線路布局及其間隙壁自對準(zhǔn)四重圖案化的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種線路布局以及線路布局方法，特別是涉及一種線路布局及其間隙壁自對準(zhǔn)四重圖案化(spacer self-aligned quadruple patterning，SAQP)的方法工藝。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著半導(dǎo)體組件的尺寸不斷縮小，目前提出了使用具有13.5nm的短波長的極紫外光(extreme ultrav1let，EUV)的曝光技術(shù)。然而，上述曝光技術(shù)卻無法用于大量生產(chǎn)而且需要高昂的設(shè)備成本。因此，目前期待采用間隙壁自對準(zhǔn)雙重圖案化(spacerself-aligned double patterning，SADP)技術(shù)，以克服極紫外光的曝光技術(shù)所具有的問題。
[0003]間隙壁自對準(zhǔn)雙重圖案化是一種借由在第一罩幕圖案的側(cè)壁上形成間隙壁，并在上述間隙壁之間形成第二罩幕圖案，最后將上述間隙壁移除的技術(shù)。借由自對準(zhǔn)雙重圖案化，可以使所得到的線距縮小至一般的微影蝕刻工藝的線距的一半。
[0004]此外，目前在自對準(zhǔn)雙重圖案化的基礎(chǔ)上又提出了可以進(jìn)一步縮小線距的間隙壁自對準(zhǔn)四重圖案化技術(shù)。間隙壁自對準(zhǔn)四重圖案化是進(jìn)行兩次自對準(zhǔn)雙重圖案化的技術(shù)。然而，使用自對準(zhǔn)四重圖案化技術(shù)所制造的線路普遍會存在線路末端之間的間隔距離過小，從而導(dǎo)致這些線路之間的不當(dāng)電性連接。為了解決上述問題，目前大多在間隙壁自對準(zhǔn)四重圖案化工藝中使用多次微影蝕刻工藝。多次微影蝕刻工藝雖然可以有效增加線路末端之間的間隔距離，卻也增加了制造成本以及工藝的復(fù)雜度。
[0005]基于以上所述，目前亟需一種能夠在使用較少次數(shù)的微影工藝的情況下，有效增加線路末端之間的間隔距離的工藝技術(shù)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的目的在于，提供一種新的線路布局及其間隙壁自對準(zhǔn)四重圖案化的方法，所要解決的技術(shù)問題是使其能夠在使用較少次數(shù)的微影工藝的情況下，有效增加線路末端之間的間隔距離。
[0007]本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題是采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的。依據(jù)本發(fā)明提出的一種線路布局的間隙壁自對準(zhǔn)四重圖案化的方法，所述線路布局方法包括:形成核心層，所述核心層包括:主體層，其包括末端部，沿著第一方向延伸；第一輔助層，與所述主體層的所述末端部連接；以及兩個第二輔助層，與所述第一輔助層的兩側(cè)連接，且沿著第二方向延伸。形成第一間隙壁，在所述核心層的側(cè)壁。移除所述核心層。形成第二間隙壁與第三間隙壁，在所述第一間隙壁的側(cè)壁，所述第二間隙壁位于所述第三間隙壁之中，且具有對應(yīng)于所述第二輔助層的兩個第一凸出部。移除所述第一間隙壁。移除部分所述第二間隙壁、以及部分所述第一凸出部，并進(jìn)行一圖案轉(zhuǎn)移工藝，以形成第一線路以及第二線路。移除部分所述第三間隙壁并進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)移工藝，以形成第三線路以及第四線路，所述第一線路與所述第二線路位于所述第三線路與所述第四線路之間。
[0008]本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實現(xiàn)。
[0009]前述的線路布局的間隙壁自對準(zhǔn)四重圖案化的方法，其中移除部分所述第二間隙壁、以及部分所述第一凸出部的步驟以及移除部分所述第三間隙壁的步驟包括:移除位于U型的預(yù)定區(qū)的所述第二間隙壁、所述第三間隙壁、以及所述第一凸出部。所述預(yù)定區(qū)涵蓋對應(yīng)于第一輔助層底部與下側(cè)壁的部分所述第二間隙壁及其周圍的部分所述第三間隙壁、以及部分所述第一凸出部。
[0010]前述的線路布局的間隙壁自對準(zhǔn)四重圖案化的方法，其中每一第二輔助層包括:兩個第一延伸部，與所述第一輔助層的兩側(cè)連接，且沿著所述第二方向延伸；以及兩個第二延伸部，與所述第一輔助層的兩側(cè)連接，且沿著所述第二方向延伸，其中所述第二延伸部位于所述第一輔助層的底部。
[0011]前述的線路布局的間隙壁自對準(zhǔn)四重圖案化的方法，其中所述第三間隙壁還具有沿著所述第二方向延伸且朝向所述第二間隙壁凸出的兩個第二凸出部。
[0012]前述的線路布局的間隙壁自對準(zhǔn)四重圖案化的方法，其中移除部分所述第二間隙壁、以及部分所述第一凸出部的步驟以及移除部分所述第三間隙壁的步驟包括:移除位于U型的預(yù)定區(qū)的所述第二間隙壁、所述第三間隙壁、以及所述第二凸出部；其中所述預(yù)定區(qū)涵蓋對應(yīng)于所述第一輔助層底部與下側(cè)壁的部分所述第二間隙壁及其周圍的部分所述第三間隙壁、以及部分所述第二凸出部，且在所述第一方向上延伸至所述第一凸出部的邊緣。
[0013]本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn)。依據(jù)本發(fā)明提出的一種線路布局，包括:第一線路、第二線路、第三線路以及第四線路，所述第二線路與所述第三線路位于所述第一線路與所述第四線路之間，且所述第一線路至所述第四線路分別沿著第一方向延伸；其中所述第二線路的末段以及所述第三線路的末段分別具有沿著所述第二方向延伸的第一凸出部。所述第二線路的末段的所述第一凸出部朝向所述第一線路凸出。所述第三線路的末段的所述第一凸出部朝向所述第四線路凸出。
[0014]本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實現(xiàn)。
[0015]前述的線路布局，其中所述第一線路的末段的端點與所述第二線路的末段的端點在所述第二方向上的間隔距離大于等于所述第一線路的寬度、以及所述第一線路起始段的端點與所述第二線路起始段的端點的間隔距離的總和，所述第四線路的末段的端點與所述第三線路的末段的端點在所述第二方向上的間隔距離大于等于所述第四線路的寬度、以及所述第四線路起始段的端點與所述第三線路起始段的端點的間隔距離的總和。
[0016]前述的線路布局，其中所述第二線路的末段的端點與所述第三線路的末段的端點在所述第二方向上的間隔距離大于所述第一線路的末段的端點與所述第二線路的末段的端點在所述第二方向上的間隔距離，且大于所述第三線路的末段的端點與所述第四線路的末段的端點在所述第二方向上的間隔距離。
[0017]前述的線路布局，其中所述第一線路的末段以及所述第四線路的末段分別具有沿著所述第二方向延伸的兩個第二凸出部。所述第一線路的末段的所述兩個第二凸出部朝向所述第二線路凸出。所述第四線路的末段的所述兩個第二凸出部朝向所述第三線路凸出。
[0018]本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題另外還采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn)。依據(jù)本發(fā)明提出的一種線路布局，包括:末段均呈階梯狀的第一線路至第四線路，所述第二線路與所述第三線路位于所述第一線路與所述第四線路之間，且所述第二線路與所述第三線路的末段的階梯數(shù)少于所述第一線路與所述第四線路的末段的階梯數(shù)。
[0019]本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實現(xiàn)。
[0020]前述的線路布局，其中所述第一線路末段的階梯和所述第二線路末段的階梯的走向相同，且與所述第三線路末段的階梯和所述第四線路的末段的階梯走向相反。
[0021]前述的線路布局，其中所述第一線路至所述第四線路分別沿著第一方向延伸。所述第二線路的末段以及所述第三線路的末段分別具有沿著所述第二方向延伸且朝向所述第一線路以及所述第四線路凸出的兩個第一凸出部。所述第一線路的末段以及所述第四線路的末段分別具有沿著所述第二方向延伸且朝向所述第二線路以及所述第三線路凸出的兩個第二凸出部。
[0022]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點和有益效果。借由上述技術(shù)方案，本發(fā)明線路布局及其間隙壁自對準(zhǔn)四重圖案化的方法至少具有下列優(yōu)點及有益效果:本發(fā)明借由形成具有朝向兩側(cè)凸出的輔助層的核心層，而可在使用較少次數(shù)的微影工藝的情況下，有效增加線路末端之間的間隔距離。
[0023]綜上所述，本發(fā)明是有關(guān)于一種線路布局及其間隙壁自對準(zhǔn)四重圖案化的方法。該線路布局包括:第一線路、第二線路、第三線路與第四線路。第二線路與第三線路位于第一線路與第四線路之間，且第一線路、第二線路、第三線路與第四線路分別沿著第一方向延伸。第二線路的末段以及第三線路的末段分別具有沿著第二方向延伸的第一凸出部。第二線路的末段的第一凸出部朝向第一線路凸出。第三線路的末段的第一凸出部朝向第四線路凸出。本發(fā)明在技術(shù)上有顯著的進(jìn)步，并具有明顯的積極效果，誠為一新穎、進(jìn)步、實用的新設(shè)計。
[0024]上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，并配合附圖，詳細(xì)說明如下。
【附圖說明】
[0025]圖1A至圖1G是依照本發(fā)明的第一實施例所繪示的線路布局方法的流程的俯視示意圖。
[0026]圖2A-1至圖2F-2分別是沿圖1A至圖1F的A_A線以及B_B線的剖面示意圖。
[0027]圖3A至圖3G是依照本發(fā)明的第二實施例所繪示的線路布局方法的流程的俯視示意圖。