配置以執(zhí)行本文中所描述的技術(shù)的至少一個(gè)存儲器和至少一個(gè)處理器。檢驗(yàn)系統(tǒng)的一個(gè)實(shí)例包含可從美國加州苗必達(dá)市KLA-Tencor購得的經(jīng)特殊配置的TeraScan? DUV檢驗(yàn)系統(tǒng)。
[0091]盡管為清楚理解的目的已詳細(xì)地描述本發(fā)明，但將明白，可在所附權(quán)利要求書的范圍內(nèi)實(shí)踐某些改變和修改。應(yīng)注意，存在實(shí)施本發(fā)明的過程、系統(tǒng)和設(shè)備的許多替代方式。因此，本實(shí)施例應(yīng)視為說明性而非限制性，且本發(fā)明不限于本文中給定的細(xì)節(jié)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種檢驗(yàn)光刻光罩的方法，所述方法包括: 執(zhí)行已識別為在規(guī)格內(nèi)的光罩的第一單裸片檢驗(yàn)以便產(chǎn)生對應(yīng)于所述光罩的多個(gè)異?；€特征的多個(gè)基線事件，其中每一基線事件指示對應(yīng)異?；€特征的位置和尺寸值； 于在一或多個(gè)光刻工藝中使用所述光罩后，經(jīng)由光罩檢驗(yàn)工具執(zhí)行所述光罩的第二單裸片檢驗(yàn)以便產(chǎn)生對應(yīng)于所述光罩的多個(gè)當(dāng)前異常特征的多個(gè)當(dāng)前事件，其中每一當(dāng)前事件指示對應(yīng)的當(dāng)前異常特征的位置和尺寸值;以及 產(chǎn)生多個(gè)候選光罩缺陷和其圖像的檢驗(yàn)報(bào)告，其中所述候選缺陷包含所述當(dāng)前事件的第一子集和其對應(yīng)的多個(gè)候選缺陷圖像且排除所述當(dāng)前事件的第二子集和其對應(yīng)的多個(gè)經(jīng)排除圖像，其中包含于所述檢驗(yàn)報(bào)告中的事件的所述第一子集中的每一者具有無法以預(yù)定義量匹配任何基線事件的位置和尺寸值的位置和尺寸值，且從所述檢驗(yàn)報(bào)告排除的事件的所述第二子集中的每一者具有以所述預(yù)定義量匹配任何基線事件的位置和尺寸值的位置和尺寸值。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中至少一些所述基線事件對應(yīng)于多個(gè)光罩特征，所述多個(gè)光罩特征經(jīng)設(shè)計(jì)為相同的，之后對此類光罩特征實(shí)施光學(xué)鄰近校正OPC過程以添加OPC裝飾使得此類光罩特征不再相同。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中至少一些所述基線事件對應(yīng)于并非為用于此光罩的原始設(shè)計(jì)的部分且經(jīng)確定為使用此光罩并不限制晶片良率的光罩特征。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中至少一些所述基線事件對應(yīng)于已確定為在使用所述光罩的光刻工藝期間并未印刷在晶片上的光罩特征。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中至少一些所述基線事件對應(yīng)于用于校正所述光罩上的缺陷的修復(fù)特征。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第一和第二單裸片檢驗(yàn)基于此類特征的背景確定所述光罩的哪些特征是非典型的。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中所述第一和第二單裸片檢驗(yàn)包含模板匹配。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其進(jìn)一步包括摒棄所述基線事件的多個(gè)基線圖像和摒棄候選事件的所述第二子集的對應(yīng)圖像。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中每一基線事件進(jìn)一步指示通道且從所述檢驗(yàn)報(bào)告排除的事件的所述第二子集中的每一者具有以預(yù)定義量匹配任何基線事件的通道以及位置和尺寸值的通道以及位置和尺寸值。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中產(chǎn)生所述候選缺陷和其圖像的所述檢驗(yàn)報(bào)告包括: 對于具有無法以預(yù)定義量匹配任何基線事件的位置和尺寸值的位置和尺寸值的每一當(dāng)前事件，通過執(zhí)行具有比所述第二單裸片檢驗(yàn)較不嚴(yán)格的閥值或算法的第三單裸片檢驗(yàn)來確定此當(dāng)前事件是否為候選缺陷。11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述候選缺陷圖像和所述經(jīng)排除的圖像包含經(jīng)反射圖像、經(jīng)透射圖像或組合的經(jīng)反射和透射圖像的一或多個(gè)組合。12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述候選缺陷進(jìn)一步包含各自具有以預(yù)定義量匹配任何基線事件的位置和尺寸值且經(jīng)識別為修復(fù)位置的位置和尺寸值的當(dāng)前事件的第三子集。13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中使用光罩檢驗(yàn)工具來執(zhí)行所述第一單裸片檢驗(yàn)。14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中對從設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)庫產(chǎn)生的光罩圖像執(zhí)行所述第一單裸片檢驗(yàn)。15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中通過以下步驟找到所述當(dāng)前異常事件與基線當(dāng)前事件之間的匹配: 找到所述當(dāng)前異常事件和基線異常事件的子集以及其對應(yīng)測試圖像的參考圖像； 對于當(dāng)前異常事件和基線異常事件的所述子集，基于參考圖像與其對應(yīng)測試圖像之間的比較找到當(dāng)前候選缺陷和基線候選缺陷；以及 確定任何當(dāng)前候選缺陷與基線候選缺陷之間是否存在匹配且僅對于并不具有匹配的一或多個(gè)候選缺陷執(zhí)行進(jìn)一步處理，其中所述參考圖像的至少一個(gè)部分為基線異常事件的基線圖像，對于所述基線異常事件并未找到對應(yīng)參考圖像。16.—種用于檢驗(yàn)光刻光罩的檢驗(yàn)系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括經(jīng)配置以執(zhí)行以下操作的至少一個(gè)存儲器和至少一個(gè)處理器: 在已識別為在規(guī)格內(nèi)的光罩的第一單裸片檢驗(yàn)中，產(chǎn)生對應(yīng)于所述光罩的多個(gè)異?；€特征的多個(gè)基線事件，其中每一基線事件指示對應(yīng)異?；€特征的位置和尺寸值； 于在一或多個(gè)光刻工藝中使用所述光罩后，執(zhí)行所述光罩的第二單裸片檢驗(yàn)以便產(chǎn)生對應(yīng)于所述光罩的多個(gè)當(dāng)前異常特征的多個(gè)當(dāng)前事件，其中每一當(dāng)前事件指示對應(yīng)的當(dāng)前異常特征的位置和尺寸值;以及 產(chǎn)生多個(gè)候選光罩缺陷和其圖像的檢驗(yàn)報(bào)告，其中所述候選缺陷包含所述當(dāng)前事件的第一子集和其對應(yīng)的多個(gè)候選缺陷圖像且排除所述當(dāng)前事件的第二子集和其對應(yīng)的多個(gè)經(jīng)排除圖像，其中包含于所述檢驗(yàn)報(bào)告中的事件的所述第一子集中的每一者具有無法以預(yù)定義量匹配任何基線事件的位置和尺寸值的位置和尺寸值，且從所述檢驗(yàn)報(bào)告排除的事件的所述第二子集中的每一者具有以所述預(yù)定義量匹配任何基線事件的位置和尺寸值的位置和尺寸值。17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中至少一些所述基線事件對應(yīng)于多個(gè)光罩特征，所述多個(gè)光罩特征經(jīng)設(shè)計(jì)為相同的，之后對此類光罩特征實(shí)施光學(xué)鄰近校正OPC過程以添加OPC裝飾使得此類光罩特征不再相同。18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中至少一些所述基線事件對應(yīng)于并非為用于此光罩的原始設(shè)計(jì)的部分且經(jīng)確定為使用此光罩并不限制晶片良率的光罩特征。19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中至少一些所述基線事件對應(yīng)于已確定為在使用所述光罩的光刻工藝期間并未印刷在晶片上的光罩特征。20.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中至少一些所述基線事件對應(yīng)于用于校正所述光罩上的缺陷的修復(fù)特征。21.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中所述第一和第二單裸片檢驗(yàn)基于此類特征的背景確定所述光罩的哪些特征是非典型的。22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的系統(tǒng)，其中所述第一和第二單裸片檢驗(yàn)包含模板匹配。23.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中所述至少一個(gè)存儲器和至少一個(gè)處理器進(jìn)一步經(jīng)配置以用于摒棄所述基線事件的多個(gè)基線圖像和摒棄候選事件的所述第二子集的對應(yīng)圖像。24.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中每一基線事件進(jìn)一步指示通道且從所述檢驗(yàn)報(bào)告排除的事件的所述第二子集中的每一者具有以預(yù)定義量匹配任何基線事件的通道以及位置和尺寸值的通道以及位置和尺寸值。25.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中產(chǎn)生所述候選缺陷和其圖像的所述檢驗(yàn)報(bào)告包括: 對于具有無法以預(yù)定義量匹配任何基線事件的位置和尺寸值的位置和尺寸值的每一當(dāng)前事件，通過執(zhí)行具有比所述第二單裸片檢驗(yàn)較不嚴(yán)格的閥值或算法的第三單裸片檢驗(yàn)來確定此當(dāng)前事件是否為候選缺陷。26.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中所述候選缺陷圖像和所述經(jīng)排除的圖像包含經(jīng)反射圖像、經(jīng)透射圖像或經(jīng)組合的經(jīng)反射和透射圖像的一或多個(gè)組合。27.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中所述候選缺陷進(jìn)一步包含各自具有以預(yù)定義量匹配任何基線事件的位置和尺寸值且經(jīng)識別為修復(fù)位置的位置和尺寸值的當(dāng)前事件的第三子集。28.—種其上存儲有用于執(zhí)行以下操作的指令的計(jì)算機(jī)可讀媒體: 執(zhí)行已識別為在規(guī)格內(nèi)的光罩的第一單裸片檢驗(yàn)以便產(chǎn)生對應(yīng)于所述光罩的多個(gè)異?；€特征的多個(gè)基線事件，其中每一基線事件指示對應(yīng)異?；€特征的位置和尺寸值； 于在一或多個(gè)光刻工藝中使用所述光罩后，經(jīng)由光學(xué)光罩檢驗(yàn)工具執(zhí)行所述光罩的第二單裸片檢驗(yàn)以便產(chǎn)生對應(yīng)于所述光罩的多個(gè)當(dāng)前異常特征的多個(gè)當(dāng)前事件，其中每一當(dāng)前事件指示對應(yīng)當(dāng)前異常特征的位置和尺寸值;以及 產(chǎn)生多個(gè)候選光罩缺陷和其圖像的檢驗(yàn)報(bào)告，其中所述候選缺陷包含所述當(dāng)前事件的第一子集和其對應(yīng)的多個(gè)候選缺陷圖像且排除所述當(dāng)前事件的第二子集和其對應(yīng)的多個(gè)經(jīng)排除圖像，其中包含于所述檢驗(yàn)報(bào)告中的事件的所述第一子集中的每一者具有無法以預(yù)定義量匹配任何基線事件的位置和尺寸值的位置和尺寸值，且從所述檢驗(yàn)報(bào)告排除的事件的所述第二子集中的每一者具有以所述預(yù)定義量匹配任何基線事件的位置和尺寸值的位置和尺寸值。
【專利摘要】本發(fā)明揭示檢驗(yàn)在規(guī)格內(nèi)的光罩以便產(chǎn)生指示每一異常光罩特征的位置和尺寸值的基線事件。于在光刻中使用所述光罩后，檢驗(yàn)所述光罩以便產(chǎn)生指示每一異常光罩特征的位置和尺寸值的當(dāng)前事件。產(chǎn)生候選缺陷和其圖像的檢驗(yàn)報(bào)告，使得這些候選缺陷包含所述當(dāng)前事件的第一子集和其對應(yīng)的候選缺陷圖像，且排除所述當(dāng)前事件的第二子集和其對應(yīng)的被排除圖像。所述第一所包含事件中的每一者具有無法匹配任何基線事件的位置和尺寸值的位置和尺寸值，且所述被排除的第二事件中的每一者具有匹配基線事件的位置和尺寸值的位置和尺寸值。
【IPC分類】H01L21/66
【公開號】CN105531807
【申請?zhí)枴緾N201480049582
【發(fā)明人】官淳, 熊亞霖, 約瑟夫·布萊謝, 羅伯特·A·康斯托克, 馬克·J·維爾
【申請人】科磊股份有限公司
【公開日】2016年4月27日
【申請日】2014年7月29日
【公告號】US20150029498, WO2015017453A1