針對(duì)高反射物體的附著規(guī)則圖案的光源裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種附著規(guī)則圖案的光源裝置。特別是涉及一種針對(duì)高反射物體的附著規(guī)則圖案的光源裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]所述高反射物體定義為表面對(duì)于光線的反射率等于I或接近于I的物體，即物體表面具有鏡面反射特性或近似于鏡面反射特性。在實(shí)際工業(yè)生產(chǎn)中，這類物體包括平板玻璃、金屬薄膜、鋼球、陶瓷球等多種類型的產(chǎn)品。
[0003]對(duì)高反射物體進(jìn)行圖像采集時(shí)，若使用光源直接照明，則高反射物體表面會(huì)形成光源的像，從而使高反射物體表面的信息被煙沒。因此，研究針對(duì)高反射物體的光源裝置具有實(shí)際意義。
[0004]申請(qǐng)?zhí)枮?01520030580.9的專利中公開了一種圖案投影燈。該裝置包括頂蓋和底座，頂蓋扣合在底座上，底座上設(shè)置有投影臺(tái)，底座的投影臺(tái)內(nèi)設(shè)置有光源，在投影臺(tái)上設(shè)置有可手繪圖案的透明載片。光源發(fā)出的光線透過透明載片即可將圖案投出，物體放置在頂蓋上方即可在表面得到投影圖案的像。但光源發(fā)出的部分光線會(huì)透過透明載片直接照射到物體表面，因此不適用于高反射物體。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是，提供一種可以在光源作用范圍內(nèi)的高反射物體表面形成規(guī)則圖案的像，進(jìn)而可達(dá)到表面修飾、缺陷檢測(cè)等目的針對(duì)高反射物體的附著規(guī)則圖案的光源裝置。
[0006]本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是:一種針對(duì)高反射物體的附著規(guī)則圖案的光源裝置，包括有內(nèi)部流動(dòng)有被測(cè)物體的光源罩和分別通過支架對(duì)稱設(shè)置在所述光源罩斜上方兩側(cè)的兩個(gè)用于采集光源罩內(nèi)流動(dòng)的被測(cè)物體圖像的圖像傳感器，所述的光源罩的罩壁上相對(duì)稱的形成有兩個(gè)用于圖像傳感器進(jìn)行圖像采集的圖像采集孔，光源罩兩側(cè)的側(cè)壁上對(duì)稱地形成有進(jìn)料孔和出料孔，沿進(jìn)料孔和出料孔貫穿地插入有用于向所述光源罩內(nèi)導(dǎo)入和導(dǎo)出被測(cè)物體的直線導(dǎo)軌，所述光源罩的底部?jī)?nèi)側(cè)沿周邊設(shè)置有用作光源的環(huán)狀光源組件，所述光源罩的內(nèi)側(cè)壁上均勻涂有一層具有漫反射特性的單色涂層，所述單色涂層上涂有規(guī)則排列的具有漫反射特性的圖案層。
[0007]所述的被測(cè)物體在所述光源罩內(nèi)直線分布，并通過沿圖像傳感器的光軸與被測(cè)物體所在平面的交點(diǎn)。
[0008]所述的環(huán)狀光源組件包括有用于安裝發(fā)光部件的安裝座和用于遮擋發(fā)光部件的光線直接照射到被測(cè)物體上的光源擋板，其中，所述的光源擋板一體連接在安裝座的內(nèi)周邊上，與安裝座共同構(gòu)成L型環(huán)體，構(gòu)成L型環(huán)體水平部分的安裝座上均勻的安裝有一圈以上的發(fā)光部件。
[0009]所述的發(fā)光部件為L(zhǎng)ED光源、石英鹵素?zé)?、低壓鈉燈、高壓汞燈中的一種。
[0010]所述的發(fā)光部件優(yōu)選為L(zhǎng)ED光源。
[0011]所述的光源罩內(nèi)側(cè)壁上的單色涂層與規(guī)則排列的圖案層顏色不同并具有一定的灰度反差，所述光源罩內(nèi)側(cè)壁上的單色涂層和規(guī)則排列的圖案層均是采用具有高漫反射率的不同顏色涂料噴涂構(gòu)成。
[0012]所述的光源罩內(nèi)側(cè)壁上的規(guī)則排列的圖案層，是寬度相同、間隔相等的同心圓環(huán)層，或是頻率、幅值相等的正弦波紋層，或是間隙大小相等的矩形網(wǎng)格層，或是以光源罩頂部中心為原點(diǎn)的均勻放射的條紋層。
[0013]所述的光源罩內(nèi)側(cè)壁上的規(guī)則排列的圖案層，是有序排列的字母層或數(shù)字層或幾何圖形層。
[0014]所述光源罩上進(jìn)料孔的中心高度高于出料孔的中心高度。
[0015]所述直線導(dǎo)軌是能夠使被測(cè)物體只保留一維自由度的導(dǎo)軌。
[0016]本實(shí)用新型的針對(duì)高反射物體的附著規(guī)則圖案的光源裝置，可以在光源作用范圍內(nèi)的高反射物體表面形成規(guī)則圖案的像，進(jìn)而可達(dá)到表面修飾、缺陷檢測(cè)等目的。本實(shí)用新型的有益效果:
[0017]1、光源罩內(nèi)壁的規(guī)則圖案反射到高反射物體表面，可以達(dá)到修飾物體表面的作用。
[0018]2、高反射物體表面形成的規(guī)則圖案的像可以作為定位基準(zhǔn)。
[0019]3、通過圖像傳感器可以采集到被修飾的高反射物體的表面圖像，研究高反射物體表面規(guī)則圖案形成的像的完整性，可以實(shí)現(xiàn)高反射物體表面缺陷的檢測(cè)。
【附圖說明】
[0020]圖1是本實(shí)用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]圖2是本實(shí)用新型的俯視圖；
[0022]圖3是本實(shí)用新型中光源罩沿X-Z平面的剖面圖；
[0023]圖4a是表面無缺陷鋼球在實(shí)施例光源裝置下的表面圖像；
[0024]圖4b是有凹坑缺陷鋼球在實(shí)施例光源裝置下的表面圖像；
[0025]圖4c是有劃傷缺陷鋼球在實(shí)施例光源裝置下的表面圖像；
[0026]圖5是本實(shí)用新型中光源罩第一實(shí)施例的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖6是本實(shí)用新型中光源罩第二實(shí)施例的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。
[0028]圖中
[0029]I:被測(cè)物體2:圖像傳感器
[0030]3:光源罩4:圖像采集孔
[0031]5:進(jìn)料孔6:出料孔
[0032]7:直線導(dǎo)軌8:支架
[0033]9:環(huán)狀光源組件91:光源擋板
[0034]92:安裝座93:發(fā)光部件
[0035]10:單色涂層11:圖案層
【具體實(shí)施方式】
[0036]下面結(jié)合實(shí)施例和附圖對(duì)本實(shí)用新型的針對(duì)高反射物體的附著規(guī)則圖案的光源裝置做出詳細(xì)說明。
[0037]本實(shí)用新型的針對(duì)高反射物體的附著規(guī)則圖案的光源裝置，是以一定形式排列的發(fā)光體與附著規(guī)則圖案的光源罩組成的光源裝置;光源罩內(nèi)壁上均勻涂滿具有漫反射特性的單色材料，并修飾具有相同反射特性的規(guī)則圖案，放置于光源作用范圍內(nèi)的高反射物體表面會(huì)反射經(jīng)由光源照亮的光源罩內(nèi)壁的規(guī)則圖案的像。所述光源罩具有漫反射特性，光源罩內(nèi)壁的每一個(gè)點(diǎn)經(jīng)底部發(fā)光體照亮后均可以看作一個(gè)點(diǎn)光源。因此，光源罩內(nèi)壁可以看作附著規(guī)則圖案的光源。
[0038]如圖1、圖2所示，本實(shí)用新型的針對(duì)高反射物體的附著規(guī)則圖案的光源裝置，包括有內(nèi)部流動(dòng)有被測(cè)物體I的光源罩3和分別通過支架8對(duì)稱設(shè)置在所述光源罩3斜上方兩側(cè)的兩個(gè)用于采集光源罩3內(nèi)流動(dòng)的被測(cè)物體I圖像的圖像傳感器2，所述圖像傳感器2與光源罩3的底面成45°夾角。所述的光源罩3的罩壁上相對(duì)稱的形成有兩個(gè)用于圖像傳感器2進(jìn)行圖像采集的圖像采集孔4，光源罩3兩側(cè)的側(cè)壁上對(duì)稱地形成有進(jìn)料孔5和出料孔6，所述光源罩3上進(jìn)料孔5的中心高度高于出料孔6的中心高度。沿進(jìn)料孔5和出料孔6貫穿地插入有用于向所述光源罩3內(nèi)導(dǎo)入和導(dǎo)出被測(cè)物體I的直線導(dǎo)軌7，所述直線導(dǎo)軌是能夠使被測(cè)物體I只保留一維自由度的導(dǎo)軌。所述的被測(cè)物體I在所述光源罩3內(nèi)沿直線排列，并通過圖像傳感器2的光軸與待測(cè)物體I所在平面的交點(diǎn)。
[0039]所述光源罩3可以為任意幾何形狀，但要求其在底面的投影覆蓋底部發(fā)光體區(qū)域，常見的形狀可以是半球形、圓錐形、矩形、圓臺(tái)形等。所述光源罩由具有一定厚度的不透明材料制成，常見材料有金屬、硬質(zhì)紙板、塑料等。所述一定厚度指光源罩在不受任何外力的作用下可以穩(wěn)定的放置在水平面上。
[0040]所述光源罩3的底部?jī)?nèi)側(cè)沿周邊設(shè)置有用作光源的環(huán)狀光源組件9，如圖5、圖6所示，所述光源罩3的內(nèi)側(cè)壁上均勻涂有一層具有漫反射特性的單色涂層10，所述單色涂層10上涂有規(guī)則排列的具有漫反射特性的圖案層U，放置于光源作用范圍內(nèi)的高反射物體表面會(huì)反射經(jīng)由光源照亮的光源罩內(nèi)壁的規(guī)則圖案的像。
[0041]所述光源罩3內(nèi)側(cè)壁圖案層11的加工方式?jīng)]有限制，常見的加工方式包括金屬表面氧化蝕刻、顏料噴涂、3D打印、直接粘貼圖案等。