一種觸控屏及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種電容式觸控屏及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]觸控屏(英文全稱為Touch Panel)，又稱觸摸屏、觸控面板，是一種形成在圖像顯示裝置顯示面上，利用人體或電容筆等導(dǎo)體進行指令輸入的裝置，可代替鼠標(biāo)、鍵盤等外接輸入裝置以及機械式輸入按鍵等輸入設(shè)備，可有效簡化電腦、手機等電子產(chǎn)品結(jié)構(gòu)，具有非常廣闊的應(yīng)用前景。
[0003]觸控屏分為電阻式覆蓋(resistive overlay)觸控屏、光敏式觸控屏、電容式觸控屏等。其中，電容式觸控屏(英文全稱為Capacity Touch Panel，簡稱為CTP)是利用人體的電流感應(yīng)對屏幕進行控制的，根據(jù)偵測觸碰區(qū)域的電容變化，進而計算觸碰位置，具有靈敏度高、容易實現(xiàn)多點觸控技術(shù)等優(yōu)點，逐漸成為智能手機、平板電腦等電子產(chǎn)品中應(yīng)用的主流觸控屏。
[0004]中國專利文獻CN102163095A公開了一種電容式觸控屏及其制備方法，包括形成在透明基底上的第一感測圖形和第二感測圖形。第一感測圖形彼此通過第一連接圖案沿第一方向連接設(shè)置，第二感測圖形彼此通過第二連接圖案沿第二方向連接設(shè)置，第一感測圖形連接而成的列與第二感測圖形連接而成的行形成絕緣且彼此交叉的結(jié)構(gòu)。
[0005]為了防止第一連接圖案和第二連接圖案短路，第一連接圖案和第二感測圖形之間需形成絕緣層，制備方法為:在透明基底上順序形成導(dǎo)電層和絕緣層；在絕緣層上形成光致抗蝕劑層并圖案化形成掩膜；通過掩膜分別對導(dǎo)電層和絕緣層進行圖案化，形成第一感測圖形、第二感測圖形以及串聯(lián)第一感測圖形的第一連接圖案，圖案化后除去掩膜；在基底上形成覆蓋第二感測圖形和絕緣層的導(dǎo)電層，并圖案化形成串聯(lián)第二感測圖形的第二連接圖案。
[0006]上述制備方法中，第一感測圖形、第二感測圖形以及第一連接圖案上均設(shè)置有絕緣層，嚴(yán)重影響了所述觸控屏的透光率；而且，第一感測圖形、第二感測圖形、第一連接圖案、第二連接圖案的形成過程以及絕緣層的圖案化工藝共需要執(zhí)行兩道掩模和三道刻蝕工藝，制造工藝復(fù)雜，從而降低了觸控屏的生產(chǎn)效率和良品率，提高了生產(chǎn)成本。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]為此，本發(fā)明所要解決的是現(xiàn)有技術(shù)中觸控屏透光率低、制備工藝復(fù)雜的問題，提供一種透光率高、制備工藝簡單的觸控屏及其制備方法。
[0008]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下:
[0009]本發(fā)明所述的一種觸控屏，包括襯底，設(shè)置在襯底上的若干獨立的第一感測圖案和若干獨立的第二感測圖案；
[0010]所述第一感測圖案通過第一連接圖案沿第一方向串聯(lián)連接，形成第一導(dǎo)電單元；
[0011]所述第二感測圖案通過第二連接圖案沿第二方向串聯(lián)連接，形成第二導(dǎo)電單元；
[0012]所述第一導(dǎo)電單元與所述第二導(dǎo)電單元形成交叉網(wǎng)絡(luò)，并通過絕緣層彼此絕緣；所述絕緣層為光致抗蝕劑層，所述第一感測圖案和所述第二感測圖案同層設(shè)置。
[0013]所述第一連接圖案與所述第二連接圖案沿垂直于所述襯底方向順次堆疊，所述絕緣層設(shè)置在兩者之間。
[0014]所述光致抗蝕劑層為透明或半透明膜層。
[0015]所述光致抗蝕劑為半色調(diào)光致抗蝕劑。
[0016]所述第一感測圖案與所述第二感測圖案相同。
[0017]本發(fā)明所述的一種觸控屏的制備方法，包括如下步驟:
[0018]S1、在襯底上順次形成第一導(dǎo)電層和光致抗蝕劑層；
[0019]S2、通過光刻工藝對光致抗蝕劑層進行圖案化，形成掩膜；
[0020]S3、通過步驟S2中制得的掩膜采用刻蝕工藝對第一導(dǎo)電層進行圖案化，形成若干第一感測圖案、沿第一方向串聯(lián)第一感測圖案的第一連接圖案以及若干獨立的第二感測圖案；
[0021]S4、除去部分掩膜，保留覆蓋在第一連接圖案上的光致抗蝕劑層，并進行高溫固化處理，使得光致抗蝕劑層包覆第一連接圖案的側(cè)面；
[0022]S5、在襯底上形成沿第二方向覆蓋第二導(dǎo)電圖案和光致抗蝕劑層的第二導(dǎo)電層，并圖案化形成沿第二方向串聯(lián)相鄰第二導(dǎo)電圖案的第二連接圖案。
[0023]所述光致抗蝕劑為半色調(diào)光致抗蝕劑，步驟S2所形成的所述掩膜中，形成第一連接圖案的區(qū)域的高度大于其他區(qū)域的高度，高度差為1.0 μ m?2 μ m。
[0024]步驟S4中通過灰化工藝除去部分掩膜。
[0025]步驟S3對所述第一連接圖案過刻蝕，使得所述第一連接圖案在所述襯底上的投影在所述掩膜對應(yīng)區(qū)域在所述襯底上的投影范圍內(nèi)。
[0026]本發(fā)明的上述技術(shù)方案相比現(xiàn)有技術(shù)具有以下優(yōu)點:
[0027]1、本發(fā)明所述的觸控屏的制備方法，采用圖案化第一導(dǎo)電層的光致抗蝕劑層為絕緣層隔離第一連接圖案和第二連接圖案使之絕緣，使得所述觸控屏的制備過程只需兩道掩膜和兩道刻蝕工藝便可以實現(xiàn)，有效減少了生產(chǎn)工序，提高了生產(chǎn)效率和良品率。
[0028]2、本發(fā)明所述的觸控屏的制備方法，對所述第一連接圖案進行過刻蝕，并且將覆蓋在第一連接圖案上的光致抗蝕劑層進行高溫固化處理，使得光致抗蝕劑層包覆第一連接圖案的側(cè)面，有效避免了第一連接圖案和第二連接圖案之間短路現(xiàn)象的發(fā)生。
[0029]3、本發(fā)明所述的觸控屏，第一感測圖案和第二感測圖案上未設(shè)置覆蓋物，第一連接圖案和第二連接圖案之間僅設(shè)置有一層光致抗蝕劑層，有效提高了所述觸控屏的透光率。
【附圖說明】
[0030]為了使本發(fā)明的內(nèi)容更容易被清楚的理解，下面根據(jù)本發(fā)明的具體實施例并結(jié)合附圖，對本發(fā)明作進一步詳細(xì)的說明，其中
[0031]圖1是現(xiàn)有技術(shù)中觸控屏的俯視圖；
[0032]圖2是圖1中第一感測圖形與第二感測圖形位置關(guān)系以及連接關(guān)系示意圖；
[0033]圖3-1?圖3-7是本發(fā)明所述觸控屏在制備過程中結(jié)構(gòu)示意圖。
[0034]圖中附圖標(biāo)記表不為:10_基底、12-第一導(dǎo)電層、12a_第一感測圖形、12b_第二感測圖形、12al-第一連接圖案、12bl-第二連接圖案、13-絕緣層、14-第二導(dǎo)電層。
【具體實施方式】
[0035]為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明的實施方式作進一步地詳細(xì)描述。
[0036]本發(fā)明可以以許多不同的形式實施，而不應(yīng)該被理解為限于在此闡述的實施例。相反，提供這些實施例，使得本公開將是徹底和完整的，并且將把本發(fā)明的構(gòu)思充分傳達給本領(lǐng)域技術(shù)人員，本發(fā)明將僅由權(quán)利要求來限定。在附圖中，為了清晰起見，會夸大層和區(qū)域的尺寸和相對尺寸。應(yīng)當(dāng)理解的是，當(dāng)元件例如層、區(qū)域或基板被稱作“形成在”或“設(shè)置在”另一元件“上”時，該元件可以直接設(shè)置在所述另一元件上，或者也可以存在中間元件。相反，當(dāng)元件被稱作“直接形成在”或“直接設(shè)置在”另一元件上時，不存在中間元件；當(dāng)元件被稱為“透明或半透明”，表示該元件具有高的光學(xué)透射率。
[0037]本實施例提供一種觸控屏，如圖1所示，包括襯底10，設(shè)置在襯底10上的若干獨立的第一感測圖案12a和若干獨立的第二感測圖案12b。
[0038]所述襯底10為透明或半透明襯底，本實施例優(yōu)選透明的玻璃基板。
[0039]所述第一感測圖案12a通過第一連接圖案12al沿第一方向串聯(lián)連接，形成第一導(dǎo)電單元；所述第二感測圖案12b通過第二連接圖案12bl沿第二方向串聯(lián)連接，形成第二導(dǎo)電單元。
[0040]本實施例中所述第一感測圖案12a與所述第二感測圖案12b形狀相同，均為菱形；沿第一方向和第二方向，所有所述第一感測圖案12a與所述第二感測圖案12b均以角部相鄰。
[0041]作為本發(fā)明的其他實施例，所述第一感測圖案12a與所