本發(fā)明關(guān)于用于供電予一電弧爐的一種裝置及其方法，特別是允許在一電弧爐中，在所述融化步驟中控制所述電弧。

優(yōu)選地，用于供電予所述爐的所述裝置以及方法允許執(zhí)行由所述融化電弧提供能量的至少兩種調(diào)整模式。

背景技術(shù)：

用于融化金屬的供電予一電弧爐的所述電極的裝置是習(xí)知的。

所述電極被放入所述電爐以及可以被移動進(jìn)去所述電爐，靠近/遠(yuǎn)離所述金屬盆，用于調(diào)節(jié)整體融化的所述固體金屬。

現(xiàn)有技術(shù)的電力啟動裝置包括用于調(diào)節(jié)所述電極的位置，允許相對所述金屬去抬高或降低所述電極為了去更改所述電弧的長度。然而，所述電極的位置的調(diào)整是相當(dāng)緩慢的，當(dāng)在電量或在電弧的產(chǎn)生意外的改變時，無法允許去執(zhí)行快速的修正。

事實(shí)上，如果所述電弧變得較長，換句話說，假如所述電極是較遠(yuǎn)離于所述用于融化的金屬，為了去支持以及避免所述電極關(guān)閉，所施加的電壓會必須增加；如果所述電弧變得較短，電流會增加，因此通過所述電弧提供的功率會產(chǎn)生無法控制的增加，可能造成爐或頂部的損壞。

所述電弧電壓以及給予的電流是與所述電極以及所述用于 融化的物質(zhì)之間的距離呈等比例的。因此，對于給定的運(yùn)轉(zhuǎn)狀態(tài)，它提供到達(dá)所述電弧的一參考電流，一穩(wěn)定的電弧狀態(tài)在相對于功率電壓的特性曲線下，是通過調(diào)節(jié)所述電極和所述物質(zhì)之間的距離而得到。

現(xiàn)有種類的啟動裝置一般包括一多閥轉(zhuǎn)接器用于轉(zhuǎn)換通過一電力供應(yīng)網(wǎng)絡(luò)提供的電壓。

通過所述轉(zhuǎn)換器的閥，可以調(diào)節(jié)所述電弧的電壓以及長度，用以調(diào)節(jié)所述融化功率。

這些類型的啟動裝置有個缺點(diǎn)，連接到瞬時吸收能量，這是從電力網(wǎng)絡(luò)和其發(fā)生在熔化的開始由于由電弧的不穩(wěn)定和廢料的滑動產(chǎn)生的頻繁短路。在一些情況下，這會引起在網(wǎng)絡(luò)電壓的波動(這種現(xiàn)象也被稱為閃爍)。

在現(xiàn)有技術(shù)的情況下，用于電弧爐的啟動裝置包括一直流矯正電路，用于轉(zhuǎn)換通過所述電力網(wǎng)絡(luò)提供的交流電流為直流電流，以及用于啟動所述電極的一轉(zhuǎn)換器電路。

使用這種類型的現(xiàn)有技術(shù)的配置來驅(qū)動電弧爐的一個解決方案是在美國專利申請案2007/0247079A1和美國專利申請案US6421366 B1中所述的例子。

然而，存在于這些啟動裝置的轉(zhuǎn)換器電路不允許，補(bǔ)償從電弧送出以及影響到電力網(wǎng)絡(luò)的干擾。確實(shí)，轉(zhuǎn)換器電路，因為所執(zhí)行的電流的調(diào)制，當(dāng)在電流中產(chǎn)生諧波進(jìn)入所述電力網(wǎng)絡(luò)中可能是有害的。

本發(fā)明的目的在于得到允許有效率地調(diào)整功率的一種用于 供電予一電弧爐的一種裝置及其方法。

本發(fā)明的另一目的是用于得到一裝置以及實(shí)施允許去調(diào)節(jié)所述電弧電壓以及所述電弧電流以保證在融化時所述電弧的穩(wěn)定度的一方法。

本發(fā)明的另一目的是用于得到降低相較于一現(xiàn)有技術(shù)的類型的裝置影響所述電力網(wǎng)絡(luò)中的干擾。

本申請人已經(jīng)設(shè)計，試驗和實(shí)施了本發(fā)明，以克服現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)并獲得這些和其它目的和優(yōu)點(diǎn)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明闡述和表示特征在獨(dú)立權(quán)利要求，同時從屬權(quán)利要求描述其他特征或?qū)λ鲋饕l(fā)明構(gòu)思的變量。

按照上述目的，用于供電予一電弧爐的一裝置包括至少一上方電極，優(yōu)選地，二或三，以及可以連接至一電力網(wǎng)絡(luò)以提供所述電極電能，用以產(chǎn)生一電弧，以融化一金屬塊。

所述裝置包括插入以及連接至所述電力網(wǎng)絡(luò)以及所述電極的一電力調(diào)節(jié)單元，用于調(diào)節(jié)供電給所述電極的至少一電量。

按照本發(fā)明的一目的，所述裝置包括插介于所述電極以及所述電力調(diào)節(jié)單元之間用于偵測所述電量的至少一偵測裝置；一定位裝置用于移動所述至少一電極靠近/遠(yuǎn)離欲融化的所述金屬塊。

按照本發(fā)明的另一目的，所述裝置包括連接至所述電力調(diào)節(jié)單元、所述電力網(wǎng)絡(luò)以及所述定位裝置的一控制與命令單元，以控制所述電力調(diào)節(jié)單元以及所述定位裝置，并通過作動在所述電 力調(diào)節(jié)單元以實(shí)施所述電弧的一第一控制，以及通過作動在所述定位裝置以實(shí)施所述電弧的一第二控制。

以這種方式，可以實(shí)現(xiàn)一混合控制裝置，其中，相應(yīng)于所需的熔化能力的電量，小振幅變動的快速動態(tài)特性是通過所述第一控制，即，通過所述電極的移動；當(dāng)較大的振幅變動的緩慢動態(tài)特性通過電量的調(diào)整，是通過所述第二控制管理。

本發(fā)明的實(shí)施方式的形式還涉及一種用予一電弧爐的電力供應(yīng)方法，提供通過一電力網(wǎng)絡(luò)供電予至少一電極去產(chǎn)生一電弧，以及通過插入以及連接至所述電力網(wǎng)絡(luò)以及連接至所述電極的一電力調(diào)節(jié)單元去調(diào)節(jié)用于供電給所述電極的至少一電量。

依照實(shí)施例的某些形式，所述方法包括使用插介于所述電極以及所述電力調(diào)節(jié)單元之間的至少一偵測裝置去偵測所述電量，利用一定位裝置移動所述至少一電極靠近/遠(yuǎn)離用于融化的所述金屬塊以及控制所述電力調(diào)節(jié)單元以及所述定位裝置通過作動在所述電力調(diào)節(jié)單元以實(shí)施所述電弧的一第一控制，以及通過作動在所述定位裝置以實(shí)施所述電弧的一第二控制。

【附圖說明】

本發(fā)明的這些和其它特點(diǎn)從后續(xù)實(shí)施例的一些形式將變得顯而易見，作為伴隨附圖的非限制性的范例，其中：

圖1，繪示依照這里描述的某些形式的實(shí)施例的用于一電弧爐的電力供應(yīng)裝置的示意圖；

圖2，繪示在圖1中依照這里描述的某些形式的實(shí)施例的詳細(xì)示意圖。

為了便于理解，相同的參考代碼已被使用，在可能的情況，用于定義在附圖中相同的一般組件。應(yīng)當(dāng)理解的是，實(shí)施例的一種形式中的特性和組件可以方便地結(jié)合至其它形式的實(shí)施例，而無需進(jìn)一步的澄清。

【具體實(shí)施方式】

我們現(xiàn)在將詳細(xì)參考本發(fā)明的實(shí)施例的各種形式的，其中一個或多個范例表示于附圖中。每一個實(shí)例通過本發(fā)明的說明的方式提供的，不應(yīng)被理解為限制本發(fā)明。例如，表示的特征或因此描述作為它們的實(shí)施例的一種形式的部分可以被采用的或相關(guān)聯(lián)的，其它形式的實(shí)施方案，以產(chǎn)生實(shí)施例的另一種形式的特征?？梢岳斫獾氖?，本發(fā)明應(yīng)當(dāng)包括所有這些修改和變更。

依照本發(fā)明，本發(fā)明關(guān)于用于供電予一電弧爐60的一裝置10。

所述電弧爐60包括一或多個電極62，在這種情況下，例如以一個電極62為例，可以被提供電力以提供用于融化一金屬塊所需要的能量。

依照實(shí)施例的一些形式，可以有兩個、三個或多于三個電極62。

所述裝置10是連接至一電力網(wǎng)絡(luò)50，例如，一個三相電力網(wǎng)絡(luò)，在圖2中用三相R.S.T表示。

所述電力網(wǎng)絡(luò)50供應(yīng)所述電極62為了融化所需要的電量。

優(yōu)選地，一供給電流Ii以及一供給電壓Ui可以從所述電力網(wǎng) 絡(luò)50獲得，通過所述裝置10適當(dāng)?shù)毓╇娊o所述電極62。

依照實(shí)施例的一些形式，所述裝置10包括偵測裝置24,26，設(shè)置于去偵測通過所述電力網(wǎng)絡(luò)50提供的各別對應(yīng)所述供給電流Ii以及所述供給電壓Ui的數(shù)值。

所述偵測裝置24可以是，例如，一安培計或一互感式安培計，設(shè)置用于偵測所述供給電流Ii的強(qiáng)度，同時所述偵測裝置26可以是，例如，一伏特計或一互感式伏特計，設(shè)置用于偵測電壓差異，即所述供給電壓Ui。

依照實(shí)施例的一些形式，所述裝置10包括插入以及連接至所述電力網(wǎng)絡(luò)50以及所述電極62的一電力調(diào)節(jié)單元12，用于調(diào)節(jié)供電予所述電弧爐60的所述一或多個電極62的至少一電量，以及保證所述電弧的穩(wěn)定度。

依照本發(fā)明的一可能的規(guī)劃，所述電量的調(diào)整用于提供所述電力供給電流的強(qiáng)度以及頻率。

依照一可能的變數(shù)，所述電量的調(diào)整用于去調(diào)整所述供給電壓的頻率、波型以及振幅，允許去控制所述電流供應(yīng)以及必然地控制所述融化能量。

依照實(shí)施例的一些形式，所述電力調(diào)節(jié)單元12包括一轉(zhuǎn)換裝置18設(shè)置用于轉(zhuǎn)換所述電力網(wǎng)絡(luò)50的所述供給電流Ii以及所述供給電壓Ui為所述電弧的電流數(shù)值IA以及所述電弧的電壓數(shù)值UA以供電予所述電極62。

依照實(shí)施例的一些形式，所述轉(zhuǎn)換裝置18包括復(fù)數(shù)個模塊 34，每個模塊34包括一相位次模塊34R,34S,34T用于所述供給電流的所述項位電流R,S,T。

所述些模塊34彼此是并聯(lián)連接并與所述電力網(wǎng)絡(luò)50連接，每個模塊34設(shè)置于轉(zhuǎn)換所述供給電流Ii以及所述供給電壓Ui。

所述相位次模塊34R,34S,34T允許去管理對每一個相位R,S,T的供給電流Ii以及供給電壓Ui。

即使模塊的數(shù)量可以多于或少于三個，依照圖1是提供三個模塊34。

依照實(shí)施例的一些形式(圖2)，每一個相位次模塊34R,34S,34T包括一直流矯正電路36，設(shè)置用于直流矯正以及或者調(diào)整通過所述電力網(wǎng)絡(luò)50提供的各自的相位電流。

所述直流矯正電路36能夠通過受一受控制的二極管橋接或晶體閘流管橋接的手段來實(shí)現(xiàn)。

依照使用圖2所描述的實(shí)施例的一些形式，每一個相位次模塊34R,34S,34T包括在直流的一中間電路38，也稱作直流鏈(DC-link)，設(shè)置用于儲存能量以及創(chuàng)造介于所述外部的電力網(wǎng)絡(luò)50以及所述電極62之間的一分隔，以及一反相電路40，設(shè)置用于在出口處反轉(zhuǎn)電流調(diào)整頻率以及可能的交流電流的基本的振幅。

對于供電給同相位的電極側(cè)的每一個反相電路40而言，一中間電路38的存在允許去補(bǔ)償來自所述電弧的干擾，進(jìn)而限制了在電源網(wǎng)絡(luò)50上的負(fù)面影響。

依照實(shí)施例的一些形式，所述反相電路40是一個多脈沖整流 電路。在可能的實(shí)施方式中，所述反相電路40可以提供一個12個脈沖的調(diào)整，或者是12的倍數(shù)，即，例如24或36脈沖。

這允許相當(dāng)程度的降低不需要的高于基頻的諧波的貢獻(xiàn)，一般而言，50赫茲或60赫茲，造成效能的損失。甚者，高于基頻的諧波可以在所述電力網(wǎng)絡(luò)中產(chǎn)生干擾，進(jìn)而可能對其他連接到所述電力網(wǎng)絡(luò)的使用者應(yīng)用有損害。

依照實(shí)施例的一些形式，所述個別的供電相位次模塊34R,34S,34T的虛線中間是連接到彼此以及中性線N。在這種情況下，即使一相位次模塊34R,34S,34T不導(dǎo)通，可能在任何情況下有伴隨所述預(yù)期數(shù)量的脈沖的一調(diào)整。相反地，假如所述個別的供電相位次模塊34R,34S,34T的虛線中間沒有連接到彼此，如果他們其中之一不導(dǎo)通或者有故障，便會失去脈沖的來源。

依照實(shí)施例的一些形式，所述反相電路40包括復(fù)數(shù)從半導(dǎo)體、二極管、例如硅控整流器(SCR)、交流硅控閘流體(TRIAC)、雙向閘流體(GTO)、基體閘換向閘流體(IGCT)、金屬氧化半導(dǎo)體控制閘流體(MCT)的閘流體以及例如雙極接面晶體管(BJT)、金屬氧化物半導(dǎo)體場效晶體管(MOSFET)、絕緣閘雙極晶體管(IGBT)的晶體管之中選擇的裝置。

依照實(shí)施例的一些形式，一或多個模塊34針對每個相位R,S,T提供電力予所述直流矯正電路36、所述中間電路38以及所述反相電路40。

依照實(shí)施例的一些形式，可以提供以及并聯(lián)的設(shè)置用于每個 相位R,S,T的許多反相電路。

半導(dǎo)體裝置的使用允許在任何時刻去控制電流，即使非?？焖俚赝ㄟ^轉(zhuǎn)換所述裝置開啟以及關(guān)閉。

依照實(shí)施例的一些形式，沒有繪示于圖中，所述反相電路40可以提供對于瞬間干擾的保護(hù)，藉以保護(hù)所述半導(dǎo)體裝置以及因此保護(hù)所述反相電路40本身。

依照實(shí)施例的一些形式，每一個相位次模塊34R,34S,34T可以包括一直流矯正電路36以及四個單元，每個單元由一中間電路38以及一反相電路40組成。

依照實(shí)施例的一些形式，對于每一個所述模塊，所述直流矯正電路以及所述反相電路是相同的，為了去最小化需要提供的備品數(shù)量，使可能的替換以及維修容易。

甚者，對于所述電力網(wǎng)絡(luò)50，所述模塊34看來就像是平衡的三相負(fù)載。

依照實(shí)施例的一些形式(圖1)，被插入在介于所述電極62以及所述電力調(diào)節(jié)單元12之間的至少一偵測裝置是用于偵測所述電量，在這種情況下兩個偵測裝置，換句話說，個別地一電流偵測裝置20用于偵測所述電弧電流IA，以及用于供給所述電弧電力的一電壓偵測裝置用于偵測電弧電壓UA。

所述電流偵測裝置20可以例如是一安培計或一互感式安培計，設(shè)置用于偵測所述電弧電流IA的強(qiáng)度，即通過所述電力調(diào)節(jié)單元12提供給所述電極62的電流強(qiáng)度。所述電壓偵測裝置22可以是例如一伏特計或一互感式伏特計，設(shè)置用于偵測電壓差異，即， 所述電極62的電弧電壓UA，所述電弧電壓UA是依照所述電極62相對于所述用于融化的金屬塊的距離而定。

依照實(shí)施例的一些形式(圖1)，所述裝置10包括連接至所述電力調(diào)節(jié)單元12以及所述電力網(wǎng)絡(luò)50且設(shè)置用于計算被送至所述電力調(diào)節(jié)單元12用于決定在所述電爐60中的所述電弧的一穩(wěn)定狀態(tài)的至少一參考電流數(shù)值IR的一控制與命令單元16。

所述控制與命令單元16也可以設(shè)置用于計算所述電弧的強(qiáng)度的其他調(diào)整的一參考電壓UR，會在后續(xù)說明。

所述控制與命令單元16是設(shè)置用于至少在由所述外部電力網(wǎng)絡(luò)50在入口提供的所述供給電流Ii以及所述供給電壓Ui，以及通過所述偵測裝置20,22偵測的所述電弧電流IA以及所述電弧電壓UA的基準(zhǔn)上決定所述參考電流IR以及參考電壓UR的參考數(shù)值。

優(yōu)選地，所述控制與命令單元16調(diào)整所述電力調(diào)節(jié)單元12的功能因此所述電量(所述電弧電壓UA以及電弧電流IA)達(dá)到一振幅以及相對的相位偏移以保證所述電弧是維持的以及有降低損失到最小數(shù)值的一操作頻率。

依照圖1的解決方案，所述控制與命令單元16包括連接在所述電力網(wǎng)絡(luò)50以及所述電力調(diào)節(jié)單元12之間的一功率調(diào)整器27。

所述功率調(diào)整器27是設(shè)置用于計算所述參考電流IR、參考電壓UR以及所述波形的頻率。

一參考電源PR，例如一設(shè)定的功率，例如可以通過依使用 者被設(shè)定在所述功率調(diào)整器27中。

依照實(shí)施例的一些形式，所述操考電壓UR是以所述融化/工作步驟的一方程式計算而得，以及必然地所述參考電流IR被設(shè)定，用以追蹤所述參考電源PS。

依照實(shí)施例的一些形式，所述控制與命令單元16也可包括連接至所述功率調(diào)整器27、所述偵測裝置20,22且用于基于相對于所述電弧電流IA以及所述電弧電壓UA的入口參數(shù)，以決定所述電弧的數(shù)學(xué)模型，以及去決定最佳的功能狀態(tài)，以在所述保證所述電弧的穩(wěn)定度，以及基于所述參考電源PS去調(diào)整最佳可能的功率提供的一處理單元28。

依照一可能的實(shí)施方式，所述處理單元28可以設(shè)置用于計算出相對于所述電弧的最佳功能狀態(tài)的用于提供給所述功率調(diào)整器去決定所述參考電流IR以及所述參考電壓的至少一理想電流數(shù)值I0以及一理想電壓數(shù)值U0。

依照實(shí)施例的一些形式，在這種情況下，介在所述偵測裝置22,24分別的所述電弧電流IA以及所述電弧電壓UA以及所述控制與命令單元16之間，所述處理單元28可以提供信號調(diào)控組件30,32。每一個信號調(diào)控組件30,32被設(shè)置用于基于必須被考慮的一參考數(shù)值去放大以及穩(wěn)定有關(guān)所述電弧電流IA以及所述電弧電壓UA的所述信號。所述參考數(shù)值可以是平均數(shù)值、瞬間數(shù)值或?qū)嶋H數(shù)值。

每一個信號調(diào)控組件30,32允許在出口得到穩(wěn)定以及適合被 所述處理單元28處理的一個穩(wěn)定的電流數(shù)值以及一個穩(wěn)定的電壓數(shù)值IA’,UA’。

依照實(shí)施例的可能的變化形式，未圖標(biāo)，所述信號調(diào)控組件30,32可以被整合至所述控制與命令單元16中。

依照實(shí)施例的一些形式(圖1)，所述電力調(diào)節(jié)單元12包括介于所述控制與命令單元16以及所述轉(zhuǎn)換裝置18以及設(shè)置用于在入口處接收通過所述控制與命令單元16計算的所述參考電流數(shù)值IR一用于調(diào)節(jié)電流的裝置42。

依照實(shí)施例的可能形式，所述電流調(diào)節(jié)裝置42可以是允許去調(diào)節(jié)所述反相器的切換頻率以及使用帶寬以及可以允許降低所述設(shè)備損耗的一遲滯穩(wěn)壓器或一脈沖寬度調(diào)變(PWM)穩(wěn)壓器。所述電流調(diào)節(jié)裝置42特別用于決定必須要輸入至所述電極62的所述電弧電流IA的波形。

依照實(shí)施例的一些形式，所述電流調(diào)節(jié)裝置42可以決定所述轉(zhuǎn)換裝置18的一調(diào)整具有用于提供每個電極62具有相同波形的一單一電流調(diào)節(jié)。

依照實(shí)施例的一些形式繪示如圖1，所述電流調(diào)節(jié)裝置42也連接至所述信號調(diào)控組件30,32，用以在入口接收不只所述參考電流IR的數(shù)值還有所述穩(wěn)定的電流IA’以及所述穩(wěn)定的電壓UA’的所述放大的以及穩(wěn)定的數(shù)值，以及處理他們已決定一個被傳送至所述轉(zhuǎn)換裝置18的一控制信號。

依照可能的變量，所述電流調(diào)節(jié)裝置42可以決定所述轉(zhuǎn)換裝 置18的一調(diào)整具有用于提供每個電極62具有相同波形的一獨(dú)立的電流調(diào)節(jié)。

依照本發(fā)明的一個目的，所述裝置10包括設(shè)置用于移動所述至少一電極62靠近/遠(yuǎn)離用于融化的所述金屬塊，以這種方式去調(diào)節(jié)所述融化功率。

在所述電極62相對于所述金屬塊的位置的變化決定所述電弧的電壓的本質(zhì)，以及進(jìn)而所述電弧電壓UA的狀態(tài)式通過所述電壓偵測裝置22測量得知。

通過管理所述電極62的位置，也可能去實(shí)施在產(chǎn)生所述電弧以及提供所述融化功率的一控制。

依照實(shí)施例的一些可能形式，所述定位裝置46可以連接至一電極控制裝置44，用于控制所述電極的位置，以及因此操控所述定位裝置46，以便所述電弧是穩(wěn)定的。

所述電極控制裝置44式至少被連接至所述電壓偵測裝置22，用以管理所述電極62的位置。

依照實(shí)施例的一可能解決方案，所述電極控制裝置44也連接至所述控制與命令單元16，用于去操控所述定位裝置46以如同所述電弧電壓UA以及由所述控制與命令單元16計算的所述參考電壓UR兩者之一的方程式進(jìn)行作動。

優(yōu)選地，所述電極控制裝置44調(diào)整所述定位裝置46取得所述電弧電壓UA至所述參考電壓UR。

依照圖1的實(shí)施例的形式，所述電極控制裝置44可以連接至 所述調(diào)控組件32，已接收從關(guān)于所述電弧電壓UA的所述穩(wěn)定的電壓數(shù)值UA’以及當(dāng)作所述后者的一方程式以用于操控所述定位裝置46。

依照本發(fā)明的可能的實(shí)施方法，所述定位裝置46可以從一群組包括一機(jī)械制動器、一電力制動器、一氣動制動器、一水力制動器、一鉸接結(jié)構(gòu)、一機(jī)械結(jié)構(gòu)、相似以及適合相比的組件或一個上述中可能的組合的至少一種被選擇出來。

依照實(shí)施例的可能變化的形式，未圖示，所述電極控制裝置44可以整合至所述控制與命令單元16中。

依照實(shí)施例的一些形式，所述控制與命令單元16在入口接收所述供給電流Ii、所述供給電壓Ui、所述電弧電流IA、所述電弧電壓UA以及可能的所述參考電壓值PS的數(shù)值。

所述控制與命令單元16處理接收的數(shù)據(jù)以及決定參考電流IR以及參考電壓UR的數(shù)值，進(jìn)而個別傳送至所述電力調(diào)節(jié)單元12以及所述電壓調(diào)節(jié)單元14。

既然如此，所述控制與命令單元16執(zhí)行回饋供應(yīng)電力給所述電極62的所述電弧電流IA以及所述電弧電壓UA兩者的一控制，進(jìn)而允許對其相對所述理想電流數(shù)值I0以及所述理想電壓數(shù)值U0進(jìn)行補(bǔ)償可能的偏差。

依照實(shí)施例的一些形式，此外，所述控制與命令單元16比較所述設(shè)定的功率數(shù)值PS與所述實(shí)際供給電流Ii、所述供給電壓Ui、所述電弧電流IA以及所述電弧電壓UA，計算所述參考電流IR、 所述參考電壓UR以及兩者波形的頻率，用以優(yōu)化對所述電極62的供電。

既然如此，所述參考電流IR以及所述參考電壓UR的數(shù)值可以被獨(dú)立的使用，以個別實(shí)施通過作動在所述電力調(diào)節(jié)單元12以實(shí)施所述電弧的一第一控制，以及通過作動在所述定位裝置46以實(shí)施所述電弧的一第二控制。

優(yōu)選地，所述第一控制可以實(shí)施于補(bǔ)償所述電弧的所述電流的意外的變動進(jìn)而避免對于電子組件可能的損害，然而所述第二控制允許在一較低的頻率下去調(diào)整所述電弧，隨著時間推移，在所述電弧電壓上補(bǔ)償?shù)淖兓侵饾u以及可預(yù)測的，基于標(biāo)準(zhǔn)功能狀態(tài)下決定范例。

此雙重控制允許解決負(fù)載的不穩(wěn)定的問題，尤其是在一開始的啟動階段，當(dāng)負(fù)載是永遠(yuǎn)不平衡的，簡化所述電弧的維護(hù)以及允許去補(bǔ)償無法在事前被預(yù)知的不標(biāo)準(zhǔn)功能狀態(tài)。

此解決方案也避免所述電弧爐60的墻壁的損害，例如，因為溫度差異造成的短路，會隨著所述電極62被插入的時間會降低其耐用度。這允許降低必須被實(shí)施在所述裝置10以及所述電弧爐60的維護(hù)的頻率。

顯而易見地，組件的修改及/或添加可以被施加制所述裝置以及方法如同到此的描述，在不脫離本發(fā)明的領(lǐng)域和范圍。

同樣顯而易見地，雖然本發(fā)明已經(jīng)被通過伴隨一些特定的范例進(jìn)行描述，對于熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員，在前述的申請專利范圍的技術(shù)特征下，必然可以完成許多其他同等形式的裝置以 及方法，這些也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。