biāo)記系統(tǒng)。
[0009] 通過(guò)考慮【具體實(shí)施方式】和附圖，本發(fā)明的其它特征和方面將變得顯而易見(jiàn)。
【附圖說(shuō)明】
[0010] 圖1示出具有多個(gè)環(huán)境表面的病房和可將表面標(biāo)記系統(tǒng)施用至其的多個(gè)離散部 位。
[0011] 圖2是沿圖1的線2-2截取的圖1的離散部位特寫(xiě)示意性剖視圖，該離散部位已 被標(biāo)記有根據(jù)本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例的標(biāo)記系統(tǒng)。
[0012] 圖3是描述根據(jù)本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例的確定表面的清潔度的方法的流程圖。
[0013] 圖4至圖18示出根據(jù)實(shí)例的用于多種表面上的多個(gè)表面標(biāo)記系統(tǒng)的歸一化像素 頻率對(duì)像素強(qiáng)度。
[0014] 圖19是如在實(shí)例部分中描述的實(shí)例3的逆向反射微球的顯微照片。
[0015] 圖20是如在實(shí)例部分中描述的比較例C3的微粒的顯微照片。
[0016] 圖21是根據(jù)本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例的用于表面標(biāo)記系統(tǒng)的施用裝置的透視圖。
[0017] 圖22是根據(jù)本公開(kāi)的另一個(gè)實(shí)施例的用于表面標(biāo)記系統(tǒng)的施用裝置的透視圖。
[0018] 圖23是根據(jù)本公開(kāi)的另一個(gè)實(shí)施例的用于表面標(biāo)記系統(tǒng)的施用裝置的透視圖。
[0019] 圖24是根據(jù)本公開(kāi)的另一個(gè)實(shí)施例的用于表面標(biāo)記系統(tǒng)的施用裝置的透視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0020] 在詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的任何實(shí)施例之前，應(yīng)當(dāng)理解本發(fā)明在其應(yīng)用時(shí)并不受限于下 文描述中提及的或下列附圖中所示的部件構(gòu)造和布置細(xì)節(jié)。本發(fā)明可W具有其它實(shí)施例， 并且能夠W各種方式實(shí)踐或?qū)嵤?。另外，本文所用的措辭和術(shù)語(yǔ)的目的在于描述，而不應(yīng)當(dāng) 被視作具有限制性。本文中所用的"包括"、"包含"或"具有"W及它們的變型意在涵蓋其 后所列出的物品及其等同物品W及附加物品。除非另有規(guī)定或限制，否則術(shù)語(yǔ)"禪接"及其 變型被廣泛地使用并涵蓋直接的禪接和間接的禪接。應(yīng)當(dāng)理解，可W采用其他實(shí)施例，并且 可W進(jìn)行結(jié)構(gòu)改變或邏輯改變，而不脫離本發(fā)明范圍。此外，諸如"前"、"后"、"頂部"、"底 部"之類的術(shù)語(yǔ)僅用于描述元件彼此的關(guān)系，而決不用來(lái)描述裝置的具體取向，也不用來(lái)指 示或暗示裝置的必要或需要的取向，或用來(lái)規(guī)定本文所述發(fā)明在使用過(guò)程中的操作、安裝、 顯示或設(shè)置方式。
[0021] 本公開(kāi)一般設(shè)及基于可見(jiàn)光的表面標(biāo)記系統(tǒng)、用于將此類表面標(biāo)記系統(tǒng)施用到環(huán) 境表面的施用裝置，W及用于例如通過(guò)使用此類表面標(biāo)記系統(tǒng)確定表面的清潔度和/或確 定與清潔方案的一致性。
[0022] 本公開(kāi)的方法可包括提供包含逆向反射微球的此類表面標(biāo)記系統(tǒng)；將表面標(biāo)記系 統(tǒng)施用到期望表面上的離散部位，從而使得能夠進(jìn)行清潔過(guò)程；在清潔之后，用可見(jiàn)光照明 相同的離散部位；W及響應(yīng)于所述照明來(lái)檢測(cè)從上述的離散部位發(fā)出的逆向反射的量，W 便基于由保留在該表面上的離散部位處的表面標(biāo)記系統(tǒng)所產(chǎn)生的逆向反射的量來(lái)確定清 潔過(guò)程的效果?？稍谝曈X(jué)上和/或自動(dòng)地執(zhí)行檢測(cè)，例如，使用能夠發(fā)出可見(jiàn)光并且可捕獲 逆向反射性數(shù)據(jù)的裝置，該裝置諸如后續(xù)可使用適當(dāng)?shù)能浖M(jìn)行分析的亮度、逆向反射、強(qiáng) 度、圖像等。
[0023] 逆向反射制品使得入射光朝向光源返回。在本公開(kāi)中的逆向反射性由多個(gè)微小小 珠或微球提供，其中所述透明微小小珠或微球的折射率為光源從其入射的介質(zhì)的折射率的 兩倍。在該些條件下，該球體表面表現(xiàn)為具有逆向反射所需曲率的凹球面鏡。然而，反射率 不需要為環(huán)境介質(zhì)的反射率的兩倍來(lái)實(shí)現(xiàn)逆向反射。由于小珠具有一定量的球形偏離，因 此當(dāng)小珠的反射率是環(huán)境的反射率的至少1.5倍時(shí)，將存在自小珠的中屯、線起的半徑，其 中入射光的一部分聚焦在球體的后表面處從而產(chǎn)生逆向反射光。
[0024] 在本公開(kāi)中，也可化圍過(guò)與反射劑（諸如涂覆的侶層）配合的多個(gè)微小小珠或微 球（例如，由玻璃制成的）提供逆向反射性。此類涂層可為小珠的外表面上的部分涂層。進(jìn) 入小珠的暴露部分（例如，未涂覆的）中的入射光通過(guò)小珠聚焦到反射劑上。反射劑通過(guò) 小珠將入射光反射回，導(dǎo)致光通過(guò)小珠的暴露部分在與入射方向相反的方向上離開(kāi)。
[0025] 本公開(kāi)的微球（或"小珠"）在外形上是基本上球形的，W提供均勻且有效的逆向 反射。例如，本公開(kāi)的微球通常通過(guò)暴露于球化處理工藝諸如烙融球化處理工藝而形成。 該微球（即，未涂覆的部分）還優(yōu)選為高度透明的，W最小化光吸收，使得大百分比的入射 光被逆向反射。該微球通?；緹o(wú)色，但也可W其它方式上色或著色。該微球可W由玻璃、 非玻璃態(tài)的陶瓷組合物或合成樹(shù)脂制成。一般來(lái)講，優(yōu)選玻璃微球或陶瓷微球，因?yàn)橄啾扔?由合成樹(shù)脂制成的微球，它們趨于更硬并更耐用，并且趨于具有更合適的折射率。在W下美 國(guó)專利中公開(kāi)了可用于本發(fā)明的微球?qū)嵗?，175, 224, 2, 461，011，2, 726, 161，2, 842, 446， 2, 853, 393,2, 870, 030,2, 939, 797, 2, 965, 921，2, 992, 122, 3, 468, 681，3, 946, 130， 4, 192, 576,4, 367, 919,4, 564, 556,4, 758, 469,4, 772, 511W及 4, 931，414。該些專利的公 開(kāi)內(nèi)容W引用方式并入本文。
[0026] 在一些實(shí)施例中，該微球可W具有約30微米至200微米的平均直徑，在一些實(shí)施 例中，約50微米至150微米，W及在一些實(shí)施例中，約10微米至100微米。小于W上范圍 的微球趨于提供較低水平的逆向反射，并且大于該范圍的微球可W賦予該表面標(biāo)記系統(tǒng)不 期望的粗趟質(zhì)地。用于本公開(kāi)的微球可W具有約1. 5至3. 0的折射率，在一些實(shí)施例中，約 1. 6至22,W及在一些實(shí)施例中，約1. 7至2. 0。
[0027] 在一些實(shí)施例中，該微球可W涂覆有鏡面反射材料W增強(qiáng)反射。多種材料可用于 提供鏡面反射金屬層。該些材料包括元素形式的侶、銀、銘、鑲、儀、金、錫、鑲、鶴等等。
[0028] 侶和銀是用于反射層的優(yōu)選材料，因?yàn)?