Rf脈沖發(fā)生與rf計(jì)量、處理和控制的同步的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本公開(kāi)涉及等離子體腔，并且涉及射頻(RF)測(cè)量系統(tǒng)和方法。
【背景技術(shù)】
[0002]這里提供的背景描述用于概括地呈現(xiàn)本公開(kāi)的背景。本發(fā)明中提到的發(fā)明人的工作(就在本【背景技術(shù)】部分中描述的其范圍而言)以及在提交時(shí)可能不視作現(xiàn)有技術(shù)的本說(shuō)明書(shū)的方面，不隱含地也不明確地被認(rèn)為是本公開(kāi)的現(xiàn)有技術(shù)。
[0003]射頻(RF)發(fā)生器接收交流(AC)輸入功率，并且生成RF輸出?？梢詫⒃揜F輸出施加至例如等離子體腔的等離子體電極。等離子體腔可以在薄膜制造系統(tǒng)和其它類型的系統(tǒng)中使用。
[0004]在一些情況下，等離子體腔可以包括多個(gè)等離子體電極。僅作為示例，在正處理的表面面積大于單個(gè)等離子體電極能夠服務(wù)的面積的情況下，可以實(shí)現(xiàn)一個(gè)以上的等離子體電極。
[0005]因此，在一些情況下可以使用多個(gè)RF發(fā)生器。RF發(fā)生器中的每個(gè)生成RF輸出，并且將該RF輸出施加至多個(gè)等離子體電極中的一個(gè)。為了生成相同的RF輸出，這些RF發(fā)生器可以電連接。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]在第一特征中，公開(kāi)一種射頻(RF)系統(tǒng)。所述RF系統(tǒng)包括RF傳感器、模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換器(ADC)模塊、處理模塊以及同步模塊。所述RF傳感器測(cè)量RF輸出的參數(shù)，并且基于所述參數(shù)來(lái)生成RF信號(hào)。所述ADC模塊將所述RF信號(hào)的樣本轉(zhuǎn)換為數(shù)字值。所述處理模塊基于所述數(shù)字值，生成處理過(guò)的值。所述同步模塊響應(yīng)于所述RF輸出中的轉(zhuǎn)變，輸出所述處理過(guò)的值中之一。
[0007]在進(jìn)一步的特征中，所述RF系統(tǒng)進(jìn)一步包括:驅(qū)動(dòng)器，生成所述RF輸出；供電模塊，基于軌電壓設(shè)定點(diǎn)而向所述驅(qū)動(dòng)器施加軌電壓；驅(qū)動(dòng)器控制模塊，基于驅(qū)動(dòng)器控制設(shè)定點(diǎn)來(lái)驅(qū)動(dòng)所述驅(qū)動(dòng)器；以及輸出控制模塊，基于所述處理過(guò)的值中的所述之一，選擇性地調(diào)整所述軌電壓設(shè)定點(diǎn)和所述驅(qū)動(dòng)器控制設(shè)定點(diǎn)中的至少一個(gè)。
[0008]在再進(jìn)一步的特征中，所述ADC模塊以第一預(yù)定頻率采樣所述RF信號(hào)。
[0009]在又進(jìn)一步的特征中，所述輸出控制模塊以第二預(yù)定頻率選擇性地更新所述軌電壓設(shè)定點(diǎn)和所述驅(qū)動(dòng)器控制設(shè)定點(diǎn)。所述第二預(yù)定頻率小于所述第一預(yù)定頻率。
[0010]在進(jìn)一步的特征中，所述同步模塊響應(yīng)于所述RF信號(hào)的大于預(yù)定值的升高，輸出所述處理過(guò)的值中的所述之一。
[0011]在再進(jìn)一步的特征中，所述同步模塊響應(yīng)于所述RF信號(hào)的大于預(yù)定值的降低，輸出所述處理過(guò)的值中的所述之一。
[0012]在又進(jìn)一步的特征中，所述同步模塊響應(yīng)于所述軌電壓的大于預(yù)定值的升高和降低之一，輸出所述處理過(guò)的值中的所述之一。
[0013]在進(jìn)一步的特征中，所述同步模塊響應(yīng)于所述驅(qū)動(dòng)器控制模塊的輸出的大于預(yù)定值的升高和降低之一，輸出所述處理過(guò)的值中的所述之一。
[0014]在再進(jìn)一步的特征中:所述RF傳感器進(jìn)一步測(cè)量所述RF輸出的第二參數(shù)，并且基于所述第二參數(shù)生成第二 RF信號(hào)；所述RF系統(tǒng)進(jìn)一步包括第二 ADC模塊，所述的第二 ADC模塊將所述第二 RF信號(hào)的樣本轉(zhuǎn)換為第二數(shù)字值；所述處理模塊基于所述第二數(shù)字值來(lái)生成第二處理過(guò)的值；所述同步模塊響應(yīng)于所述RF輸出中的轉(zhuǎn)變，輸出所述第二處理過(guò)的值中之一；并且所述輸出控制模塊進(jìn)一步基于所述第二處理過(guò)的值中的所述之一，選擇性地調(diào)整所述軌電壓設(shè)定點(diǎn)和所述驅(qū)動(dòng)器控制設(shè)定點(diǎn)中的至少一個(gè)。
[0015]在再進(jìn)一步的特征中，等離子體腔系統(tǒng)包括:所述RF系統(tǒng)；濾波器，所述濾波器對(duì)所述RF輸出進(jìn)行濾波；以及等離子體電極，所述等離子體電極接收經(jīng)濾波的RF輸出。
[0016]在第二特征中，公開(kāi)一種射頻(RF)控制方法。所述RF控制方法包括:使用RF傳感器來(lái)測(cè)量RF輸出的參數(shù)；使用所述RF傳感器來(lái)基于所述參數(shù)生成RF信號(hào)；將所述RF信號(hào)的樣本轉(zhuǎn)換為數(shù)字值；基于所述數(shù)字值，生成處理過(guò)的值；以及響應(yīng)于所述RF輸出中的轉(zhuǎn)變，輸出所述處理過(guò)的值中之一。
[0017]在再進(jìn)一步的特征中，所述RF控制方法進(jìn)一步包括:使用驅(qū)動(dòng)器來(lái)生成所述RF輸出；基于軌電壓設(shè)定點(diǎn)，向所述驅(qū)動(dòng)器施加軌電壓；基于驅(qū)動(dòng)器控制設(shè)定點(diǎn)，驅(qū)動(dòng)所述驅(qū)動(dòng)器；并且，基于所述處理過(guò)的值中的所述之一，選擇性地調(diào)整所述軌電壓設(shè)定點(diǎn)和所述驅(qū)動(dòng)器控制設(shè)定點(diǎn)中的至少一個(gè)。
[0018]在又進(jìn)一步的特征中，所述RF控制方法進(jìn)一步包括:以第一預(yù)定頻率采樣所述RF信號(hào)。
[0019]在進(jìn)一步的特征中，所述RF控制方法進(jìn)一步包括:以第二預(yù)定頻率選擇性地更新所述軌電壓設(shè)定點(diǎn)和所述驅(qū)動(dòng)器控制設(shè)定點(diǎn)。所述第二預(yù)定頻率小于所述第一預(yù)定頻率。
[0020]在又進(jìn)一步的特征中，所述RF控制方法進(jìn)一步包括:響應(yīng)于所述RF信號(hào)的大于預(yù)定值的升高，輸出所述處理過(guò)的值中的所述之一。
[0021]在進(jìn)一步的特征中，所述RF控制方法進(jìn)一步包括:響應(yīng)于所述RF信號(hào)的大于預(yù)定值的降低，輸出所述處理過(guò)的值中的所述之一。
[0022]在再進(jìn)一步的特征中，所述RF控制方法進(jìn)一步包括:響應(yīng)于所述軌電壓的大于預(yù)定值的升高和降低之一，輸出所述處理過(guò)的值中的所述之一。
[0023]在又進(jìn)一步的特征中，所述RF控制方法進(jìn)一步包括:響應(yīng)于所述驅(qū)動(dòng)器的輸入的大于預(yù)定值的升高和降低之一，輸出所述處理過(guò)的值中的所述之一。
[0024]在進(jìn)一步的特征中，所述RF控制方法進(jìn)一步包括:使用所述RF傳感器來(lái)測(cè)量所述RF輸出的第二參數(shù)；使用所述RF傳感器來(lái)基于所述第二參數(shù)生成第二 RF信號(hào)；將所述第二 RF信號(hào)的樣本轉(zhuǎn)換為第二數(shù)字值；基于所述第二數(shù)字值來(lái)生成第二處理過(guò)的值；響應(yīng)于所述RF輸出中的轉(zhuǎn)變，輸出所述第二處理過(guò)的值中之一；以及進(jìn)一步基于所述第二處理過(guò)的值中的所述之一，選擇性地調(diào)整所述軌電壓設(shè)定點(diǎn)和所述驅(qū)動(dòng)器控制設(shè)定點(diǎn)中的至少一個(gè)。
[0025]在第三特征中，公開(kāi)一種射頻(RF)系統(tǒng)。RF傳感器測(cè)量RF輸出的參數(shù)，并且基于所述參數(shù)來(lái)生成RF信號(hào)。模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換器(ADC)模塊將所述RF信號(hào)的樣本轉(zhuǎn)換為數(shù)字值。同步模塊響應(yīng)于所述RF輸出中的轉(zhuǎn)變，輸出所述數(shù)字值中之一。處理模塊基于所述數(shù)字值中的所述之一，生成處理過(guò)的值。
[0026]在進(jìn)一步的特征中，所述RF系統(tǒng)進(jìn)一步包括:驅(qū)動(dòng)器，所述驅(qū)動(dòng)器生成所述RF輸出；供電模塊，所述供電模塊基于軌電壓設(shè)定點(diǎn)，向所述驅(qū)動(dòng)器施加軌電壓；驅(qū)動(dòng)器控制模±夬，所述驅(qū)動(dòng)器控制模塊基于驅(qū)動(dòng)器控制設(shè)定點(diǎn)來(lái)驅(qū)動(dòng)所述驅(qū)動(dòng)器；以及輸出控制模塊，所述輸出控制模塊基于所述處理過(guò)的值，選擇性地調(diào)整所述軌電壓設(shè)定點(diǎn)和所述驅(qū)動(dòng)器控制設(shè)定點(diǎn)中的至少一個(gè)。
[0027]在再進(jìn)一步的特征中，所述ADC模塊以第一預(yù)定頻率采樣所述RF信號(hào)。
[0028]在又進(jìn)一步的特征中，所述輸出控制模塊以第二預(yù)定頻率選擇性地更新所述軌電壓設(shè)定點(diǎn)和所述驅(qū)動(dòng)器控制設(shè)定點(diǎn)。所述第二預(yù)定頻率小于所述第一預(yù)定頻率。
[0029]在進(jìn)一步的特征中，所述同步模塊響應(yīng)于所述RF信號(hào)的大于預(yù)定值的升高，輸出所述數(shù)字值中的所述之一。
[0030]在又進(jìn)一步的特征中，所述同步模塊響應(yīng)于所述RF信號(hào)的大于預(yù)定值的降低，輸出所述數(shù)字值中的所述之一。
[0031]在再進(jìn)一步的特征中，所述同步模塊響應(yīng)于所述軌電壓的大于預(yù)定值的升高和降低之一，輸出所述數(shù)字值中的所述之一。
[0032]在進(jìn)一步的特征中，所述同步模塊響應(yīng)于所述驅(qū)動(dòng)器控制模塊的輸出的大于預(yù)定值的升高和降低之一，輸出所述數(shù)字值中的所述之一。
[0033]在又進(jìn)一步的特征中:所述RF傳感器進(jìn)一步測(cè)量所述RF輸出的第二參數(shù)，并且基于所述第二參數(shù)，生成第二 RF信號(hào)；所述RF系統(tǒng)進(jìn)一步包括第二 ADC模塊，所述第二 ADC模塊將所述第二 RF信號(hào)的樣本轉(zhuǎn)換為第二數(shù)字值；所述同步模塊響應(yīng)于所述RF輸出中的轉(zhuǎn)變，輸出所述第二數(shù)字值中之一；所述處理模塊基于所述第二數(shù)字值中的所述之一，生成第二處理過(guò)的值；以及所述輸出控制模塊進(jìn)一步基于所述第二數(shù)字值中的所述之一，選擇性地調(diào)整所述軌電壓設(shè)定點(diǎn)和所述驅(qū)動(dòng)器控制設(shè)定點(diǎn)中的至少一個(gè)。
[0034]在再進(jìn)一步的特征中，等離子體腔系統(tǒng)包括:所述RF系統(tǒng)；濾波器，所述濾波器對(duì)所述RF輸出進(jìn)行濾波；以及等離子體電極，所述等離子體電極接收經(jīng)濾波的RF輸出。
[0035]在第四特征中，公開(kāi)一種射頻(RF)控制方法。所述RF控制方法包括:使用RF傳感器來(lái)測(cè)量RF輸出的參數(shù)；使用所述RF傳感器來(lái)基于所述參數(shù)生成RF信號(hào)；將所述RF信號(hào)的樣本轉(zhuǎn)換為數(shù)字值；響應(yīng)于所述RF輸出中的轉(zhuǎn)變，輸出所述數(shù)字值中之一；以及基于所述數(shù)字值中的所述之一，生成處理過(guò)的值。
[0036]在進(jìn)一步的特征中，所述RF控制方法進(jìn)一步包括:使用驅(qū)動(dòng)器來(lái)生成RF輸出；基于軌電壓設(shè)定點(diǎn)，向所述驅(qū)動(dòng)器施加軌電壓；基于驅(qū)動(dòng)器控制設(shè)定點(diǎn)，驅(qū)動(dòng)所述驅(qū)動(dòng)器；以及基于所述處理過(guò)的值，選擇性地調(diào)整所述軌電壓設(shè)定點(diǎn)和所述驅(qū)動(dòng)器控制設(shè)定點(diǎn)中的至少一個(gè)。
[0037]在再進(jìn)一步的特征中，所述RF控制方法進(jìn)一步包括:以第一預(yù)定頻率采樣所述RF信號(hào)。
[0038]在又進(jìn)一步的特征中，所述RF控制方法進(jìn)一步包括:以第二預(yù)定頻率選擇性地更新所述軌電壓設(shè)定點(diǎn)和所述驅(qū)動(dòng)器控制設(shè)定點(diǎn)。所述第二預(yù)定頻率小于所述第一預(yù)定頻率。
[0039]在進(jìn)一步的特征中，所述RF控制方法進(jìn)一步包括:響應(yīng)于所述RF信號(hào)的大于預(yù)定值的升高，輸出所述數(shù)字值中的所述之一。
[0040]在再進(jìn)一步的特征中，所述RF控制方法進(jìn)一步包括:響應(yīng)于所