本發(fā)明實(shí)施例涉及半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法，更具體地涉及用于標(biāo)準(zhǔn)單元的中段制程帶。

背景技術(shù)：

例如，集成電路(ic)的半導(dǎo)體工藝包含前段制程(feol)、中段制程(meol)和后段制程(beol)。通常在所述前段制程期間，半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)在半導(dǎo)體晶圓上形成。然后所述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)在meol工藝期間局部互連，形成所述集成電路。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，提供了一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，包括：第一有源區(qū)；第一導(dǎo)電線；第一導(dǎo)電通孔；第二導(dǎo)電通孔；第一導(dǎo)電金屬段，通過(guò)所述第一導(dǎo)電通孔連接至所述第一導(dǎo)電線；第二導(dǎo)電金屬段，設(shè)置在所述第一有源區(qū)上方并且通過(guò)所述第二導(dǎo)電通孔連接至所述第一導(dǎo)電線；以及第一局部導(dǎo)電段，配置為連接所述第一導(dǎo)電金屬段和所述第二導(dǎo)電金屬段。

根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例，還提供了一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，包括：有源區(qū)；第一導(dǎo)電線；導(dǎo)電通孔；第一導(dǎo)電金屬段，通過(guò)所述導(dǎo)電通孔連接至所述第一導(dǎo)電線；第二導(dǎo)電金屬段，設(shè)置在所述有源區(qū)上方；以及局部導(dǎo)電段，配置為連接所述第一導(dǎo)電金屬段和所述第二導(dǎo)電金屬段。

根據(jù)本發(fā)明的又一實(shí)施例，還提供了一種制造半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的方法，包括：設(shè)置第一導(dǎo)電金屬段；在有源區(qū)上方設(shè)置第二導(dǎo)電金屬段；設(shè)置局部導(dǎo)電段以連接所述第一導(dǎo)電金屬段和所述第二導(dǎo)電金屬段；在所述第一導(dǎo)電金屬段上設(shè)置第一導(dǎo)電通孔；以及設(shè)置第一導(dǎo)電線，所述第一導(dǎo)電線通過(guò)所述第一導(dǎo)電通孔連接至所述第一導(dǎo)電金屬段。

附圖說(shuō)明

當(dāng)結(jié)合附圖進(jìn)行閱讀時(shí)，從以下詳細(xì)描述可最佳地理解本發(fā)明的各個(gè)方面。應(yīng)該注意，根據(jù)工業(yè)中的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐，各個(gè)部件未按比例繪制。實(shí)際上，為了清楚的討論，各種部件的尺寸可以被任意增大或減小。

圖1為根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的示意性布局頂視圖；

圖2為根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的沿著圖1中的線2-2截取的截面圖；

圖3為根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的沿著圖1中的線3-3截取的截面圖；

圖4為根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的圖1中半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的一部分的透視圖；

圖5為根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的示意性布局頂視圖；

圖6為根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的圖5中的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的一部分的透視圖；

圖7為根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的示意性布局頂視圖；

圖8為根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的沿著圖7中的線8-8截取的截面圖；

圖9為根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的沿著圖7中的線9-9截取的截面圖

具體實(shí)施方式

以下公開(kāi)內(nèi)容提供了許多用于實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的不同特征的不同實(shí)施例或?qū)嵗Ｏ旅婷枋隽私M件和布置的具體實(shí)例以簡(jiǎn)化本發(fā)明。當(dāng)然，這些僅僅是實(shí)例，而不旨在限制本發(fā)明。例如，以下描述中，在第二部件上方或者上形成第一部件可以包括第一部件和第二部件直接接觸形成的實(shí)施例，并且也可以包括在第一部件和第二部件之間可以形成額外的部件，從而使得第一部件和第二部件可以不直接接觸的實(shí)例。此外，本發(fā)明可在各個(gè)實(shí)施例中重復(fù)參考標(biāo)號(hào)和/或字符。該重復(fù)是為了簡(jiǎn)單和清楚的目的，并且其本身不指示所討論的各個(gè)實(shí)施例和/或配置之間的關(guān)系。

本說(shuō)明書中使用的術(shù)語(yǔ)，在本領(lǐng)域和每一術(shù)語(yǔ)所使用的特定文本中，都有其常見(jiàn)意義。本說(shuō)明中使用的示例，包含本文所討論的任何術(shù)語(yǔ)的示例，僅是說(shuō)明性的，決不是限制本發(fā)明或任何示例性術(shù)語(yǔ)的范圍和意義。同樣，本發(fā)明并不限于本說(shuō)明書中給出的各種實(shí)施例。

雖然在本文可能使用術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”等術(shù)語(yǔ)來(lái)描述各種元件，但這些元件并不用受這些術(shù)語(yǔ)的局限。這些術(shù)語(yǔ)是用來(lái)區(qū)分不同元件的。例如，第一元件也可被稱為第二元件，同樣，第二元件也可被稱為第一元件，而不背離所述實(shí)施例的范圍。本文所使用的術(shù)語(yǔ)“和/或”包括一個(gè)或多個(gè)相關(guān)的所列項(xiàng)目的任意的和所有的組合。

例如，集成電路的半導(dǎo)體工藝包含前段制程(feol)、中段制程(meol)和后段制程(beol)，feol工藝包括晶圓準(zhǔn)備、隔離、柵極圖案化、隔片、延伸、源極/漏極注入、硅化物形成和雙應(yīng)力襯墊形成。例如，meol工藝包含柵極接觸件形成。例如，beol工藝包含一系列晶圓加工步驟以用來(lái)互連在feol和meol工藝過(guò)程中形成的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的以下實(shí)施例中半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)布置的一部分與，例如，中段制程有關(guān)，和/或在，例如，中段制程中形成。以下實(shí)施例中與多個(gè)工藝有關(guān)和/或在多個(gè)工藝中形成的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的布置在本發(fā)明的預(yù)期范圍之內(nèi)。

圖1為根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的半導(dǎo)體示意性布局頂視圖。在一些實(shí)施例中，半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100代表一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)單元。在一些實(shí)施例中，標(biāo)準(zhǔn)單元指在數(shù)據(jù)庫(kù)形式的電路庫(kù)中布局并存儲(chǔ)的預(yù)設(shè)計(jì)的單元。此外，在一些實(shí)施例中，標(biāo)準(zhǔn)單元存儲(chǔ)在有形存儲(chǔ)介質(zhì)中，例如，有形存儲(chǔ)介質(zhì)包括硬盤驅(qū)動(dòng)器。設(shè)計(jì)集成電路時(shí)，標(biāo)準(zhǔn)單元從電路庫(kù)中檢索，并放置于布局操作(placementoperation)中。例如，使用電腦運(yùn)行軟件來(lái)設(shè)計(jì)集成電路，從而進(jìn)行布局操作。所述軟件包含電路布置工具，電路布置工具具有布局和布線的功能。

在一些實(shí)施例中，圖1中的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100(將在下面進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明)用來(lái)形成晶體管，晶體管包含，例如，鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管(finfet)和平面晶體管等。在另一些實(shí)施例中，半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100形成的晶體管構(gòu)成互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(cmos)器件。為進(jìn)行說(shuō)明，半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100包含n型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管(nmos)和/或p型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管(pmos)。本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)理解，以上示例是用于說(shuō)明目的。通過(guò)半導(dǎo)體100實(shí)現(xiàn)的各種器件都在本發(fā)明的預(yù)期范圍之內(nèi)。

在一些實(shí)施例中，半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100的組件(將在下面進(jìn)行說(shuō)明)設(shè)置在半導(dǎo)體襯底的上方，為說(shuō)明的方便起見(jiàn)，將不在圖1中示出。所述半導(dǎo)體襯底為硅襯底或其他合適的半導(dǎo)體襯底。

為在圖1中進(jìn)行說(shuō)明，半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100包含有源區(qū)161和162。在一些實(shí)施例中，有源區(qū)161為p型有源區(qū)，有源區(qū)162為n型有源區(qū)。布置p型有源區(qū)以形成p型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管，布置n型有源區(qū)以形成n型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管。

以上有源區(qū)161和162的類型是用于說(shuō)明目的。有源區(qū)161和162的各種類型都在本發(fā)明的預(yù)期范圍之內(nèi)。在一些實(shí)施例中，本發(fā)明中所討論的術(shù)語(yǔ)“有源區(qū)”也可指“od”(氧化物維度區(qū))。

如圖1所示，半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100還包含柵極151-154。柵極151設(shè)置在有源區(qū)161上方，柵極152設(shè)置在有源區(qū)162上方，柵極153和154均設(shè)置在有源區(qū)161和162的上方。為進(jìn)行說(shuō)明，柵極151-154設(shè)置為互相平行并等距分隔開(kāi)。

在一些實(shí)施例中，柵極151-154由多晶硅制成。因此，本發(fā)明中所討論的術(shù)語(yǔ)“柵極”在一些實(shí)施例中也可指“po”。用來(lái)制成柵極151-154的各種半導(dǎo)體材料在本發(fā)明的預(yù)期范圍之內(nèi)。例如，在各種實(shí)施例中，柵極151-154由金屬、金屬合金、和金屬硅化物制成。

為在圖1中進(jìn)行說(shuō)明，柵極151和154設(shè)置在有源區(qū)161的相對(duì)邊緣上方，并覆蓋有源區(qū)161的相對(duì)邊緣。柵極152和154設(shè)置在有源區(qū)162的相對(duì)邊緣上方，并覆蓋有源區(qū)162的相對(duì)邊緣。因此，柵極151、152和154在一些實(shí)施例中也可指“pode”(od邊緣上多晶硅)。

在一些實(shí)施例中，在有源區(qū)161和162內(nèi)，在柵極153的兩對(duì)兩側(cè)處的區(qū)域均是源極區(qū)/漏極區(qū)。術(shù)語(yǔ)“源極區(qū)/漏極區(qū)”在本發(fā)明指的是源極區(qū)或漏極區(qū)的區(qū)域。

在一些實(shí)施例中，柵極151、152和154中的至少一個(gè)設(shè)置為偽柵極。偽柵極并不作為任何晶體管的柵極。

如圖1所示，半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100還包含導(dǎo)電金屬段131-136。導(dǎo)電金屬段132和133設(shè)置在有源區(qū)161上方。導(dǎo)電金屬段135和136設(shè)置在有源區(qū)162上方。導(dǎo)電金屬段132設(shè)置在導(dǎo)電金屬段131和133之間。導(dǎo)電金屬段135設(shè)置在導(dǎo)電金屬段134和136之間。在一些實(shí)施例中，本發(fā)明中所討論的術(shù)語(yǔ)“導(dǎo)電金屬段”也可指“m0od”或“md”。

在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電金屬段131和134中的至少有一個(gè)的高度高于導(dǎo)電金屬132、133、135和136中的至少一個(gè)的高度。在另外的實(shí)施例中，導(dǎo)電金屬段131和134中每一個(gè)的高度都高于導(dǎo)電金屬132、133、135和136中的每一個(gè)的高度。

在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電金屬段131和134在淺溝槽隔離(sti)結(jié)構(gòu)(未示出)上形成。在一些實(shí)施例中，sti結(jié)構(gòu)通過(guò)應(yīng)用氧化硅以填充用于隔離淺溝槽來(lái)形成。如上討論的導(dǎo)電金屬段131和134的形成用于說(shuō)明目的。導(dǎo)電金屬段131和134的各種形成都在本發(fā)明的預(yù)期范圍之內(nèi)。

如圖1所示，半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100還包含導(dǎo)電線111-114。在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電線111-114由金屬制成。用來(lái)制成導(dǎo)電線111-114的各種材料都在本發(fā)明的預(yù)期范圍之內(nèi)。

為進(jìn)行說(shuō)明，導(dǎo)電線111-114設(shè)置為互相平行。導(dǎo)電線111設(shè)置在柵極151、153和154的部分上方和導(dǎo)電金屬段131和132的上方。導(dǎo)電線114設(shè)置在柵極152、153和154和導(dǎo)電金屬段134和135的部分上方。導(dǎo)電線113設(shè)置在有源區(qū)162，柵極152、153和154和導(dǎo)電金屬段134、135和136的部分上方。導(dǎo)電線112橫跨在柵極153上方。

在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電線112通過(guò)導(dǎo)電通孔125連接到柵極153。實(shí)際上，導(dǎo)電線112被配置為接收信號(hào)，并通過(guò)導(dǎo)電通孔125將信號(hào)傳遞到柵極153。

在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電線111為電源線。為進(jìn)行說(shuō)明，所述電源線被配置為連接至電源vdd。在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電線114為接地線。所述接地線被配置為連接，為進(jìn)行說(shuō)明，接地vss。

導(dǎo)電線111通過(guò)導(dǎo)電通孔122和導(dǎo)電金屬段132連接到有源區(qū)161內(nèi)的源極/漏極區(qū)。因此，在導(dǎo)電線111和導(dǎo)電金屬段132之間存在電流路徑(在圖4中標(biāo)示為410)。導(dǎo)電線111還通過(guò)導(dǎo)電通孔121連接到導(dǎo)電金屬段131。

導(dǎo)電線114通過(guò)導(dǎo)電通孔124和導(dǎo)電金屬段135連接到有源區(qū)162內(nèi)的源極/漏極區(qū)。因此，導(dǎo)電線114和導(dǎo)電金屬段135之間存在電流路徑。導(dǎo)電線114還通過(guò)導(dǎo)電通孔123連接到導(dǎo)電金屬段134。

如圖1所示，半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100還包含局部導(dǎo)電段141和142。為進(jìn)行說(shuō)明，局部導(dǎo)電段141橫跨在柵極151上方，并設(shè)置在導(dǎo)電金屬段131和132之間，用來(lái)連接導(dǎo)電金屬段131和132。局部導(dǎo)電段142橫跨在柵極152上方，并設(shè)置在導(dǎo)電金屬段134和135之間，用來(lái)連接導(dǎo)電金屬段134和135。在一些實(shí)施例中，本發(fā)明中所討論的術(shù)語(yǔ)“局部導(dǎo)電段”也可指“mp”。

在一些實(shí)施例中，局部導(dǎo)電段141與柵極151連接，和/或局部導(dǎo)電段142與柵極152連接。

如圖3所示，在一些實(shí)施例中，局部導(dǎo)電段141的高度加上柵極151的高度大體上等于導(dǎo)電金屬段132的高度。相應(yīng)地，局部導(dǎo)電段142的高度加上柵極152的高度大體上等于一些實(shí)施例中導(dǎo)電金屬段135的高度。

局部導(dǎo)電段141被配置為電連接導(dǎo)電金屬段131和132。在一些實(shí)施例中，局部導(dǎo)電段141的一端與導(dǎo)電金屬段131接觸，局部導(dǎo)電段141的另一端與導(dǎo)電金屬段132接觸。在一些其他實(shí)施例中，局部導(dǎo)電段141的兩端設(shè)置在導(dǎo)電金屬段131和132內(nèi)。因此，導(dǎo)電金屬段131和132通過(guò)局部導(dǎo)電段141互相電連接。結(jié)果，在導(dǎo)電金屬段131和132之間存在另一電流路徑(圖4中標(biāo)示為420)。

局部導(dǎo)電段142被配置為電連接導(dǎo)電金屬段134和135。在一些實(shí)施例中，局部導(dǎo)電段142的一端與導(dǎo)電金屬段134接觸，局部導(dǎo)電段142的另一端與導(dǎo)電金屬段135接觸。在一些其他實(shí)施例中，局部導(dǎo)電段142具有設(shè)置在導(dǎo)電金屬段134和135內(nèi)的相對(duì)端。因此，導(dǎo)電金屬段134和135通過(guò)局部導(dǎo)電段142互相電連接。結(jié)果，導(dǎo)電金屬段134和135之間存在另一電流路徑。

在一些實(shí)施例中，半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100的導(dǎo)電線111-114、導(dǎo)電通孔121-125、導(dǎo)電金屬段131-136、局部導(dǎo)電段141和142中至少一個(gè)與meol工藝相關(guān)連，和/或在meol工藝中形成。因此，在一些實(shí)施例中，meol工藝電源帶(powerstrap)包含導(dǎo)電線111、導(dǎo)電通孔121和122、導(dǎo)電金屬段131和132和局部導(dǎo)電段141，因此，為電力傳輸提供了上述兩種電流路徑。

圖2為根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的沿著圖1中的線2-2截取的截面圖。圖3為根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的沿著圖1中的線3-3截取的截面圖；關(guān)于圖1中的實(shí)施例，像圖2和圖3中的元件一樣，為便于理解，被指定了相同的參考編號(hào)。

為在圖1和圖2中進(jìn)行說(shuō)明，以自上而下的順序，導(dǎo)電線111還通過(guò)導(dǎo)電通孔121連接到導(dǎo)電金屬段131。局部導(dǎo)電段141的一部分設(shè)置在導(dǎo)電金屬段131內(nèi)。

為在圖1和圖3中進(jìn)行說(shuō)明，局部導(dǎo)電段的相對(duì)兩端分別設(shè)置在導(dǎo)電金屬段131和132內(nèi)。導(dǎo)電金屬段131的高度大于導(dǎo)電金屬段132的高度。如圖3所示，局部導(dǎo)電段141的高度加上柵極151的高度大體上等于導(dǎo)電金屬段132的高度。

在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電線114、導(dǎo)電通孔123、導(dǎo)電金屬段134和135、柵極152和有源區(qū)162的關(guān)系和/或配置與圖2和圖3所示的那些相對(duì)應(yīng)，且為簡(jiǎn)化說(shuō)明，本文不對(duì)其進(jìn)行進(jìn)一步描述。

在一些實(shí)施例中，局部導(dǎo)電段141的頂面大體上與導(dǎo)電金屬段131和132的頂面對(duì)齊，如圖3所示。

圖4為根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的圖1中半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100的一部分的透視圖。為便于理解，參考圖2和圖3以對(duì)圖4進(jìn)行說(shuō)明。

如上所述，為在圖4進(jìn)行說(shuō)明，導(dǎo)電線111和導(dǎo)電金屬段132之間存在電流路徑410。在電流路徑410中，電流從導(dǎo)電線111流出，經(jīng)過(guò)導(dǎo)電通孔122和導(dǎo)電金屬段132到達(dá)有源區(qū)161。

此外，導(dǎo)電線111和導(dǎo)電金屬段132之間還存在附加的電流路徑420。在附加的電流路徑420中，電流從導(dǎo)電線111流出，經(jīng)過(guò)導(dǎo)電通孔121、導(dǎo)電金屬段131、局部導(dǎo)電段141和導(dǎo)電金屬段132到達(dá)有源區(qū)161。

有了附加的電流路徑420，半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100中的電流有所增加。隨著電流的增加，有源區(qū)161和導(dǎo)電線111之間的增加的等效電阻對(duì)半導(dǎo)體100的性能的影響有所減弱。相應(yīng)地，通過(guò)半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100所實(shí)現(xiàn)的器件的操作速度能夠有所提高。

相應(yīng)地，存在與導(dǎo)電線114、導(dǎo)電通孔123、導(dǎo)電金屬段134和135、局部導(dǎo)電段142和有源區(qū)162相關(guān)聯(lián)的附加電流路徑，為簡(jiǎn)化說(shuō)明，本文不對(duì)此進(jìn)行進(jìn)一步的描述。相應(yīng)地，有源區(qū)162和導(dǎo)電線114之間增加的等效電阻對(duì)半導(dǎo)體100的性能的影響有所減弱。因此，通過(guò)半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100所實(shí)現(xiàn)的器件的操作速度也能夠有所提高。

圖5為根據(jù)本發(fā)明的一些其他實(shí)施例的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)500的示意性布局頂視圖。關(guān)于圖1中的實(shí)施例，圖5中的相同的元件用相同的參考編號(hào)指示，且為簡(jiǎn)化說(shuō)明，本文不對(duì)其進(jìn)行進(jìn)一步的描述。與圖1中半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)100相比，圖1中的導(dǎo)電通孔122和124不包含在圖5中的半導(dǎo)體500中，且在一些實(shí)施例中，圖1中的導(dǎo)電金屬段132和135被導(dǎo)電金屬段532和535所代替。

與圖1中的導(dǎo)電金屬段132相比，圖5所示的導(dǎo)電金屬段532設(shè)置在有源區(qū)161的上方，而未縱向延伸以與導(dǎo)電線111連接。實(shí)際上，圖5導(dǎo)電金屬段532的長(zhǎng)度小于圖1中導(dǎo)電金屬段132的長(zhǎng)度。因此，導(dǎo)電金屬段532和柵極153之間的寄生電容(圖6中標(biāo)為630)有所減少。

在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電金屬段532的長(zhǎng)度與導(dǎo)電金屬段133的長(zhǎng)度大體上相等。在各種實(shí)施例中，導(dǎo)電金屬段532的高度與導(dǎo)電金屬段133的高度大體上相等。

與圖1中的導(dǎo)電金屬段135相比，圖5所示導(dǎo)電金屬段535設(shè)置在有源區(qū)162上方，而未縱向延伸以與導(dǎo)電線114連接。實(shí)際上，圖5導(dǎo)電金屬段535的長(zhǎng)度小于圖1中導(dǎo)電金屬段135的長(zhǎng)度。因此，導(dǎo)電金屬段535和柵極153之間的寄生電容有所減少。

在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電金屬段535的長(zhǎng)度與導(dǎo)電金屬段136的長(zhǎng)度大體上相等。在各種實(shí)施例中，導(dǎo)電金屬段535的高度與導(dǎo)電金屬段136的高度大體上相等。

在一些實(shí)施例中，半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)500的導(dǎo)電線111-114,導(dǎo)電通孔121、123和125,導(dǎo)電金屬段131、133、134、136、532和535、局部導(dǎo)電段141和142中的至少一個(gè)與meol工藝相關(guān)聯(lián)，和/或在meol工藝中形成。因此，在一些實(shí)施例中，meol工藝電源帶(powerstrap)包含導(dǎo)電線111、導(dǎo)電通孔121、導(dǎo)電金屬段131和532和局部導(dǎo)電段141，因此為電力傳輸提供了電流路徑(圖6中標(biāo)示為610)。

圖6為根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)500的一部分的透視圖。為在圖6中進(jìn)行說(shuō)明，導(dǎo)電線111和導(dǎo)電金屬段532之間存在電流路徑610。如圖5所示，在電流路徑610中，電流從導(dǎo)電線111流出，經(jīng)過(guò)導(dǎo)電通孔121、導(dǎo)電金屬段131、局部導(dǎo)電段141和導(dǎo)電金屬段532到達(dá)有源區(qū)161。

如上討論，與圖4中導(dǎo)電金屬段132相比，導(dǎo)電金屬段532的長(zhǎng)度較短，以減少導(dǎo)電金屬段532和柵極153之間的寄生電容630。相應(yīng)地，半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)500所實(shí)現(xiàn)的器件的性能能夠有所提高。

相應(yīng)地，存在與導(dǎo)電線114、導(dǎo)電通孔123、導(dǎo)電金屬段134和535、局部導(dǎo)電段142和有源區(qū)162相關(guān)聯(lián)的電流路徑，為簡(jiǎn)化說(shuō)明，本文不對(duì)其進(jìn)行進(jìn)一步的描述。相應(yīng)地，導(dǎo)電金屬段535的長(zhǎng)度較短，以減少導(dǎo)電金屬段535和柵極153之間的寄生電容630。因此，半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)500所實(shí)現(xiàn)的器件的性能也能夠有所提高。

圖7為根據(jù)本發(fā)明的可選實(shí)施例的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)700的示意性布局頂視圖。關(guān)于圖1和圖5中的實(shí)施例，圖7中的相同的元件用相同的參考編號(hào)指定，且為簡(jiǎn)化說(shuō)明，本文不對(duì)其進(jìn)行進(jìn)一步的描述。與圖1和圖5所述的實(shí)施例相比，圖7中的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)700具有多種布局，將在下面加以討論。

如圖7所示，半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)700包含導(dǎo)電金屬段731、734、737和738。有源區(qū)161設(shè)置在導(dǎo)電金屬段731和737之間。有源區(qū)162設(shè)置在導(dǎo)電金屬段734和738之間。在一些實(shí)施例中，與圖5中的實(shí)施例相比，導(dǎo)電金屬段131和/或134的長(zhǎng)度大于導(dǎo)電金屬段731和/或734的長(zhǎng)度，且另外設(shè)置了導(dǎo)電金屬段737和738。

在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電金屬段731、734、737和738中至少有一個(gè)的高度大于圖5中導(dǎo)電金屬段133、136、532和535中至少一個(gè)的高度。在另一些實(shí)施例中，導(dǎo)電金屬段731、734、737和738中至少一個(gè)的高度大于導(dǎo)電金屬段133、136、532和535的每一個(gè)的高度。

在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電金屬段731、734、737和738在淺溝槽隔離(sti)結(jié)構(gòu)(未示出)上形成。如上討論的導(dǎo)電金屬段731、734、737和738的形成是用于說(shuō)明的目的。導(dǎo)電金屬段731、734、737和738的各種形成都在本發(fā)明的預(yù)期范圍之內(nèi)。

為在圖7中進(jìn)行說(shuō)明，局部導(dǎo)電段141設(shè)置在導(dǎo)電金屬段731和532之間以連接導(dǎo)電金屬段731和532。局部導(dǎo)電段142設(shè)置在導(dǎo)電金屬段734和535之間以連接導(dǎo)電金屬段734和535。

如圖9所示，在一些實(shí)施例中，局部導(dǎo)電段141的高度加上柵極151的高度大體上等于導(dǎo)電金屬段532的高度。相應(yīng)地，局部導(dǎo)電段142的高度加上柵極152的高度大體上等于一些實(shí)施例中的導(dǎo)電金屬段535的高度。

局部導(dǎo)電段141被配置為電連接導(dǎo)電金屬段731和532。在一些實(shí)施例中，局部導(dǎo)電段141的一端與導(dǎo)電金屬段731接觸，局部導(dǎo)電段141的另一端與導(dǎo)電金屬段532接觸。在一些其他實(shí)施例中，如圖9所示，局部導(dǎo)電段141具有設(shè)置在導(dǎo)電金屬段731和532內(nèi)的相對(duì)端。

相應(yīng)地，局部導(dǎo)電段142被配置為電連接導(dǎo)電金屬段734和535。在一些實(shí)施例中，局部導(dǎo)電段142的一端與導(dǎo)電金屬段734接觸，局部導(dǎo)電段142的另一端與導(dǎo)電金屬段535接觸。在一些其他實(shí)施例中，局部導(dǎo)電段142的兩端具有導(dǎo)電金屬段734和535內(nèi)的相對(duì)端。

如圖7所示，與圖5中的實(shí)施例相比，半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)700包含導(dǎo)電線711-716。為進(jìn)行說(shuō)明，導(dǎo)電線711-716中的每一個(gè)設(shè)置為與導(dǎo)電線112平行。在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電線711-716由金屬形成。用來(lái)形成導(dǎo)電線711-716的各種材料都在本發(fā)明的預(yù)期范圍之內(nèi)。

為進(jìn)行說(shuō)明，導(dǎo)電線711-716中的每一個(gè)設(shè)置為與導(dǎo)電線112平行。導(dǎo)電線711設(shè)置在柵極151、153和154的部分上方。導(dǎo)電線714設(shè)置在柵極152、153和154的部分上方。導(dǎo)電線712設(shè)置為與導(dǎo)電線713平行。導(dǎo)電線712設(shè)置在導(dǎo)電金屬段731、柵極151和有源區(qū)161的部分的上方。導(dǎo)電線713設(shè)置在有源區(qū)161、導(dǎo)電金屬段133與737以及柵極153和154的部分上方。導(dǎo)電線715與導(dǎo)電線716成行設(shè)置。導(dǎo)電線715設(shè)置在導(dǎo)電金屬段734、柵極152和有源區(qū)162的部分上方。導(dǎo)電線716設(shè)置在有源區(qū)162、導(dǎo)電金屬段136及738和柵極153及154的部分上方。

在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電線713通過(guò)導(dǎo)電通孔722連接到導(dǎo)電金屬段133上。實(shí)際上，導(dǎo)電線713被配置為傳輸從導(dǎo)電金屬段133中輸出的信號(hào)。在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電線716通過(guò)導(dǎo)電通孔724連接到導(dǎo)電金屬段136。實(shí)際上，導(dǎo)電線716被配置為傳輸從導(dǎo)電金屬段136中輸出的信號(hào)。

在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電線712為電源線。為了說(shuō)明，電源線被配置為連接至電源vdd。在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電線715為接地線。為進(jìn)行說(shuō)明，接地線被配置為連接至接地vss。

為進(jìn)行說(shuō)明，導(dǎo)電線712通過(guò)導(dǎo)電通孔721、局部導(dǎo)電段141和導(dǎo)電金屬段532連接到有源區(qū)161內(nèi)的源極/漏極區(qū)。因此，導(dǎo)電線712和導(dǎo)電金屬段532之間存在電流路徑。

為進(jìn)行說(shuō)明，導(dǎo)電線715通過(guò)導(dǎo)電通孔723、局部導(dǎo)電段142和導(dǎo)電金屬段535連接到有源區(qū)162內(nèi)的源極/漏極區(qū)。因此，導(dǎo)電線715和導(dǎo)電金屬段535之間存在電流路徑。

在一些實(shí)施例中，半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)700的導(dǎo)電線711-716，導(dǎo)電通孔721-724，導(dǎo)電金屬段133、136、532、535、731、734和737及738和局部導(dǎo)電段141和142中的至少一個(gè)與meol工藝相連，和/或在meol工藝中形成。因此，在一些實(shí)施例中，meol導(dǎo)電帶包含導(dǎo)電線712、導(dǎo)電通孔721、導(dǎo)電金屬段731、532和局部導(dǎo)電段141，因此，為電力和/或信號(hào)傳輸提供了上述的電流路徑。

如圖7所示，在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電結(jié)構(gòu)700還包含隔離段771和/或772。為進(jìn)行說(shuō)明，隔離段771設(shè)置在導(dǎo)電線712和713之間。相應(yīng)地，在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電線712和713通過(guò)隔離段771互相電隔離。隔離段772設(shè)置在導(dǎo)電線715和716之間。相應(yīng)地，在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電線715和716通過(guò)隔離段772互相電隔離。

在一些實(shí)施例中，隔離段771和772由電絕緣材料形成，而導(dǎo)電線712、713、715和716由金屬形成。相應(yīng)地，在一些實(shí)施例中，本發(fā)明中所討論的術(shù)語(yǔ)“隔離段”也可指“金屬切割段”。

在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電通孔721設(shè)置在導(dǎo)電金屬段731的正上方。相應(yīng)地，有足夠的空間形成隔離段771，以隔離導(dǎo)電線712和713。

在一些實(shí)施例中，如圖9所示，隔離段771設(shè)置在導(dǎo)電金屬段532的正上方。相應(yīng)地，在一些實(shí)施例中，隔離段772設(shè)置在導(dǎo)電金屬段535的正上方。

圖8為根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的沿著圖7中的線8-8截取的截面圖。圖9為根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的沿著圖7中的線9-9截取的截面圖。關(guān)于圖7中的實(shí)施例，為便于理解，用相同的參考編號(hào)指定圖8和圖9的相同的元件。

為了在圖7和圖8中進(jìn)行說(shuō)明，以自上而下的順序，導(dǎo)電線712通過(guò)導(dǎo)電通孔721連接到局部導(dǎo)電金屬段141。局部導(dǎo)電段141的一部分設(shè)置在導(dǎo)電金屬段731內(nèi)。

為了在圖7和圖9中進(jìn)行說(shuō)明，局部導(dǎo)電段141的相對(duì)端分別設(shè)置在導(dǎo)電金屬段731和532內(nèi)。導(dǎo)電通孔721的底端與導(dǎo)電金屬段731和局部導(dǎo)電段141接觸。導(dǎo)電金屬段731的高度大于導(dǎo)電金屬段532的高度。如圖9所示，局部導(dǎo)電段141的高度加上柵極151的高度大體上等于導(dǎo)電金屬段532的高度。

在一些實(shí)施例中，如圖9所示，局部導(dǎo)電段141的頂面大體上與導(dǎo)電金屬段731和532的頂面對(duì)齊。

在一些實(shí)施例中，如圖9所示，局部導(dǎo)電段712和713的頂面大體上與隔離段771的頂面對(duì)齊。

在一些實(shí)施例中，導(dǎo)電線715、導(dǎo)電通孔723、導(dǎo)電金屬段734和535、柵極152和有源區(qū)162的關(guān)系和/配置與圖8和圖9所示的相對(duì)應(yīng)，且為簡(jiǎn)化說(shuō)明，本文不對(duì)其進(jìn)行進(jìn)一步的描述。

在一些實(shí)施例中，公開(kāi)了一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，包含第一有源區(qū)、第一導(dǎo)電線、第一導(dǎo)電通孔、第二導(dǎo)電通孔、通過(guò)第一導(dǎo)電通孔連接到第一導(dǎo)電線的第一導(dǎo)電金屬段、設(shè)置在第一有源區(qū)的上方并通過(guò)第二導(dǎo)電通孔連接到第一導(dǎo)電線連接的第二導(dǎo)電金屬段以及被配置為連接第一導(dǎo)電金屬段和第二導(dǎo)電金屬段的局部導(dǎo)電段。

本發(fā)明還公開(kāi)了一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，包含有源區(qū)、第一導(dǎo)電線、導(dǎo)電通孔、通過(guò)導(dǎo)電通孔與導(dǎo)電線連接的第一導(dǎo)電金屬段、設(shè)置在有源區(qū)上方的第二導(dǎo)電金屬段以及被配置為連接第一導(dǎo)電金屬段和第二導(dǎo)電金屬段的局部導(dǎo)電段。

本發(fā)明還公開(kāi)了一種方法，方法包含設(shè)置第一導(dǎo)電金屬段；在有源區(qū)的上方設(shè)置第二導(dǎo)電金屬段；設(shè)置局部金屬段以連接第一導(dǎo)電金屬段和第二導(dǎo)電金屬段；在第一導(dǎo)電金屬段上設(shè)置第一導(dǎo)電通孔；以及設(shè)置通過(guò)第一導(dǎo)電通孔連接至第一導(dǎo)電金屬段的第一導(dǎo)電線。

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，提供了一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，包括：第一有源區(qū)；第一導(dǎo)電線；第一導(dǎo)電通孔；第二導(dǎo)電通孔；第一導(dǎo)電金屬段，通過(guò)所述第一導(dǎo)電通孔連接至所述第一導(dǎo)電線；第二導(dǎo)電金屬段，設(shè)置在所述第一有源區(qū)上方并且通過(guò)所述第二導(dǎo)電通孔連接至所述第一導(dǎo)電線；以及第一局部導(dǎo)電段，配置為連接所述第一導(dǎo)電金屬段和所述第二導(dǎo)電金屬段。

在上述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)中，還包括：柵極，設(shè)置在所述第一源區(qū)上方以及設(shè)置在所述第一局部導(dǎo)電段下方。

在上述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)中，所述柵極設(shè)置在所述第一導(dǎo)電金屬段和所述第二導(dǎo)電金屬段之間。

在上述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)中，所述第一局部導(dǎo)電段的高度加上所述柵極的高度等于所述第二導(dǎo)電金屬段的高度。

在上述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)中，所述第一導(dǎo)電金屬段的高度大于所述第二導(dǎo)電金屬段的高度。

在上述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)中，從所述第一導(dǎo)電線通過(guò)所述第二導(dǎo)電通孔到所述第二導(dǎo)電金屬段形成一電流路徑，以及從所述第一導(dǎo)電線通過(guò)所述第一導(dǎo)電通孔、所述第一導(dǎo)電金屬段和所述第一局部導(dǎo)電段到所述第二導(dǎo)電金屬段形成另一電流路徑。

在上述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)中，還包括：第二有源區(qū)；第二導(dǎo)電線；第三導(dǎo)電通孔；四導(dǎo)電通孔；第三導(dǎo)電金屬段，通過(guò)所述第三導(dǎo)電通孔連接至所述第二導(dǎo)電線；第四導(dǎo)電金屬段，設(shè)置在所述第二有源區(qū)上方并且通過(guò)所述第四導(dǎo)電通孔連接至所述第二導(dǎo)電線；以及第二局部導(dǎo)電段，配置為連接所述第三導(dǎo)電金屬段和所述第四導(dǎo)電金屬段。

根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例，還提供了一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，包括：有源區(qū)；第一導(dǎo)電線；導(dǎo)電通孔；第一導(dǎo)電金屬段，通過(guò)所述導(dǎo)電通孔連接至所述第一導(dǎo)電線；第二導(dǎo)電金屬段，設(shè)置在所述有源區(qū)上方；以及局部導(dǎo)電段，配置為連接所述第一導(dǎo)電金屬段和所述第二導(dǎo)電金屬段。

在上述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)中，還包括：柵極，設(shè)置在所述有源區(qū)上方并且設(shè)置在所述局部導(dǎo)電段下方。

在上述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)中，所述柵極設(shè)置在所述第一導(dǎo)電金屬段和所述第二導(dǎo)電金屬段之間。

在上述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)中，所述第一導(dǎo)電金屬段的高度大于所述第二導(dǎo)電金屬段的高度。

在上述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)中，所述第二導(dǎo)電金屬段的長(zhǎng)度短于所述第一導(dǎo)電金屬段的長(zhǎng)度。

在上述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)中，從所述第一導(dǎo)電線通過(guò)所述導(dǎo)電通孔、所述第一導(dǎo)電金屬段和所述局部導(dǎo)電段到所述第二導(dǎo)電金屬段形成電流路徑。

在上述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)中，所述導(dǎo)電通孔的一端與所述第一導(dǎo)電線接觸，所述導(dǎo)電通孔的另一端與所述第一導(dǎo)電金屬段的部分和所述局部導(dǎo)電段的一端接觸。

在上述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)中，還包括：隔離段，設(shè)置在所述第二導(dǎo)電金屬段上方以用于將所述第一導(dǎo)電線與第二導(dǎo)電線隔離開(kāi)。

根據(jù)本發(fā)明的又一實(shí)施例，還提供了一種制造半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的方法，包括：設(shè)置第一導(dǎo)電金屬段；在有源區(qū)上方設(shè)置第二導(dǎo)電金屬段；設(shè)置局部導(dǎo)電段以連接所述第一導(dǎo)電金屬段和所述第二導(dǎo)電金屬段；在所述第一導(dǎo)電金屬段上設(shè)置第一導(dǎo)電通孔；以及設(shè)置第一導(dǎo)電線，所述第一導(dǎo)電線通過(guò)所述第一導(dǎo)電通孔連接至所述第一導(dǎo)電金屬段。

在上述方法中，還包括：在所述第二導(dǎo)電金屬段上設(shè)置第二導(dǎo)電通孔，其中，所述第一導(dǎo)電線連接至所述第二導(dǎo)電通孔。

在上述方法中，還包括：將柵極設(shè)置在所述有源區(qū)上方、所述局部導(dǎo)電段下方以及所述第一導(dǎo)電金屬段和所述第二導(dǎo)電金屬段之間。

在上述方法中，所述第一導(dǎo)電金屬段的高度大于所述第二導(dǎo)電金屬段的高度。

在上述方法中，還包括：在所述第二導(dǎo)電金屬段上方設(shè)置隔離段以用于將所述第一導(dǎo)電線與第二導(dǎo)電線隔離開(kāi)。

上面概述了若干實(shí)施例的特征，使得本領(lǐng)域人員可以更好地理解本發(fā)明的方面。本領(lǐng)域人員應(yīng)該理解，他們可以容易地使用本發(fā)明作為基礎(chǔ)來(lái)設(shè)計(jì)或修改用于實(shí)施與本人所介紹實(shí)施例相同的目的和/或?qū)崿F(xiàn)相同優(yōu)勢(shì)的其他工藝和結(jié)構(gòu)。本領(lǐng)域技術(shù)人員也應(yīng)該意識(shí)到，這種等同構(gòu)造并不背離本發(fā)明的精神和范圍，并且在不背離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，本文中他們可以做出多種變化、替換以及改變。