技術(shù)特征：

1.一種具備抗反射結(jié)構(gòu)的微顯示芯片，其特征在于，所述微顯示芯片的表面包括：發(fā)光區(qū)、非發(fā)光區(qū)以及io區(qū)；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微顯示芯片，其特征在于，

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的微顯示芯片，其特征在于，

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的微顯示芯片，其特征在于，

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微顯示芯片，其特征在于，

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的微顯示芯片，其特征在于，

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的微顯示芯片，其特征在于，

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微顯示芯片，其特征在于，

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微顯示芯片，其特征在于，

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微顯示芯片，其特征在于，

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微顯示芯片，其特征在于，

12.一種微顯示芯片的制備方法，其特征在于，所述方法用于制備如權(quán)利要求1至11任一項所述的微顯示芯片，所述微顯示芯片的表面包括：發(fā)光區(qū)、非發(fā)光區(qū)以及io區(qū)，所述方法包括：

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，所述抗反射單元為微透鏡單元；

14.根據(jù)權(quán)利要求12所示的方法，其特征在于，所述抗反射單元為微透鏡單元；

15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，所述抗反射單元為微透鏡單元；

16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，所述抗反射單元為粗化后的化合物像素單元；

17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開一種具備抗反射結(jié)構(gòu)的微顯示芯片及其制備方法，涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域。該微顯示芯片的表面包括：發(fā)光區(qū)、非發(fā)光區(qū)以及IO區(qū)；所述發(fā)光區(qū)上設(shè)置有發(fā)光像素；所述非發(fā)光區(qū)上設(shè)置有抗反射結(jié)構(gòu)，所述抗反射結(jié)構(gòu)與所述發(fā)光像素在所述微顯示芯片的表面上呈現(xiàn)平鋪設(shè)置；其中，所述抗反射結(jié)構(gòu)包括多個抗反射單元，多個抗反射單元朝遠離所述微顯示芯片的表面的方向凸起，以使得所述抗反射結(jié)構(gòu)具有凹凸不平的表面，所述抗反射結(jié)構(gòu)用于對入射的反射光線進行漫反射，所述反射光線是所述發(fā)光區(qū)的發(fā)光像素發(fā)出光線后，經(jīng)與所述微顯示芯片相對設(shè)置的成像端反射所形成的光線。從而通過抗反射結(jié)構(gòu)本身的結(jié)構(gòu)特性，解決設(shè)備成像端的眩光、重影問題。

技術(shù)研發(fā)人員：楊志祥,顏改革,朱酉良,邵明鏡
受保護的技術(shù)使用者：諾視科技（蘇州）有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/10/21